一种基于电光法珀腔的相位编码信号生成装置

    公开(公告)号:CN106093879A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610416164.1

    申请日:2016-06-08

    IPC分类号: G01S7/282

    CPC分类号: G01S7/282

    摘要: 一种基于电光法珀腔的相位编码信号生成装置,属于光电子学相位编码技术领域。所述装置包括:相位调制器,用于将电信号通过调制载波进行双边带调制;电光波导法珀腔,用于通过方波控制信号对双边带调制后的信号进行失谐滤波处理,以选择载波和上边带信号通过,或选择载波和下边带信号通过;探测器,用于将探测到的所述载波和上边带信号、或所述载波和下边带信号进行光电转换得到相位编码信号。本发明通过方波控制信号对双边带调制后的信号进行失谐滤波处理可以实现对信号的快速选择,以便快速的生成相位编码信号,且生成的编码信号编码速率快,另外,由于结构简单降低了生成相位编码信号的成本和能耗。

    一种基于分光成像法的电弧瞬态温度场测试系统

    公开(公告)号:CN105973498A

    公开(公告)日:2016-09-28

    申请号:CN201610444107.4

    申请日:2016-06-20

    IPC分类号: G01K11/00

    CPC分类号: G01K11/00

    摘要: 一种基于分光成像法的电弧瞬态温度场测试系统,属于电弧温度场测试领域。它解决了现有的电弧温度场测试方法不适用于测试开关电器分断电弧的温度场或者获得的温度场准确度低的问题。物镜用于放大电弧光,双面反光棱镜的两个侧面均为反射面,经物镜出射的一部分电弧光经过双面反光棱镜的一个反射面的反射、第一平面反光镜的反射和第一窄带滤光片的透射后,入射至感光元件的一部分感光面,经物镜出射的另一部分电弧光经过双面反光棱镜的另一个反射面的反射、第二平面反光镜的反射和第二窄带滤光片的透射后,入射至感光元件的另一部分感光面,入射至感光元件的两束电弧光的光程相同,感光元件与计算机连接。本发明适用于测试电弧瞬态温度场。

    基于量子偏振的多维信息探测装置及多维信息探测方法

    公开(公告)号:CN105182351A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201510604034.6

    申请日:2015-09-21

    IPC分类号: G01S17/02

    CPC分类号: G01S17/02

    摘要: 基于量子偏振的多维信息探测装置及多维信息探测方法,属于激光雷达技术领域,本发明为解决现有目标识别领域中远距离微弱信号回波遇到灵敏度极限的问题。本发明同步控制模块产生同步信号驱动激光器产生脉冲信号,同时将同步信号输出至偏振态编码器进行水平、垂直、对角和反对角伪随机脉冲序列调制,调制后经过发射光学器准直扩束照射目标,回波信号入射至接收光学器,然后通过三个分光器将回波信号分为四路信号,分别经过一个单光子探测器Gm-APD;同步信号处理器根据四个单光子探测器Gm-APD探测的脉冲信号获得回波脉冲序列,根据回波脉冲序列和同步信号获得目标距离、强度和偏振的多维信息。本发明用于激光雷达远距离微弱信号的探测。

    消除测量基准安装误差的超精密静压主轴动态特性在线检测方法

    公开(公告)号:CN103341788B

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201310268014.7

    申请日:2013-06-28

    IPC分类号: B23Q17/00 G01M13/02

    摘要: 消除测量基准安装误差的超精密静压主轴动态特性在线检测方法,涉及静压主轴动态特性检测领域。解决了现有方法不能实现超精密静压主轴动态特性在线检测或现有方法测量基准面的安装精度对测量结果影响较为严重的问题。在直驱式超精密静压主轴转子的后端加工锥形安装基准面,将标准球直接安装在锥形基准面上作为测量基准,采用两个高精度位移传感器测量主轴旋转时标准球与两个高精度位移传感器之间的位移变化,通过传感器信号放大与数据采集系统将测得的位移变化量转换成数字信号后送入计算机进行数据分析与处理,实现超精密直驱式静压主轴动态特性的在线测量,由于采用两通道同时测量,同时实现主轴的轴向窜动和径向偏摆特性的检测。

    基准平面式超精密直驱式静压主轴动态性能在线测试方法

    公开(公告)号:CN103344425B

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201310268146.X

    申请日:2013-06-28

    IPC分类号: G01M13/00

    摘要: 基准平面式超精密直驱式静压主轴动态性能在线测试方法,涉及静压主轴性能测试领域。本发明是为解决现有方法不能实现超精密静压主轴动态性能在线测试的问题。本发明方法如下:在直驱式超精密静压主轴转子的上端部安装高精度标准平面作为测量基准,采用高精度位移传感器测量主轴旋转时标准平面与高精度位移传感器之间的位移变化,通过传感器信号放大与数据采集系统将测得的位移变化量转换成数字信号后送入计算机进行数据分析与处理,从而实现超精密直驱式主轴动态性能的在线测量。本发明可以实现对处于实际加工状态下的超精密静压主轴的动态性能进行实时在线测量,不影响超精密机床的加工过程。

    玻璃瓶瓶底防滑区污物检测新方法

    公开(公告)号:CN102213681B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201110080803.9

    申请日:2011-04-01

    IPC分类号: G01N21/958 G06T7/00

    摘要: 本发明涉及玻璃瓶瓶底防滑区污物检测新方法,其包括如下步骤:对获取的瓶底图片的中心圆区域进行定位,确定瓶底防滑区域,并确定防滑区的像素,对防滑区进行开、闭运算并将防滑区分成小区,处理后的每一小区采用OSTU方法求出各个小区的阈值,根据得到的各个小区的最终阈值,对各小区分别二值化即可得到防滑区最终的处理图像,将防滑区处理得到的图像,对像素值为0的点进行统计求和,设定阈值,当统计求和得到的值比阈值大,即可判定防滑区有污物或缺陷,否则通过检测。

    多脉冲门延迟距离选通激光成像雷达

    公开(公告)号:CN102176024A

    公开(公告)日:2011-09-07

    申请号:CN201110042399.6

    申请日:2011-02-22

    IPC分类号: G01S17/89 G01S7/481

    摘要: 多脉冲门延迟距离选通激光成像雷达,属于激光雷达技术领域。它解决了现有距离选通激光成像雷达的距离分辨率低的问题。它将时钟信号源的时钟信号输出给同步脉冲控制电路,同步脉冲控制电路发出驱动脉冲信号给脉冲调制激光器,同时同步脉冲控制电路的延迟信号发送给控制系统,当控制系统发送给距离门延迟电路延迟信号后,控制系统会将此时同步脉冲控制电路发出的驱动脉冲信号序数发送给图像编码系统,使图像编码系统将当前接收到的光信号图像按相同的序数进行编号,光信号图像通过ICCD探测器进行采集,采用光学发射天线和光学接收天线分别发射激光和接收目标的激光回波脉冲信号。本发明适用于目标的距离探测。

    含I型中心裂纹对接接头实现等承载的对接接头设计方法

    公开(公告)号:CN102163243A

    公开(公告)日:2011-08-24

    申请号:CN201010615818.6

    申请日:2010-12-30

    IPC分类号: G06F17/50

    摘要: 含I型中心裂纹对接接头实现等承载的对接接头设计方法,属于焊接技术领域,解决了含I型中心裂纹对接接头承载能力低于母材的问题。对于焊缝含I型中心裂纹同时母材也存在裂纹的对接接头,主要步骤为:计算接头断裂韧度匹配比、求得母材区的应力强度因子、确定满足母材与焊缝区都存在裂纹时的等承载的焊缝区的应力强度因子、求出含I型中心裂纹对接接头的K因子公式、获得所需的焊缝几何参数值。对于焊缝含中心裂纹而母材无缺陷的对接接头,主要步骤为:测量母材金属的抗拉强度以及焊缝熔敷金属的断裂韧度、求出含I型中心裂纹对接接头的K因子公式、确定等承载的接头几何参数满足的条件、获得所需的焊缝几何参数值。本发明适用于双面施焊的平板对接接头。

    ICCD增益调频连续波调制无扫描距离成像器

    公开(公告)号:CN101498786A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200910071450.9

    申请日:2009-02-27

    IPC分类号: G01S7/295 G01S13/08

    摘要: ICCD增益调频连续波调制无扫描距离成像器,属于光电成像领域。本发明的目的是解决目前基于自混频探测器的无扫描FM/CW装置获取目标距离像的性能不稳定、难以应用的问题。半导体激光器发射出的激光光束经发射光学整形系统整形后照射到目标上,经目标反射后的激光光束被接收光学系统接收、汇聚至ICCD面阵探测器形成回波信号,调频连续波函数发生器发出的激光经高压调制电源与ICCD面阵探测器相连形成ICCD调制信号,ICCD调制信号与回波信号进行混频后,并由控制处理器进行傅立叶变换处理,获得与目标的距离。用于光学领域激光测距。

    纳米胶体射流抛光装置
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101434055A

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200810209767.X

    申请日:2008-12-24

    IPC分类号: B24C5/00 B24B29/00

    摘要: 纳米胶体射流抛光装置,它涉及一种射流抛光装置。本发明解决了现有的纳米胶体射流抛光过程中存在的纳米胶体易被污染、纳米胶体的喷射能量难以控制、自由基-羟基与工件表面原子的化学吸附难以实现、胶体中纳米颗粒与工件表面原子发生的可逆聚合分解反应难以保证和工件表面的纳米颗粒及工件表面原子无法利用流体黏附作用移除的问题。本发明的第一柔性密封囊安装在第一高压容器内,第四管路的下端与第一柔性密封囊的上端连通,第四管路的上端与第一两位三通控制阀连通,封闭的纳米胶体容器与第一两位三通控制阀连通,蠕动泵安装在第五管路上。本发明实现了压力油与纳米胶体的独立循环,喷射能量得到控制,移除了工件表面的纳米颗粒及工件表面原子。