-
公开(公告)号：CN101414128A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810166464.4
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
-
公开(公告)号：CN101414126A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810166461.0
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
-
公开(公告)号：CN101414124A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810166459.3
申请日：2003-10-30
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
-
公开(公告)号：CN100354757C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200410056333.2
申请日：2004-08-06
申请人： 佳能株式会社 , 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/304
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/304 , H01J37/317
摘要： 提供一种带电粒子束曝光装置和方法以及使用该装置的器件制造方法。该带电粒子束曝光装置使用多条带电粒子束对基板进行曝光，包括：计测上述多条带电粒子束的总电流值的第1计测单元；以及第2计测单元，包含与上述多条带电粒子束的各带电粒子束对应地配置的、把对应的各带电粒子束的电子进行倍增而计测上述各带电粒子束的电流相对值的多个检测器。
-
公开(公告)号：CN1602451A
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN02824637.3
申请日：2002-11-07
申请人： 应用材料有限公司
发明人： 吉拉德·艾茂基
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70275 , G03F7/70375 , H01J37/073 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/1205 , H01J2237/31779
摘要： 本发明提供了一种高分辨率、高数据速率点格栅阵列光刻机系统，其中通过利用电子束扫描衬底形成表示待记录到初缩掩膜版或半导体晶片层上的图形的图像。实施例包括光刻机，该光刻机包括利用基本平行的光束照射光子电子变换器的光辐射源，单独调制该光束以对应于要记录到衬底上的图像。光子电子变换器产生由对应于调制光束的电子束阵列构成的中间图像。缩微器插在光子电子变换器与衬底之间，用于减小中间图像的大小。可运动工作台在衬底与光子电子变换器之间实现相对运动，以致利用电子束扫描衬底。
-
公开(公告)号：CN1580955A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN200410056333.2
申请日：2004-08-06
申请人： 佳能株式会社 , 株式会社日立高新技术
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/304 , H01J37/317
摘要： 提供一种带电粒子束曝光装置和方法以及使用该装置的器件制造方法。该带电粒子束曝光装置包括：使多条带电粒子束直接入射，计测其总电流的法拉第杯；以及具有使各带电粒子束直接入射、对入射电子进行倍增的功能，计测各带电粒子的电流的相对值的多检测器。
-
公开(公告)号：CN1351756A
公开(公告)日：2002-05-29
申请号：CN00807867.X
申请日：2000-03-29
申请人： UT-巴特勒有限责任公司
发明人： 克拉伦斯·E·托马斯 , 拉里·R·贝勒 , 埃德加·沃尔克 , 道格拉斯·H·朗兹 , 迈克尔·J·鲍鲁斯
IPC分类号： H01J3/02 , H01J37/065 , G03F7/20
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , H01J3/021 , H01J37/073 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/0635 , H01J2237/31786
摘要： 描述了可寻址场发射阵列(AFEA)芯片的系统和方法。可寻址场发射阵列的操作方法包括:从构成可寻址场发射阵列的多个发射体上产生多个电子束;利用芯片上的静电聚焦组件将多个电子束中的至少一个电子束聚焦。该系统和方法提供了包括避免空间电荷爆炸的优点。
-
公开(公告)号：CN105874559B
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201480071804.9
申请日：2014-11-14
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/065 , H01J37/12
CPC分类号： G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
摘要： 本发明涉及一种准直器电极堆叠(70)，其包括：至少三个准直器电极(71‑80)，其用于准直沿着光轴(A)的带电粒子束(54)，其中每个准直器电极包括具有电极孔的电极主体，电极孔用于允许带电粒子束通过，其中电极主体沿着与光轴基本上平行的轴向方向(Z)间隔开，并且其中电极孔沿着所述光轴同轴地对准；以及多个间隔结构(89)，其被设置在每一对相邻准直器电极之间并且由电绝缘材料制成，多个间隔结构(89)用于沿着所述轴向方向以预定距离来定位准直器电极。准直器电极(71‑80)中的每一个电连接至单独的电压输出端(151‑160)。本发明还涉及一种操作带电粒子束产生器的方法。
-
公开(公告)号：CN106569396B
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201610901826.4
申请日：2012-09-12
申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： J·J·M·佩斯特
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/58 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , H01J37/20 , H01J37/3177 , H01J2237/0266 , H01J2237/16 , H01J2237/2006 , H01J2237/20221 , H01J2237/20285 , H02K41/02
摘要： 一种目标定位装置，其包括用于承载目标的载体，以及用于承载载体并沿着第一方向(X)移动该载体的支撑台。该支撑台包括两个X‑支撑台基座，二者皆布置在公共基板的顶部上，每一个X‑支撑台基座承载一X‑支撑台托架，以及一Y‑梁，所述Y‑梁包括用以承载所述载体并移动该载体在第二方向(Y)上的Y‑支撑台。所述Y‑梁跨接该X‑支撑台托架之间的空间并经由一柔性连接器而被连接到该X‑支撑台托架上。该装置还包括两个电机，每一个用以沿着相应的X‑支撑台基座驱动相应的X‑支撑台托架。该两个电机至少大致被设置在该支撑台下方。
-
公开(公告)号：CN107431037A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201580078094.7
申请日：2015-09-18
申请人： 英特尔公司
发明人： Y·A·波罗多维斯基
IPC分类号： H01L21/68 , H01L23/544 , H01J37/317 , G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： H01J37/3045 , H01J37/045 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0453 , H01J2237/24475 , H01J2237/24578 , H01J2237/2817 , H01L21/0277 , H01L21/0337 , H01L21/31144 , H01L23/544 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2223/54473 , H01L21/682 , G03F7/2059 , G03F9/7003
摘要： 描述了适用于互补型电子束光刻(CEBL)的光刻装置以及涉及互补型电子束光刻(CEBL)的方法。在示例中，电子束工具的精密对准的方法包括：在沿着Y移动晶圆时，在晶圆的X方向对准特征上投射电子束列的多个孔径的电子图像。该方法还包括：在投射期间检测时间分辨的背散射电子(BSE)检测响应波形。该方法还包括：通过计算BSE检测响应波形的导数来确定X方向对准特征的每个特征的每个边缘的X位置。该方法还包括：在确定X方向对准特征的每个特征的每个边缘的X位置之后，调整电子束列与晶圆的对准。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
191 条记录 (耗时 0.016 秒)
