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公开(公告)号：CN107002223B
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201480083861.9
申请日：2014-12-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 奥利弗·海默尔 , 迪特尔·哈斯
Abstract: 描述一种用于将材料沉积在基板(121)上的真空沉积系统(300；400；500)。真空沉积系统(300；400；500)包括：真空腔室(110)，真空腔室(110)具有腔室容积；以及材料沉积布置(100)，材料沉积布置(100)用于提供将沉积的材料，材料沉积布置(100)在沉积期间位于真空腔室(110)中。真空沉积系统进一步包括基板支撑件(126；600)，基板支撑件(126；600)用于在真空腔室(110)中支撑基板(121)，基板具有基板尺寸。腔室容积对基板尺寸比是15m或更少。另外，描述一种用于在真空沉积系统(300；400；500)中将材料沉积在基板(121)上的方法。
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公开(公告)号：CN110199050A
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201780000734.1
申请日：2017-01-31
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容描述了用于在真空沉积腔室中的基板上沉积材料的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置包括至少一个材料沉积源，所述至少一个材料沉积源具有：坩埚(110)，所述坩埚(110)被配置成蒸发材料；分配组件(120)，所述分配组件(120)连接至坩埚，其中分配组件被配置成向基板提供蒸发材料；和阀(130)，所述阀(130)被配置成控制蒸发材料从坩埚(110)流动到分配组件(120)。
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公开(公告)号：CN109715846A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201680089397.3
申请日：2016-12-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迪特尔·哈斯 , 尤韦·施尤比勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特
Abstract: 根据本公开内容，提供一种用于在由载体支撑的基板上沉积一个或多个层的处理系统(100)。处理系统包括：装载锁定腔室(110)，用于装载基板；路由模块(410)，用于输送基板；第一真空摆动模块(131)；和处理模块(510)，包括沉积源，沉积源用于沉积材料；维修模块(610)；卸载锁定腔室(116)，用于卸载基板；另外的路由模块(412)；掩模载体匣(320)，经配置以用于存储和输送在处理系统的操作期间应用的掩模；另外的真空摆动模块(132)；和输送系统(710)，经配置以用于在第一真空摆动模块(131)与另外的真空摆动模块(132)之间输送载体。
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公开(公告)号：CN109477201A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780037647.3
申请日：2017-07-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·雷纳·舒尔特海斯 , 德烈亚斯·勒普 , 沃尔夫冈·布什贝克 , 于尔根·亨里奇 , 斯蒂芬·班格特
IPC: C23C14/04 , H01L21/683
Abstract: 本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)或掩模的设备(100)。所述设备(100)包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极，可连接到第一电源组件(230)；和一个或多个第三电极，布置在所述一个或多个第一电极与所述一个或多个第二电极之间并且可连接到第二电源组件(240)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107810410A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201580080972.9
申请日：2015-06-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 卡尔·阿尔伯特·凯姆 , 斯蒂芬·班格特 , 海克·兰特格雷夫
IPC: G01N29/02 , G01N29/036 , C23C14/24 , C23C14/54
CPC classification number: C23C14/546 , C23C14/243 , G01N29/022 , G01N29/036 , G01N2291/014 , G01N2291/0256
Abstract: 描述一种用于测量已蒸发材料的沉积速率的测量组件(100)。测量组件(100)包括用于测量沉积速率的振荡晶体(110)和用于固持振荡晶体(110)的固持器(120)，其中固持器包括具有高于k＝30W/(mK)的热传导系数k的材料。
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公开(公告)号：CN107709606A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201580081040.6
申请日：2015-07-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·凯勒 , 安德烈·布鲁宁 , 尤韦·施尤比勒 , 托马斯·沃纳·兹巴于尔 , 斯蒂芬·班格特
CPC classification number: C23C14/50 , C23C14/34 , C23C14/562 , C23C14/564 , H01J37/32715 , H01J37/34 , H01M10/052 , H01M10/0562
Abstract: 本发明提供一种用于在溅射沉积处理期间支撑至少一个基板的载具(100)。载具(100)包括载具主体(102)及在载具主体(102)处提供的绝缘部分。此绝缘部分提供电绝缘材料的表面(103)，其中表面(103)被构造为在溅射沉积处理期间面向一个或多个溅射沉积源。
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公开(公告)号：CN107208252A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201480083640.1
申请日：2014-11-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
IPC: C23C14/12 , C23C14/56 , C23C16/455 , C23C14/24
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/45578
Abstract: 本公开内容描述了用于在真空沉积腔室(110)中的基板(121)上沉积材料的材料源布置(100)。所述材料源布置包括分配管(106)，所述分配管(106)被配置成与材料源(102)流体连通，所述材料源(102)提供材料至分配管(106)；和至少一个喷嘴(200；712)，所述至少一个喷嘴被配置成将提供在分配管(106)中的材料引导至真空沉积腔室(110)。所述喷嘴(200；712)包括螺纹，所述螺纹用于将所述喷嘴重复地连接至所述分配管和将所述喷嘴自所述分配管断开。另外，本公开内容描述了一种用于在包括材料源布置的基板(121)上沉积材料的沉积装置、用于材料源布置的喷嘴和一种用于为材料源布置(100)提供分配管(106)和喷嘴(200；712)的方法。
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公开(公告)号：CN104630702B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201410802196.6
申请日：2010-10-18
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01M6/40 , C23C14/042 , H01M4/02 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M4/5825 , H01M4/621 , H01M4/623 , H01M4/663 , H01M2004/028 , Y02E60/122 , Y10T29/49002 , Y10T29/5313
Abstract: 一种用于基板的薄膜处理的磁性处理组件，一种用于组装和拆卸阴影掩膜以覆盖工件的顶部以暴露于处理条件的系统和方法。所述组件可包括：磁性处理载体以及阴影掩膜，所述阴影掩膜设置于所述磁性处理载体上方并磁性耦合至所述磁性处理载体，以覆盖当暴露于处理条件时将被设置在所述阴影掩膜和所述磁性处理载体之间的工件。一种系统包括：第一腔室，所述第一腔室具有保持所述阴影掩膜的第一支架；保持处理载体的第二支架；以及对准阴影掩膜和将被设置在载体和所述阴影掩膜之间的工件的对准系统。所述第一支架和所述第二支架可相对于彼此移动。
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