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公开(公告)号：CN102668215A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080051599.1
申请日：2010-10-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01M10/04 , H01M10/0562 , H01M6/18 , H01G9/025
CPC classification number: H01M6/40 , C23C14/042 , H01M4/02 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M4/5825 , H01M4/621 , H01M4/623 , H01M4/663 , H01M2004/028 , Y02E60/122 , Y10T29/49002 , Y10T29/5313
Abstract: 一种用于基板的薄膜处理的磁性处理组件，一种用于组装和拆卸阴影掩膜以覆盖工件的顶部以暴露于处理条件的系统和方法。所述组件可包括：磁性处理载体以及阴影掩膜，所述阴影掩膜设置于所述磁性处理载体上方并磁性耦合至所述磁性处理载体，以覆盖当暴露于处理条件时将被设置在所述阴影掩膜和所述磁性处理载体之间的工件。一种系统包括：第一腔室，所述第一腔室具有保持所述阴影掩膜的第一支架；保持处理载体的第二支架；以及对准阴影掩膜和将被设置在载体和所述阴影掩膜之间的工件的对准系统。所述第一支架和所述第二支架可相对于彼此移动。
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公开(公告)号：CN109715846B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN201680089397.3
申请日：2016-12-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迪特尔·哈斯 , 尤韦·施尤比勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特
Abstract: 根据本公开内容，提供一种用于在由载体支撑的基板上沉积一个或多个层的处理系统(100)。处理系统包括：装载锁定腔室(110)，用于装载基板；路由模块(410)，用于输送基板；第一真空摆动模块(131)；和处理模块(510)，包括沉积源，沉积源用于沉积材料；维修模块(610)；卸载锁定腔室(116)，用于卸载基板；另外的路由模块(412)；掩模载体匣(320)，经配置以用于存储和输送在处理系统的操作期间应用的掩模；另外的真空摆动模块(132)；和输送系统(710)，经配置以用于在第一真空摆动模块(131)与另外的真空摆动模块(132)之间输送载体。
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公开(公告)号：CN115074662A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202210614575.7
申请日：2016-05-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 哈拉尔德·沃斯特 , 德烈亚斯·勒普 , 戴特尔·哈斯
Abstract: 本文所述的数个实施方式涉及一种用以将已蒸发源材料沉积于基板上的蒸发源(20)。蒸发源(20)包括：一或多个分配管(106)，具有多个喷嘴(22)，其中所述多个喷嘴(22)的每个喷嘴被构造成用于朝向基板(10)导引已蒸发源材料的羽流；和遮蔽装置(30)，包括多个孔(32)，其中所述多个孔(32)的至少一个孔被构造成塑形从单一相关的喷嘴射出的已蒸发源材料的羽流(318)。根据其他方面，描述了一种用于蒸发源的遮蔽装置及数个将已蒸发源材料沉积于基板上的方法。
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公开(公告)号：CN110573646B
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN201880010796.5
申请日：2018-04-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/68 , C23C14/04 , C23C14/56 , C23C16/04 , H01L21/677 , C23C16/458 , H01L21/687
Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(101)中的载体对准的设备(100)。此设备包括支撑件(110)，在真空腔室(101)中于第一方向(X)中延伸；磁性悬浮系统(120)，装配以在真空腔室(101)内于第一方向(X)中传送第一载体(10)，磁性悬浮系统包括至少一个磁铁单元(121)，以及对准系统(130)，对准系统(130)用以对准第一载体(10)。此至少一个磁铁单元(121)及对准系统刚性地固定于支撑件(110)。再者，描述了一种对准载体的真空系统及方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112424393A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201880093193.6
申请日：2018-06-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种设置在真空腔室中的用于冷却沉积区域的冷却系统，包括主动冷却装置，主动冷却装置包括第一表面和第二表面；第一表面布置在第二表面及沉积区域之间，且热交换器配置成用以通过将热量从第一表面传递离开而主动地冷却第一表面。一种用于在基板上进行材料沉积的布置，包括：沉积源，用于在沉积区域的基板上进行材料沉积；冷却系统，具有第一主动冷却装置，第一主动冷却装置具有主动冷却的第一表面及热交换器，热交换器配置成用以将热量从第一表面传递离开；由此，主动冷却的第一表面配置成用以将冷却负荷从沉积区域传递离开；和冷却布置，具有第二主动冷却装置，第二主动冷却装置配置成用以减少来自沉积源的热辐射。
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公开(公告)号：CN110557953A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201880004216.1
申请日：2018-04-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/04 , C23C14/56 , C23C16/04 , H01L21/677 , H01L21/68 , C23C16/458 , H01L21/687
Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(101)中对准载体的设备(100)。所述设备包括：第一载体运输系统(120)，所述第一载体运输系统(120)被配置为在第一方向(X)上沿着第一运输路径运输第一载体(10)；和对准系统(130)。所述对准系统包括：第一支座(152)，所述第一支座用于将所述第一载体(10)安装到所述对准系统(130)；对准装置(151)，所述对准装置被配置为在至少一个对准方向上移动所述第一支座(152)；和第一移位装置(141)，所述第一移位装置被配置为使所述对准装置(151)与所述第一支座(152)一起在横向于所述第一方向(X)的第二方向(Z)上移动。此外，描述了一种真空系统和一种用于对准载体的方法。
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公开(公告)号：CN110546297A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880007193.X
申请日：2018-03-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 斯蒂芬·班格特 , 托马索·维尔切斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
Abstract: 提供一种用于基板的光学检查的系统。此系统包括至少第一处理腔室及第二处理腔室。此系统包括至少传送腔室，用以从第一处理腔室接收基板及用以传送所述基板至第二处理腔室。传送腔室设置有检查装置，检查装置用以对在第一处理腔室中处理的基板执行光学检查。
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公开(公告)号：CN108966675A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201780005624.4
申请日：2017-04-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 奥利弗·海默尔 , 斯蒂芬·班格特
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67709 , H01L21/67712 , H01L21/67715
Abstract: 说明一种用于在处理系统中路由载体的设备。所述设备包括第一保持组件，附接于真空腔室，用于沿着第一方向传送载体；第二保持组件，附接于真空腔室，用于沿着第二方向传送载体，第二方向不同于第一方向；和可旋转支撑件，用于从第一方向旋转载体至第二方向。
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公开(公告)号：CN108463572A
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201680034644.X
申请日：2016-01-15
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/243
Abstract: 描述一种用于在基板(10)上沉积源材料的蒸发源(100)。所述蒸发源包括：蒸发坩埚(104)，其中所述蒸发坩埚被配置为蒸发源材料；分配单元(130)，所述分配单元具有一个或多个出口(212)，其中分配单元与蒸发坩埚流体连通，并且其中一个或多个出口被配置为用于在沉积方向(101)上将源材料提供到基板；第一冷却屏蔽布置(201)，所述第一冷却屏蔽布置设为包括一个或多个开口(221)；受热屏蔽布置(202)，所述受热屏蔽布置设于距第一冷却屏蔽布置(201)的某个距离，其中受热屏蔽布置(202)包括一个或多个孔隙(222)。第一冷却屏蔽布置(201)布置在分配单元(130)与受热屏蔽布置(202)之间，并且蒸发源(100)被配置为限定源材料在沉积方向(101)上从一个或多个出口(212)穿过一个或多个开口(221)和一个或多个孔隙(222)到基板的路径。
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