一种连续式PECVD设备
    81.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111041458B

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN201911413582.5

    申请日:2019-12-31

    IPC分类号: C23C16/54 C23C16/50 H01L31/18

    摘要: 本发明公开了一种连续式PECVD设备,所述包括载料板、进料平台、反应腔体和出料平台,反应腔体包括依次连接的装载腔、预热腔、工艺腔和卸载腔,装载腔的进料口设有第一隔断阀门,预热腔的的进料口设有第二隔断阀门,预热腔与工艺腔相通,工艺腔的出料口设有第三隔断阀门,卸载腔的出料口设有第四隔断阀门,进料平台设于装载腔的进料口,出料平台设于卸载腔的出料口,进料平台、装载腔、预热腔、工艺腔、卸载腔和出料平台上均设有用于传输载料板的传输机构,载料板用于承载石墨舟,预热腔和工艺腔均设有加热装置,工艺腔连有进气系统。本发明具有缩短了工艺时间、大幅提升了设备产能的优点。

    一种低频PECVD沉积氧化铝的方法

    公开(公告)号:CN110699674B

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN201910959148.0

    申请日:2019-10-10

    发明人: 赵增超

    IPC分类号: C23C16/50 C23C16/40 H01L31/18

    摘要: 本发明公开了一种低频PECVD沉积氧化铝的方法,该方法是以三甲基铝为原料,以O2、水蒸气、乙醇蒸气中的其中一种含氧物质为氧化剂,通过低频PECVD法制备得到氧化铝。本发明低频PECVD沉积氧化铝的方法具有工艺简单、操作方便、成本低廉等优点,不仅能够省去常规方法中的后续等离子体处理步骤、降低制备成本、缩减工艺时间、提升产能,而且能够制备得到钝化效果更好的氧化铝,对于制备高光电转换效率的太阳电池以及扩大太阳电池的应用范围具有十分重要的意义。

    一种用于管式PECVD设备的尾气粉尘捕捉装置

    公开(公告)号:CN111036013B

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN201910749071.4

    申请日:2019-08-14

    发明人: 罗志敏 廖惠东

    IPC分类号: B01D50/00

    摘要: 本发明公开了一种用于管式PECVD设备的尾气粉尘捕捉装置,包括捕捉腔室,所述捕捉腔室内沿尾气的流动方向依次设有用于对尾气进行加热的加热区、用于对尾气进行冷却的冷却区、以及用于对尾气进行过滤的过滤区,所述加热区配设有水汽输入管。本发明具有有利于捕捉尾气中的粉尘,将尾气中的Al(CH3)3进行分解、反应并捕捉等优点。

    一种内置式平板型共轭离子源及真空镀膜装置

    公开(公告)号:CN112962087A

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202110139372.2

    申请日:2021-02-01

    摘要: 本发明公开了一种内置式平板型共轭离子源,包括:输气组件和结构相同且成对设置的两个电极组件。输气组件与电极组件连接,电极组件安装在真空腔室内。电极组件包括气体腔和电极柱,电极柱的一端与电源组件连接,另一端与气体腔连接;气体腔底部设有气体喷淋板,气体腔和电极柱的侧部由内向外依次设有绝缘板、屏蔽罩和磁铁。在电源组件的作用下,两个电极组件成为相反电位的共轭放电组件,从两个电极组件的气体喷淋板喷出的工艺气体在真空腔室内实现电离。本发明的离子源具有结构紧凑、放电容易、气体扩散均匀等优点。本发明还公开了包含上述离子源的真空镀膜装置,实现了工件的连续均匀镀膜,提高了镀膜产能且满足了不同厚度的镀膜需求。

    一种石墨舟的定位装置及定位方法

    公开(公告)号:CN110654690B

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN201910939760.1

    申请日:2019-09-30

    IPC分类号: H01L21/68

    摘要: 本发明公开了一种石墨舟的定位装置及定位方法,装置包括传输线体、托盘、前端限位机构、后端推舟机构、右侧推舟机构、托盘限位机构和托盘靠边驱动机构,传输线体用于输送托盘,托盘用于装载石墨舟,托盘限位机构设于传输线体的前端用于限制托盘前进,托盘靠边推动机构设于传输线体的右侧,前端限位机构设于传输线体的前端,后端推舟机构设于传输线体的后端,右侧推舟机构设于传输线体的右侧。方法包括托盘前后定位、托盘左右定位、石墨舟前后定位和石墨舟左右定位。本发明从多个维度对石墨舟托盘及石墨舟进行定位,能有效解决石墨舟定位精度的问题。

    一种提纯锭芯的分档方法
    86.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107832346B

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN201710961176.7

    申请日:2017-10-13

    IPC分类号: G06F16/245 C30B29/06

    摘要: 本发明公开了一种提纯锭芯的分档方法,包括以下步骤:测试提纯锭芯上某两处的电阻率,获取提纯锭芯的底部电阻率和顶部电阻率,并计算底部电阻率和顶部电阻率之间的差值得到提纯锭芯的底顶部电阻率差值;针对获得的底部电阻率、底顶部电阻率差值,查询预设的提纯锭芯分档数据表获取被测试提纯锭芯的分档级别,其中提纯锭芯分档数据表包含底部电阻率、底顶部电阻率差值两者及其对应的分档级别之间的映射关系。本发明分档方法能够把复杂的计算和测试过程简单化,能够科学系统、简单有效对提纯锭芯进行分档,具有简易、准确等优点,以本发明方法对提纯锭芯进行分档,对铸锭过程中磷含量的控制具有非常大的意义。

    一种管式PECVD预热系统实验装置

    公开(公告)号:CN111636058A

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN202010442305.3

    申请日:2020-05-22

    发明人: 肖洁 李明 张春成

    IPC分类号: C23C16/50 C23C16/02

    摘要: 本发明公开了一种管式PECVD预热系统实验装置,包括预热箱、预热推舟机构、舟体转移机构和转移支撑架,预热箱设于炉体柜的一侧,预热推舟机构包括推舟导轨和推舟杆组,推舟导轨固定在净化台一侧,推舟导轨上设有推舟滑块,推舟杆组一端固定在推舟滑块上,另一端悬空并且朝向预热箱,推舟杆组上设有可在推舟杆组伸入预热箱之后关闭预热箱入口的预热箱门,转移支撑架固定在净化台上,舟体转移机构设于转移支撑架上,舟体转移机构包括舟体抓手、承重底座和升降组件,转移支撑架上设有转移导轨,升降组件设于称重底座上,升降组件与舟体抓手连接,称重底座可移动的设于推舟导轨上。本发明具有可以快速验证石墨舟预热方案的可行性的优点。

    管式PECVD设备的进出舟装置及管式PECVD设备

    公开(公告)号:CN111455354A

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN202010442285.X

    申请日:2020-05-22

    发明人: 肖洁

    IPC分类号: C23C16/458 C23C16/513

    摘要: 本发明公开了管式PECVD设备的进出舟装置及管式PECVD设备,装置包括支撑架、传送导轨部分和动力部分,传送导轨部分包括承载载料舟的托盘、炉外托盘导轨、炉内托盘导轨和固定导轨,固定导轨的两端支撑在支撑架上,炉外托盘导轨可移动的设于固定导轨上,托盘可移动的设于炉外托盘导轨上,炉内托盘导轨设于炉体反应室内,动力系统包括托盘导轨推动驱动和托盘推动驱动,托盘导轨推动驱动用于驱动炉外托盘导轨移动以便与炉内托盘导轨对接,托盘推动驱动用于驱动托盘从炉外托盘导轨移动至炉内托盘导轨上。设备包括炉体和炉门系统,炉体内设有反应室,还包括上述的进出舟装置。本发明具有结构稳定、不会发生变形以及缩短取放舟时间的优点。

    用于制备PERC电池双面钝化膜的设备及其使用方法

    公开(公告)号:CN111129216A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201911303645.1

    申请日:2019-12-17

    IPC分类号: H01L31/18 H01L31/0216

    摘要: 本发明公开了用于制备PERC电池双面钝化膜的设备及其使用方法,设备包括第一净化台、第二净化台、第一炉管、第二炉管、第一石墨舟、第二石墨舟、插取片机械手、上料输送线和下料输送线,插取片机械手位于第一净化台、第二净化台、第一石墨舟与第二石墨舟围成的区域内,上料输送线包括依次设置的上料花篮、上料传输带和上料存储架,下料输送线包括依次下料花篮、下料传输带和下料存储架。方法包括上料输送、一次插片、背面叠层膜的制备、一次卸片、二次插片、正面减反射钝化膜、二次卸片、下料输送。本发明可在同一台设备内完成背面钝化膜、背面覆盖层和正面减反射钝化膜三种膜制备。

    制备背面钝化膜的管式PECVD设备及方法

    公开(公告)号:CN110735130A

    公开(公告)日:2020-01-31

    申请号:CN201911106895.6

    申请日:2019-11-13

    摘要: 本发明公开了一种制备背面钝化膜的管式PECVD设备及方法,该设备包括至少一个用于沉积AlOx膜的反应室,该室的进气口连通有N2O进气管、NH3进气管、TMA/Ar进气管和N2进气管,且该室的抽气口连通有真空泵,同时二者之间设有除尘装置;该设备还包括至少一个用于沉积SiON膜/SiNx膜的反应室,该室的进气口连通有N2O进气管、NH3进气管、N2进气管和SiH4进气管。采用上述管式PECVD设备制备背面钝化膜。本发明管式PECVD设备具有反应室搭配合理、除尘装置数量少、气路系统简单、易于维护、制造成本低等优点,用于制备背面钝化膜时能够显著提高钝化膜的钝化效果,有着很高的使用价值和很好的应用前景。