公开(公告)号：CN118147607A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202410125497.3

申请日：2024-01-29

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 黄嘉斌 ,  杨彬 ,  王随心 ,  赵增超 ,  邓新新 ,  李明 ,  成秋云

IPC分类号： C23C16/44 ,  H01J37/32 ,  C23C16/50

摘要： 本发明公开了一种LPCVD设备在线等离子清洗装置及清洗方法，装置的加热炉体同轴嵌套在石英反应炉外周，石英反应炉的炉口设有炉口门板和炉门，炉门上设有进气孔，炉尾门板上设有抽气管；炉口门板上设有与射频电源组件连接的电极引入插座，炉门上设有相互连接的电极柱和I CP发生器，I CP发生器环绕在石英管进气端的外周，石英管的排气端贯穿炉门；关闭炉门，电极柱插入电极引入插座内，I CP发生器与射频电源组件连接，石英管延伸至石英反应炉内，在石英管内通入氟化物气体，并开启射频电源组件，在I CP发生器的作用下，氟化物气体形成含氟等离子体，以实现石英反应炉在线清洗。本发明具有结构紧凑、便于维护、清洗效率高等优点。

公开(公告)号：CN115388661A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202210873819.3

申请日：2022-07-21

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 王随心 ,  谢国杨 ,  成秋云 ,  杨彬

IPC分类号： F27D3/12 ,  F27D21/00 ,  H01L21/677

摘要： 本发明公开了一种用于石英舟进出炉体的小车及石英舟进出炉体的方法，小车包括：车架，以安装在车架上的传动托盘、传动组件和脚轮，所述传动托盘用于承载石英舟，并带动石英舟进出炉体；所述传动组件用于承载传动托盘，并提供传动托盘进出炉体所需的驱动力，以实现传动托盘带动石英舟自动进出炉体；所述脚轮用于实现小车移动。本发明具有结构紧凑、操作简单、传动可靠且定位精准等优点，降低了管式炉体设备生产成本及维护费用，实现了石英舟平稳可靠地进出管式炉体，提高了电池片的生产效率。

公开(公告)号：CN112967920B

公开(公告)日：2022-07-19

申请号：CN202110133205.7

申请日：2021-02-01

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 陈特超 ,  杨彬 ,  杨志权 ,  赵忠 ,  张威

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L31/18 ,  H01Q1/42

摘要： 本发明公开了一种微波等离子体刻蚀装置，包括：真空反应腔室、耦合窗、屏蔽罩和微波传导组件；耦合窗的一侧与真空反应腔室密封连接，耦合窗的另一侧与屏蔽罩密封连接；微波传导组件包括长度可调的同轴天线，同轴天线伸入屏蔽罩内，且同轴天线在屏蔽罩内的长度大于或等于真空反应腔室中刻蚀基体的总高度；通过同轴天线传输微波，以激发真空反应腔室内的反应气体转化为活性等离子体，实现对刻蚀基体的刻蚀。本发明的微波等离子体刻蚀装置具有结构紧凑、等离子体浓度高、设备产能高等优点。同时，本发明还公开了利用上述微波等离子体刻蚀装置进行刻蚀的方法，大大提高了待刻蚀基体的刻蚀效率，并且保证了刻蚀质量。

公开(公告)号：CN114622183A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202011452948.2

申请日：2020-12-11

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 许烁烁 ,  张威 ,  杨彬 ,  唐电 ,  吴易龙 ,  彭宜昌

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/40 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52

摘要： 本发明公开了一种制备氧化硅薄膜的方法，该方法是利用等离子体增强原子层沉积在衬底表面制备氧化硅薄膜，包括以下步骤：将衬底置于反应腔体内，抽真空，加热；将氧等离子体与硅源喷向衬底表面，在喷淋过程中氧等离子体与硅源在硅片表面发生反应生成氧化硅，得到氧化硅薄膜。本发明制备氧化硅薄膜的方法，能够制备得到致密性高、厚度均匀可控的氧化硅薄膜，可广泛应用于光伏、半导体等领域，同时还具有工艺简单、操作方便、沉积速率快等优点，适合于氧化硅薄膜的大规模制备，利于工业化应用。

公开(公告)号：CN114371741A

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN202111519682.3

申请日：2021-12-13

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 吴易龙 ,  苏卫中 ,  李若儒 ,  李锦荣 ,  陈臻阳 ,  杨彬

IPC分类号： G05D16/20

摘要： 本发明公开了一种串联真空腔体内气流场的控制方法及系统，所述方法包括步骤：S01、预先将其中部分真空腔体的蝶阀设为主蝶阀，并设置为压力控制模式，其它真空腔体的蝶阀设为从蝶阀，并设置为位置控制模式；其中主蝶阀与从蝶阀相互对应；S02、获取主蝶阀对应的真空腔体内的压力，并根据压力调整所述主蝶阀的开度，进入压力控制模式；S03、获取所述主蝶阀的开度，根据所述主蝶阀的开度来实时调整对应各从蝶阀的开度，进入位置控制模式。本发明能够获得稳定均匀的气流场，而且操作简便且成本低。

公开(公告)号：CN114351122A

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202111527141.5

申请日：2021-12-14

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 唐电 ,  杨彬 ,  张单辉 ,  许烁烁

IPC分类号： C23C16/54 ,  C23C16/46 ,  C23C16/455 ,  H01L21/677

摘要： 本发明公开了一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统，包括腔体、喷淋板、载板、加热基板和传输装置，传输装置包括外轴动力、内轴动力和多对磁流体传输机构，磁流体传输机构包括磁流体、内轴、外轴、传输轴和翻转板，外轴套在内轴上且二者可相对转动，磁流体套在外轴上且二者可相对转动，翻转板与内轴固定连接，传输轴可转动的设在翻转板上，传输轴与外轴通过啮合件配合，外轴动力用于驱动外轴转动，内轴动力用于驱动内轴转动，传输轴和翻转板设于腔体内，载板置于各传输轴上。本发明利用同心双轴磁流体结构，同时驱动载板的传输和提升，既能使实现载板传输，又能使载板在镀膜时脱离传输轴并与加热基板接触，简化了结构，降低了设备成本。

公开(公告)号：CN111485228A

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN202010565829.1

申请日：2020-06-19

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 张威 ,  杨彬 ,  唐电 ,  彭宜昌 ,  陈特超

IPC分类号： C23C16/511 ,  C23C16/513 ,  C23C16/517

摘要： 本发明公开了一种平板式PECVD设备的微波天线组件，包括微波天线及微波隔离石英管，所述微波天线设于平板式PECVD设备的真空腔室的外侧，所述微波隔离石英管设于所述真空腔室内，微波天线组件还包括石英管旋转驱动件，所述石英管旋转驱动件与所述微波隔离石英管相连。本发明还公开了一种平板式PECVD设备，包括真空腔室，所述真空腔室内设有工件载板及载板输送部件，还包括前述的平板式PECVD设备的微波天线组件。本发明具备有利于减缓薄膜的附着速率，延长石英管更换周期，提高生产效率等优点。

公开(公告)号：CN116334596A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202111593571.7

申请日：2021-12-23

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 曾武杨 ,  彭宜昌 ,  陈臻阳 ,  杨彬 ,  唐电 ,  谭庆 ,  陈特超

IPC分类号： C23C16/509 ,  C23C16/52 ,  C23C16/455 ,  H01J37/32

摘要： 本发明公开了一种PECVD设备的辉光放电装置，包括气体导入机构、上电极板和下电极板，上电极板和下电极板间隔设置在PECVD设备的反应室内，反应室包括腔体，上电极板盖合在腔体顶部，下电极板设于腔体内部的底板上；上电极板包括电极背板和喷淋板，电极背板的下端面为喷淋板，电极背板的顶部与气体导入机构的底部密封连接；气体导入机构包括相互独立送气的工艺气体导入通道和清洗气体导入通道，工艺气体导入通道的底部与电极背板的顶部密封连接，清洗气体导入通道沿竖直方向贯穿工艺气体导入通道内部并延伸至上电极板内部。本发明具有结构紧凑、操作简单、制造成本低等优点，实现了工艺、清洗气体独立送入，避免了气体交叉污染，提高了成膜质量。

公开(公告)号：CN115354298A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202210783572.6

申请日：2022-07-05

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 唐电 ,  张威 ,  杨彬 ,  许烁烁 ,  陈臻阳 ,  李健志 ,  黄嘉斌 ,  成秋云

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/509 ,  B08B7/00

摘要： 本发明公开了一种PECVD设备石墨舟清洗系统，包括真空腔室、放电单元和气体导入单元，所述气体导入单元与真空腔室相连通，用于向所述真空腔室内充入工艺气体，所述放电单元安装于所述真空腔室上，用于对工艺气体进行电离来产生等离子体。本发明具有成本低、占地面积小、环保且能提高石墨舟使用寿命等优点。

公开(公告)号：CN111628051A

公开(公告)日：2020-09-04

申请号：CN202010565078.3

申请日：2020-06-19

申请人： 湖南红太阳光电科技有限公司

发明人： 陈特超 ,  张威 ,  彭宜昌 ,  唐电 ,  杨彬

IPC分类号： H01L31/18 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50 ,  C23C16/40 ,  C23C16/34

摘要： 本发明公开了一种用于生长氧化铝和氮化硅薄膜的平板式ALD和PECVD组合设备，包括硅片传输机构，硅片传输机构沿传输方向依次设有上料腔、用于在硅片上生长氧化铝薄膜的原子层沉积工艺腔、用于在硅片上生长氮化硅薄膜的化学气相沉积工艺腔、以及下料腔，所述原子层沉积工艺腔与所述化学气相沉积工艺腔之间设有过渡腔，相邻腔室之间均设有真空隔离阀。本发明具有结构紧凑、生产效率高、膜层质量好等优点。