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公开(公告)号：CN103403624B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201280010916.4
申请日：2012-03-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: G03F9/00 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K2201/09918
Abstract: 本发明提供一种对位装置，其在电子电路用的多层印刷基板中能够保持与下层的对位精度，并能整合安装在表面上的电子部件之间的对位。该对位装置具有：存储部（82），其存储对准标记（AM）应当形成在基板（PB）上的设计坐标位置（MC）；测定部（70），其测定转印到基板的对准标记的坐标位置；以及计算部（84），其计算将测定部测定出的对准标记的坐标位置向设计坐标位置移动了预定距离的目标坐标位置（TG）。
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公开(公告)号：CN102194643B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201110054871.8
申请日：2011-03-08
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种放电灯，其提供稳定的发射体的扩散、稳定的电极强度。放电灯具有阴极(20)，其在电极前端部(23)上设有由多个密度倾斜层(26)构成的烧结层(烧结体)(24)。密度倾斜层(26)是通过将氧化钡等的发射体粉末与钨等的高熔点金属粉末的混合粉末阶段性地压缩插入到阴极(20)的凹部(25)，并在之后一体地进行SPS烧结来形成的。在各层中，烧结体倾斜化，其密度从电极前端侧向电极后端侧连续地减少。
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公开(公告)号：CN104584187A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043468.2
申请日：2013-07-08
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 林武弘
CPC classification number: H01J61/36 , H01J9/323 , H01J61/0732 , H01J61/366 , H01J61/86 , H01J9/32
Abstract: 提供如下放电灯和放电灯的制造方法：能够简单且可靠地将线圈状限位器安装于电极棒，该线圈状限位器用于在密封管相对于玻璃管的熔接作业中限制玻璃管相对于电极棒朝电极侧滑动。作为其解决手段，线圈状限位器(40)具有：线圈部(41)，其由金属线材的一部分构成，具有与玻璃管(21)抵接的玻璃管侧端部(42)，而且，在从直径小于或等于电极棒(17)的自由状态朝扩径方向进行了弹性变形的状态下，自身的内表面会紧贴于电极棒的外周面；以及一对端部结构部(43、44)，它们分别由金属线材的两端构成，位于比玻璃管侧端部靠电极侧的位置。
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公开(公告)号：CN103460137A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016296.5
申请日：2012-03-29
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , G01J1/02 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70558 , G01J1/0219 , G01J1/0233 , G01J1/0488 , H01J61/822 , H01J61/86 , H05B41/38
Abstract: 曝光装置具备：放电灯，其放射包括g线（436nm）、h线（405nm）、i线（365nm）的亮线的光；光测量单元，其具有受光部，对从放电灯放射的光进行测量；以及照明调整单元，其根据光测量单元中的测量值，调整向放电灯供给的功率。并且，光测量单元具有在g线、h线、i线中相邻的2个亮线之间具有峰值灵敏度的分光灵敏度特性。
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公开(公告)号：CN101546132B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN200910117907.5
申请日：2009-02-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101334590B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810109033.4
申请日：2008-05-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275
Abstract: 在增加使用DMD组件的绘图速度而提高生产性的情形中，缩短DMD组件的微型反射镜的切换时间而提高生产性。绘图装置(100)包括：DMD组件(41)，具有数组状配置的复数个微型反射镜M；光源(10)，对于微型反射镜M供给曝光光线；偏压电压控制部(83)，施加使微型反射镜M设定于第一状态的第一电压，使曝光光线朝被曝光面(CB)导引，且施加使反射组件设定于第二状态的零电压，曝光光线不到达被曝光面。
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公开(公告)号：CN101546133B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910118213.3
申请日：2009-02-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明涉及曝光装置和曝光方法。该曝光装置(100)是将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体(T)送至曝光台(50)上，并将掩膜(M)的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。该曝光装置(100)具有：按压被曝光体的压板(42)；用于观察形成在被曝光体上的第1校准识别标记(AM)和形成在电路图案掩膜上的第2校准识别标记(MM)的图像识别部(54)；使压板和图像识别部同时向被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部(43)。
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公开(公告)号：CN102376523A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201110209299.8
申请日：2011-07-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 林武弘
IPC: H01J61/073
Abstract: 本发明提供一种放电灯，能够在不伴有烦杂的作业工序的情况下，防止放电容器的黑化。通过喷丸(shot blast)向阳极(30)的外周面(侧面)(30C)喷射氧化铝，使氧化铝(26)在分散的状态下附着于外周面(30C)。然后，在氧化铝(26)的熔点以下对阳极(30)进行真空加热处理，去除杂质气体。在点亮起动灯时，伴随阳极(30)的温度上升，氧化铝(26)熔融、蒸发，蒸发的氧化铝附着于发光管的内表面。
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公开(公告)号：CN101276157B
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN200810088524.5
申请日：2008-03-27
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G02B13/143 , G03F7/70208 , G03F7/70283 , G03F7/70291
Abstract: 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个空间光调制组件，确保高的运转率，且可进行温度管理。其解决方式为，曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；第一照明光学系统(30)，使来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20)，设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21)；第一及第二空间光调制装置(41)，将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制；以及投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
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公开(公告)号：CN101183221B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200710169544.0
申请日：2007-11-09
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
Abstract: 本发明提供以不使数据转送的规模扩大而进行从控制部朝装置头部的数据转送的装置。多重曝光装置(1)具备在作为基于作为在连续而被复数进行的曝光用中被使用的向量数据的绘制数据而被作成的网格数据的复数的曝光数据中、基于前后曝光数据间的差异而作成差异数据的曝光数据产生部(11)。具备具有在曝光用中被使用的DMD(33)、以及基于差异数据驱动DMD的组件控制部(31)的装置头部(30)。
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