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公开(公告)号：CN1595632A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN200410085563.1
申请日：2000-05-25
IPC: H01L21/68
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
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公开(公告)号：CN1595631A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN200410085562.7
申请日：2000-05-25
IPC: H01L21/68
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
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公开(公告)号：CN1365518A
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：CN00810884.6
申请日：2000-05-25
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明,提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
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公开(公告)号：CN1179407C
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN00810884.6
申请日：2000-05-25
CPC classification number: B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。
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公开(公告)号：CN105792755B
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201480063391.X
申请日：2014-10-15
Applicant: 株式会社爱发科 , 国立大学法人东北大学
Abstract: 提供一种不受超声波探头放在皮肤表面上时的位置的影响，可可靠地测量血管直径的超声波探头。使用脉冲回波法测量活体的血管(B)直径的本发明的超声波探头(P)包括：施加有脉冲电压并向血管发送超声波的发射部(2)；以及接收碰到血管后反射的反射波的接收部(3)。发射部设置为在同一平面内以蜂窝状配置的多个俯视图为正六边形的压电元件(22)，有选择地分别向各压电元件施加脉冲电压(E)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102067289A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980122655.3
申请日：2009-06-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/3065 , B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00103 , B81B2203/033 , B81B2203/0392
Abstract: 本发明提供一种多段型衬底，在衬底的主面上，重叠形成各自包含不同种类材料、且各自的剥离方法不同的多个掩膜，映射多个掩膜的各自的形状依次进行使用等离子体的干蚀刻，由此进行台阶高差加工，获得具有多个台阶高差的多段型衬底。
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公开(公告)号：CN106796915B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201680003147.3
申请日：2016-03-31
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明提供一种使在与吸附对象物接触的面的吸附力降低来抑制吸附对象物的吸附和剥离时的灰尘的产生并且能够以使吸附装置的吸附力均匀的方式进行控制的技术。本发明的吸附装置具有：在电介质中具有用于对基板10进行吸附保持的逆极性的一对吸附电极11、12的主体部50、以及相对于一对吸附电极11、12在主体部50的吸附侧的部分以跨越一对吸附电极11的阳极11a和阴极11b以及一对吸附电极12的阳极12a和阴极12b的方式分别配置的导电性膜51。
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公开(公告)号：CN107615474A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680032106.7
申请日：2016-04-01
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
Abstract: 本发明提供一种抑制吸附对象物的吸附和剥离时的灰尘的产生并且能够以使吸附装置的吸附力均匀的方式进行控制的技术。本发明的吸附装置具有在电介质中具有吸附电极11、12的主体部50、以及被设置在主体部50的吸附侧的表面并且对基板进行吸附的吸附部51。吸附部51具有与基板接触来支承的接触支承部52、以及不与基板接触的非接触部53，在吸附部51中，被构成为接触支承部52的材料的体积电阻率比非接触部53的材料的体积电阻率大。
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公开(公告)号：CN103733318B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201280040387.2
申请日：2012-08-08
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: B01J3/006 , H01J37/321 , H01J37/32706 , H01J37/32715 , H01L21/6831
Abstract: 提供一种真空处理装置以及真空处理方法，能够在进行等离子处理时强力吸附保持绝缘性基板。真空处理装置（1）具有：接地的真空槽（11），与真空槽（11）相连的真空排气装置（19），配置在真空槽（11）内部的吸附装置（40），对设在吸附装置（40）上的单极（3）外加输出电压的吸附用电源（16），向真空槽（11）内导入等离子生成气体的等离子生成气体导入装置（21），以及使等离子生成气体为等离子的等离子生成部（20），将处理对象物（6）配置在吸附装置（40）上，当通过吸附用电源（16）对单极（3）外加输出电圧时，在真空槽内（11）内生成等离子，并且当将处理对象物（6）吸附在吸附装置上时，通过等离子进行处理，其中，处理对象物（6）使用绝缘性基板，吸附用电源（16）向单极（3）输出正电圧和负电圧周期地变化的输出电圧。
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公开(公告)号：CN105792755A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201480063391.X
申请日：2014-10-15
Applicant: 株式会社爱发科 , 国立大学法人东北大学
CPC classification number: A61B8/0891 , A61B8/4483
Abstract: 提供一种不受超声波探头放在皮肤表面上时的位置的影响，可可靠地测量血管直径的超声波探头。使用脉冲回波法测量活体的血管(B)直径的本发明的超声波探头(P)包括：施加有脉冲电压并向血管发送超声波的发射部(2)；以及接收碰到血管后反射的反射波的接收部(3)。发射部设置为在同一平面内以蜂窝状配置的多个俯视图为正六边形的压电元件(22)，有选择地分别向各压电元件施加脉冲电压(E)。
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