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公开(公告)号：CN105792755B
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201480063391.X
申请日：2014-10-15
申请人： 株式会社爱发科 , 国立大学法人东北大学
摘要： 提供一种不受超声波探头放在皮肤表面上时的位置的影响，可可靠地测量血管直径的超声波探头。使用脉冲回波法测量活体的血管(B)直径的本发明的超声波探头(P)包括：施加有脉冲电压并向血管发送超声波的发射部(2)；以及接收碰到血管后反射的反射波的接收部(3)。发射部设置为在同一平面内以蜂窝状配置的多个俯视图为正六边形的压电元件(22)，有选择地分别向各压电元件施加脉冲电压(E)。
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公开(公告)号：CN105792755A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201480063391.X
申请日：2014-10-15
申请人： 株式会社爱发科 , 国立大学法人东北大学
CPC分类号： A61B8/0891 , A61B8/4483
摘要： 提供一种不受超声波探头放在皮肤表面上时的位置的影响，可可靠地测量血管直径的超声波探头。使用脉冲回波法测量活体的血管(B)直径的本发明的超声波探头(P)包括：施加有脉冲电压并向血管发送超声波的发射部(2)；以及接收碰到血管后反射的反射波的接收部(3)。发射部设置为在同一平面内以蜂窝状配置的多个俯视图为正六边形的压电元件(22)，有选择地分别向各压电元件施加脉冲电压(E)。
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公开(公告)号：CN109561886A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780048021.2
申请日：2017-08-15
申请人： 株式会社爱发科 , 国立大学法人东北大学
摘要： 本发明提供一种作为具有用来制造多个压电元件以固定间隔排列成矩阵状的产品率高的结构的器件的矩阵型超声波探头。本发明的超声波探头(AP)具有的结构包括：第一干膜抗蚀剂(22)，其具有开设成矩阵状的多个第一开口(22a)，在使压电元件(21)紧密贴合在各第一开口的周边部并部分露出的状态下，分别对压电元件(21)进行支撑；第二干膜抗蚀剂(23)，其层压在第一干膜抗蚀剂上并具有分别围绕各功能元件的第二开口(23a)，且与压电元件厚度相同；以及第三干膜抗蚀剂(24)，其层压在第二干膜抗蚀剂上并具有第三开口(24a)，在使压电元件紧密贴合在该第三开口的周边部并部分露出状态下，将各压电元件分别夹持在第三干膜抗蚀剂与第一干膜抗蚀剂之间。
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公开(公告)号：CN109561886B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201780048021.2
申请日：2017-08-15
申请人： 株式会社爱发科 , 国立大学法人东北大学
摘要： 本发明提供一种作为具有用来制造多个压电元件以固定间隔排列成矩阵状的产品率高的结构的器件的矩阵型超声波探头。本发明的超声波探头(AP)具有的结构包括：第一干膜抗蚀剂(22)，其具有开设成矩阵状的多个第一开口(22a)，在使压电元件(21)紧密贴合在各第一开口的周边部并部分露出的状态下，分别对压电元件(21)进行支撑；第二干膜抗蚀剂(23)，其层压在第一干膜抗蚀剂上并具有分别围绕各功能元件的第二开口(23a)，且与压电元件厚度相同；以及第三干膜抗蚀剂(24)，其层压在第二干膜抗蚀剂上并具有第三开口(24a)，在使压电元件紧密贴合在该第三开口的周边部并部分露出状态下，将各压电元件分别夹持在第三干膜抗蚀剂与第一干膜抗蚀剂之间。
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公开(公告)号：CN102067289A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980122655.3
申请日：2009-06-15
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： H01L21/3065 , B81C1/00
CPC分类号： B81C1/00103 , B81B2203/033 , B81B2203/0392
摘要： 本发明提供一种多段型衬底，在衬底的主面上，重叠形成各自包含不同种类材料、且各自的剥离方法不同的多个掩膜，映射多个掩膜的各自的形状依次进行使用等离子体的干蚀刻，由此进行台阶高差加工，获得具有多个台阶高差的多段型衬底。
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公开(公告)号：CN106796915B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201680003147.3
申请日：2016-03-31
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00
摘要： 本发明提供一种使在与吸附对象物接触的面的吸附力降低来抑制吸附对象物的吸附和剥离时的灰尘的产生并且能够以使吸附装置的吸附力均匀的方式进行控制的技术。本发明的吸附装置具有：在电介质中具有用于对基板10进行吸附保持的逆极性的一对吸附电极11、12的主体部50、以及相对于一对吸附电极11、12在主体部50的吸附侧的部分以跨越一对吸附电极11的阳极11a和阴极11b以及一对吸附电极12的阳极12a和阴极12b的方式分别配置的导电性膜51。
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公开(公告)号：CN107615474A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680032106.7
申请日：2016-04-01
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
摘要： 本发明提供一种抑制吸附对象物的吸附和剥离时的灰尘的产生并且能够以使吸附装置的吸附力均匀的方式进行控制的技术。本发明的吸附装置具有在电介质中具有吸附电极11、12的主体部50、以及被设置在主体部50的吸附侧的表面并且对基板进行吸附的吸附部51。吸附部51具有与基板接触来支承的接触支承部52、以及不与基板接触的非接触部53，在吸附部51中，被构成为接触支承部52的材料的体积电阻率比非接触部53的材料的体积电阻率大。
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公开(公告)号：CN103733318B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201280040387.2
申请日：2012-08-08
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： B01J3/006 , H01J37/321 , H01J37/32706 , H01J37/32715 , H01L21/6831
摘要： 提供一种真空处理装置以及真空处理方法，能够在进行等离子处理时强力吸附保持绝缘性基板。真空处理装置（1）具有：接地的真空槽（11），与真空槽（11）相连的真空排气装置（19），配置在真空槽（11）内部的吸附装置（40），对设在吸附装置（40）上的单极（3）外加输出电压的吸附用电源（16），向真空槽（11）内导入等离子生成气体的等离子生成气体导入装置（21），以及使等离子生成气体为等离子的等离子生成部（20），将处理对象物（6）配置在吸附装置（40）上，当通过吸附用电源（16）对单极（3）外加输出电圧时，在真空槽内（11）内生成等离子，并且当将处理对象物（6）吸附在吸附装置上时，通过等离子进行处理，其中，处理对象物（6）使用绝缘性基板，吸附用电源（16）向单极（3）输出正电圧和负电圧周期地变化的输出电圧。
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公开(公告)号：CN107431040B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201680022120.9
申请日：2016-04-11
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： H01L21/683 , B65G49/00 , H02N13/00
摘要： 【课题】提供吸附力不会变弱的吸附装置。【解决方案】将吸附装置19a的受电端子24配置于受电侧凹部23内，能够利用盖部25a盖上。在对基板51~53进行吸附时，将吸附装置19a载置于供电台18a上，使供电端子64与受电端子24接触，对基板51~53与吸附电极22之间的等效电容进行充电。在使吸附装置19a移动时，一边由于等效电容的残留电荷吸附基板51~53一边利用盖部25a盖上受电侧凹部23，真空槽中的残留气体不会与受电端子24接触。没有受电端子24腐蚀或者形成薄膜的情况，不会放出等效电容的残留电荷。
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公开(公告)号：CN101687215A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880022395.8
申请日：2008-06-17
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： B41J2/155
摘要： 形成看不到筋条的覆膜。在基板(7)上，在第一印刷头(20a)与第二印刷头(20b)重叠的范围中，使从第一印刷头(20a)排出的第一排出液弹着的弹着位置和从第二印刷头(20b)排出的第二排出液弹着的弹着位置混合存在。按照随机数决定哪个排出液弹着。在由第一排出液形成的覆膜(30a)与由第二排出液形成的覆膜(30b)之间配置混合存在第一、第二排出液而形成的覆膜(30c)，所以边界变模糊，筋条变得看不到。
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