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公开(公告)号:CN114481038B
公开(公告)日:2023-09-01
申请号:CN202210168538.8
申请日:2022-02-23
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要: 一种蒸镀坩埚和蒸镀系统。所述蒸镀坩埚包括:坩埚本体,包括底壁和所述侧壁围成的具有开口的容纳腔;设置在所述容纳腔内的网板组件,所述网板组件包括第一网板和第二网板,二者之间具有避让间隙,所述第一网板设置有至少一个第一网孔;所述第二网板包括开口部,所述开口部设置有至少一个第二网孔,在垂直于所述底壁的平面上,所述开口部的截面包括至少一个开口朝向所述底壁或者背离所述底壁的开口单元,所述开口单元为V形或者梯形;喷嘴,设置在所述容纳腔的开口处,所述喷嘴开设有喷气孔。本公开实施例中,通过增加梯形或V形开口的网板,使得气流通过两层网板之间的气孔通道产生类似涡流效应,从而减少喷溅,避免暗点不良和损坏掩膜版等。
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公开(公告)号:CN103441129A
公开(公告)日:2013-12-11
申请号:CN201310373621.X
申请日:2013-08-23
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号: H01L27/12 , H01L23/50 , H01L21/84 , H01L21/28 , G02F1/1368
CPC分类号: H01L29/66765 , H01L29/4908
摘要: 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法和显示装置,属于显示技术领域。其中,该阵列基板的制作方法,包括:在基板上形成金属层,去除所述金属层表面的金属氧化物。本发明的技术方案能够去除金属电极表面的金属氧化物,提高阵列基板上薄膜晶体管的性能。
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公开(公告)号:CN102664193A
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN201210096583.3
申请日:2012-04-01
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号: H01L29/786 , H01L29/45 , H01L29/49 , H01L21/28
CPC分类号: H01L29/4908 , H01L21/28008 , H01L21/3205 , H01L23/53228 , H01L23/53238 , H01L27/124 , H01L29/42384 , H01L29/458 , H01L2924/0002 , Y10T428/12826 , Y10T428/265 , Y10T428/31678 , H01L2924/00
摘要: 本发明提供了一种导电结构及制造方法、薄膜晶体管、阵列基板和显示装置。其中所述导电结构包括:由铜或铜合金形成的铜层;用于阻挡所述铜层的铜离子向外扩散的阻挡层;用于阻挡外部离子扩散至所述铜层的防扩散层,所述防扩散层设置在所述铜层与所述阻挡层之间。本发明利用多层导电结构阻止外部离子扩散进入铜层以及铜层铜离子的向外扩散,从而减少离子扩散对铜金属层的电学性能和化学耐腐蚀性能的不良影响,同时,由于阻挡层与衬底基板或半导体层之间具有良好的粘附性,能够提高导电结构的粘合稳固程度;并且,该导电结构中的各个层都具有类似的刻蚀选择性,有利于对多层导电结构的刻蚀/图案化处理。
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公开(公告)号:CN104362118B
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:CN201410682980.8
申请日:2014-11-24
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L21/67
CPC分类号: H01L21/67051 , B08B3/022 , B08B5/02 , G02F1/1303 , G02F1/1368 , H01L21/67023 , H01L21/6776 , H01L27/1259
摘要: 本发明公开了一种液刀清洗装置,以提高基板的均一性,进而提高产品品质。液刀清洗装置包括:固定于清洗腔室侧壁的防溅罩;液刀,位于防溅罩的下方;斜挡板,位于防溅罩和液刀之间,斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接,斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。斜挡板可将液刀和传送滚轮上的基板与大部分水汽隔离,滴落在斜挡板上的液滴可沿斜挡板的斜面流下,而不会滴落在液刀尚未冲洗的基板上。相比于现有技术,本方案可大大减少液滴对基板均一性的影响,从而提高了产品品质。
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公开(公告)号:CN105080877A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201510325938.5
申请日:2015-06-11
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号: H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/67253 , H01L21/6776 , H01L27/1244 , H01L27/1259 , H01L27/1262 , B08B3/02 , B08B5/02
摘要: 本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种用于湿法刻蚀的清洁系统。该清洁系统包括清洁单元以及依次连通的刻蚀区间、缓冲区间及清洗区间;在所述清洗区间的入口设有气刀单元,所述清洁单元与所述气刀单元对应设置,用于清洗所述气刀单元。该清洁系统通过清洁单元有效地去除附着在气刀刀口及周边的刻蚀液结晶和灰尘颗粒;该清洁系统能够代替人工对气刀的清洁,提高设备的稼动率,且在确保清洁效果的同时,最大限度的减少人力浪费,同时能避免因长时间打开设备腔室而造成设备内颗粒增加,影响产品的良率。
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公开(公告)号:CN104525541A
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201410636109.4
申请日:2014-11-11
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号: B08B3/048 , B08B3/10 , B65D13/02 , B65D25/04 , B65D25/38 , C03C23/0075 , B08B11/04 , B08B13/00
摘要: 本发明公开一种玻璃基板清洗箱,涉及玻璃基板的清洗技术领域,能够解决药液浪费的技术问题。该清洗箱由顶面、底面和侧面围成密闭的箱体,箱体上设有进水孔、出水孔和排气孔,箱体的两个相对内侧面之间固设有隔板,隔板将箱体分割成两个底部相连通的腔体。本发明实施例中的清洗箱不会使泡沫随气体排出到箱体外部,能够有效减少药液的浪费,进而延长药液的使用时间。
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公开(公告)号:CN109764247A
公开(公告)日:2019-05-17
申请号:CN201910245737.2
申请日:2019-03-28
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: F17D5/02
摘要: 本发明提供了一种液体检漏装置,涉及检漏技术领域。其中,液体检漏装置包括柔性基板和处理模块;柔性基板上设置有多个分立的电极;处理模块与电极电连接;处理模块用于监测柔性基板上各个电极的电阻值,当检测到目标电极从第一电阻值变为第二电阻值时,确定出现漏液情况,根据目标电极的目标位置和/或第二电阻值,确定漏液液滴的物理参量,根据物理参量,确定漏液液滴的液体种类。本发明中,处理模块可以监测柔性基板上的电极电阻值,当目标电极的电阻值发生变化时,确定出现漏液,进而可根据目标电极的目标位置和/或变化后的电阻值,确定漏液液滴的物理参量,并根据该物理参量及时判断出漏液种类,从而提高了对不同液体种类的漏液检测效率。
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公开(公告)号:CN104835767A
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201510260667.X
申请日:2015-05-20
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要: 本发明提供一种湿法刻蚀机及采用该刻蚀机进行刻蚀的方法。该湿法刻蚀机包括刻蚀腔室,所述刻蚀腔室内设置有至少两个刻蚀层,各个所述刻蚀层由上至下依次层叠设置,且每一所述刻蚀层包括:用于放置及传送待刻蚀基板的第一传送载体以及设置于所述第一传送载体正上方、用于喷涂刻蚀药液的喷淋装置。采用该刻蚀机及其方法,能够解决现有技术的湿法刻蚀机,当生产工艺中需要总刻蚀时间大于基板不停留情况下的传送时间时,需要增加停留时间造成刻蚀的生产节拍降低,或者需要增加串联刻蚀腔室的个数,造成占地面积较大的问题。
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公开(公告)号:CN104362118A
公开(公告)日:2015-02-18
申请号:CN201410682980.8
申请日:2014-11-24
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L21/67
CPC分类号: H01L21/67051 , B08B3/022 , B08B5/02 , G02F1/1303 , G02F1/1368 , H01L21/67023 , H01L21/6776 , H01L27/1259 , H01L2221/67
摘要: 本发明公开了一种液刀清洗装置,以提高基板的均一性,进而提高产品品质。液刀清洗装置包括:固定于清洗腔室侧壁的防溅罩;液刀,位于防溅罩的下方;斜挡板,位于防溅罩和液刀之间,斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接,斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。斜挡板可将液刀和传送滚轮上的基板与大部分水汽隔离,滴落在斜挡板上的液滴可沿斜挡板的斜面流下,而不会滴落在液刀尚未冲洗的基板上。相比于现有技术,本方案可大大减少液滴对基板均一性的影响,从而提高了产品品质。
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公开(公告)号:CN115312544A
公开(公告)日:2022-11-08
申请号:CN202211057112.1
申请日:2022-08-31
申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L27/12 , H01L21/77 , G02F1/133 , G02F1/1362
摘要: 本发明实施例提供一种显示基板、制作方法和显示装置。显示基板包括衬底基板和设置于衬底基板的周边区域的驱动模组;显示基板还包括扫描线、数据线和第一晶体管;扫描线、数据线和第一晶体管都设置于所述显示区域内;扫描线沿第一方向延伸,数据线沿第二方向延伸,第一方向与第二方向相交;第一晶体管的第一极和所述数据线耦接,第一晶体管包括第一半导体层;驱动模组包括多个第二晶体管和形成于第一金属层的连接线,至少一个第二晶体管与所述连接线耦接,第二晶体管包括第二半导体层,连接线与衬底基板之间不设置有所述第二半导体层。
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