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公开(公告)号：CN100377004C
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN02127001.5
申请日：2002-07-25
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： C07D217/10 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , C07D211/42 , C07D211/46 , C07D295/037 , C07D295/073 , C07D295/096 , C07D295/108 , C07D295/155 , C07D295/192 , C07D471/06 , C07D471/10 , C07D487/10 , Y10S430/165
摘要： 一种影象形成材料包括由不溶于水而溶解于碱的树脂、光-热转化剂和由通式(1)表示的化合物组成的影象形成层。在通式(1)中，R1～R3独立地表示有机基团，这里R1表示形成含N1原子环的残基，R2和R3可以互相键合形成一个环，或者R2和R3中至少一个和R1键合，形成环，而X-表示有机酸或无机酸的共轭碱。含N1原子的环优选是哌啶环。
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公开(公告)号：CN102822746A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180015598.6
申请日：2011-03-25
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
摘要： 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
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公开(公告)号：CN1517206A
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：CN200410002932.6
申请日：2004-01-20
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： B41C1/1016 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/26 , B41C2210/262 , B41C2210/266
摘要： 本发明的一种平版印刷版前体包括：亲水性载体，按此顺序安置在亲水性载体上的下层和图像记录层。下层包括：水不溶性且碱溶性的树脂，并且其中图像记录层包括线型酚醛清漆型酚醛树脂：其具有酚作为其结构单元和光热转化剂，且在暴露在红外激光下时显示在碱性水溶液中增强的溶解度。
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公开(公告)号：CN102812400B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201180015971.8
申请日：2011-03-25
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
摘要： 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法，从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物，所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
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公开(公告)号：CN103229102A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201180057434.X
申请日：2011-11-29
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/40 , Y10T428/24802
摘要： 一种负型图案形成方法，包含：（i）由化学增幅型抗蚀剂组成物形成膜厚度为大于或等于200纳米的膜，所述化学增幅型抗蚀剂组成物含有（A）树脂、（B）化合物以及（C）溶剂，其中所述树脂（A）能够藉由酸的作用提高树脂（A）的极性而使树脂（A）对含有一或多种有机溶剂的显影剂的溶解性降低，所述化合物（B）能够在用光化射线或辐射照射后产生酸；（ii）使所述膜曝光从而形成经曝光的膜；以及（iii）用含有一或多种有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN102812400A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201180015971.8
申请日：2011-03-25
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
摘要： 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法，从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物，所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
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公开(公告)号：CN106200268A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610793819.7
申请日：2011-03-25
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
摘要： 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时分解产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
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公开(公告)号：CN102844710B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
摘要： 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN102844710A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
摘要： 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN100346965C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200410003392.3
申请日：2004-01-29
申请人： 富士胶片株式会社
发明人： 岩户薰
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/165
摘要： 本发明涉及成像材料，其在基底上具有成像层，该成像层至少包括(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)特定的铵盐化合物或特定的鎓盐。
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