在薄膜太阳能电池制造过程中控制基板温度的方法与设备

    公开(公告)号:CN101720495B

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN200880022635.4

    申请日:2008-07-24

    CPC classification number: H01L21/67236 H01L21/67201

    Abstract: 本发明提供在薄膜太阳能电池制造过程中控制基板温度的方法及设备。方法包括在第一腔室中于基板上执行温度稳定化工艺,以预热基材一段时间;计算第二腔室的等待时间,其中所述等待时间是依据所述第二腔室的可用率、用以将基板从第一腔室传送至第二腔室的真空传送机械手的可用率,或所述第二腔室与所述真空传送机械手两者的可用率所计算而得;以及,调整所述温度稳定化时间,以补偿在所述等待时间过程中基板损失的热量。

    动态控制微晶硅生长期间的温度的方法

    公开(公告)号:CN101821854B

    公开(公告)日:2012-11-07

    申请号:CN200880110922.0

    申请日:2008-10-03

    Inventor: 蔡容基 崔寿永

    Abstract: 本发明大体包括一种在微晶硅沉积期间用以动态控制太阳能电池基板的温度的方法。在非晶硅/微晶硅串接太阳能电池中,微晶硅可以使用比非晶硅更高的功率密度来沉积,并且被沉积到比非晶硅更厚的厚度。所施加的功率密度越高,沉积速度越快,但沉积温度可能也会增加。在高温时,掺杂质扩散进入太阳能电池的本征层且破坏太阳能电池的可能性更大。通过动态控制载座的温度,基板以及因此掺杂质都可以被维持在掺杂质会扩散进入本征层的温度以下的实质恒定温度。动态温度控制允许微晶硅能以高功率密度来沉积而不会破坏太阳能电池。

    用于基板处理设备的基板托盘传送系统

    公开(公告)号:CN115335977A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202080098832.5

    申请日:2020-03-26

    Abstract: 提供用于基板处理系统的传送机器人的方法和设备,基板处理系统包括耦接到多个处理腔室的传送腔室。传送腔室包含:传送机器人,传送机器人包含基底,基底耦接至支撑杆;以及托盘盒,托盘盒固定至基底,其中托盘盒包含第一托盘载体与第二托盘载体,第一托盘载体用于固持第一托盘并将第一托盘从托盘盒传送至多个处理腔室中的一个处理腔室中的基座,第二托盘载体堆叠在第一托盘载体上,第二托盘载体用于固持第二托盘,其中第一托盘载体与第二托盘载体中的每一个包含多个摩擦减小装置。

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