半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN105789307B

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN201510821859.3

    申请日:2015-11-23

    摘要: 在不增加半导体芯片的面积尺寸的情况下,改善了半导体器件的性能。例如,功率晶体管的源极电极和电容元件的上部电极具有重叠部分。换而言之,电容元件的上部电极通过电容绝缘膜在功率晶体管的源极电极之上形成。即,功率晶体管和电容元件在半导体芯片的厚度方向上以层压的方式布置。结果就是,可以在抑制半导体芯片的平面尺寸增加的同时增加与功率晶体管电连接的电容元件。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN104111132B

    公开(公告)日:2018-11-20

    申请号:CN201410155975.1

    申请日:2014-04-17

    IPC分类号: G01L1/20

    摘要: 本发明的目的在于抑制当环境温度改变时可以引起的由压力传感器检测到的数值的误差。半导体衬底具有第一导电类型。半导体层形成在半导体衬底的第一表面之上。每个电阻部件都具有第二导电类型,并且形成在半导体层中。电阻部件相互间隔开。隔离区域是形成在半导体层中的第一导电类型的区域,并且将电阻部件相互电隔离开。凹陷部分形成在半导体衬底的第二表面中,并且当平面地观察时凹陷部分与电阻部件重叠。半导体层是外延层。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN104111132A

    公开(公告)日:2014-10-22

    申请号:CN201410155975.1

    申请日:2014-04-17

    IPC分类号: G01L1/20

    摘要: 本发明的目的在于抑制当环境温度改变时可以引起的由压力传感器检测到的数值的误差。半导体衬底具有第一导电类型。半导体层形成在半导体衬底的第一表面之上。每个电阻部件都具有第二导电类型,并且形成在半导体层中。电阻部件相互间隔开。隔离区域是形成在半导体层中的第一导电类型的区域,并且将电阻部件相互电隔离开。凹陷部分形成在半导体衬底的第二表面中,并且当平面地观察时凹陷部分与电阻部件重叠。半导体层是外延层。