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    Ion source
    11.
    发明公开
    Ion source 审中-公开
    Ionenquelle

    公开(公告)号：EP2426693A2

    公开(公告)日：2012-03-07

    申请号：EP11009107.1

    申请日：2000-12-13

    申请人： Semequip, Inc.

    发明人： The designation of the inventor has not yet been filed

    IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J3/02 ,  H01J37/317

    CPC分类号： H01J37/3171 ,  C23C14/48 ,  H01J27/205 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/049 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/0812 ,  H01J2237/0815 ,  H01J2237/082 ,  H01J2237/083 ,  H01J2237/0835 ,  H01J2237/31701 ,  H01J2237/31703 ,  H01J2237/31705 ,  H01L21/26513 ,  H01L21/2658 ,  H01L21/823814

    摘要： In an ion source (1) for use with an ion implant device comprising:
    an ionization chamber (5) defined by a plurality of side walls defining an ionization volume (16), one (13) of said side walls including an ion extraction aperture (37) for enabling an ion beam to be extracted from said ionization chamber (16) along a predetermined axis defining an ion beam axis; and a gas source (2) in fluid communication with said ionization chamber (16); an electron source (12) for producing an electron beam for ionizing the gas in said ionization chamber (16); said electron source (12) has an emitter (33) external to the ionization volume (16) and one (13) of said sidewalls (13) includes an electron entrance aperture , said emitter (33) configured relative to said aperture to cause an electron beam (32) to be directed across the ionization chamber (16) and ionize said gas by direct electron impact ionization by energetic electrons

    摘要翻译： 1.一种用于离子注入装置的离子源（1），包括：由限定电离体积（16）的多个侧壁限定的电离室（5），所述侧壁中的一个（13）包括离子提取孔 （37），用于使离子束能够沿着限定离子束轴的预定轴从所述电离室（16）中提取; 和与所述电离室（16）流体连通的气体源（2）; 用于产生用于电离所述电离室（16）中的气体的电子束的电子源（12）。 所述电子源（12）具有在电离体积（16）外部的发射极（33），并且所述侧壁（13）中的一个（13）包括电子入射孔，所述发射器（33）相对于所述孔配置， 电子束（32）被引导穿过电离室（16），并通过能量电子的直接电子轰击电离使所述气体电离

    Ion source
    12.
    发明公开
    Ion source 审中-公开
    离子源

    公开(公告)号：EP2426692A2

    公开(公告)日：2012-03-07

    申请号：EP11008982.8

    申请日：2001-06-12

    申请人： Semequip, Inc.

    发明人： Horsky, Thomas N. ,  Cohen, Brian C. ,  Krull, Wade A. ,  Sacco, George P. Jr.

    IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/317

    CPC分类号： H01J27/205 ,  H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0473 ,  H01J2237/0475 ,  H01J2237/0812 ,  H01J2237/082

    摘要： In an ion source including an ionization chamber defining an enclosed volume having a gas inlet for receiving a feed gas, an exit aperture for enabling ions to exit said ionization chamber defining an ion beam along an ion beam axis, and an electron source for generating electrons in order to ionize said feed gas in said ionization chamber, said exit aperture is formed as an elongated slot for generating a ribbon beam.

    摘要翻译： 在包括电离室的离子源中，该电离室限定了封闭体积，该封闭体积具有用于接收供给气体的气体入口，用于使得离子能够离开所述电离室的离开孔，从而沿离子束轴限定离子束，以及用于产生电子的电子源 为了离子化所述电离室中的所述进料气体，所述出口孔形成为用于生成带状束的细长槽。