公开(公告)号：EP1491959A1

公开(公告)日：2004-12-29

申请号：EP04016711.6

申请日：2002-09-06

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Leenders, Martinus Hendrikus Antonius ,  Moors, Johannes Hubertus Josephina ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Gilissen, Noud Jan ,  Eurlings, Markus Francisucs Antonius

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558

摘要： An illumination intensity adjustment device 10 comprises a plurality of blades 11 disposed in the projection beam PB so as to cast half-shadows extending across the illumination field IF. The blades can be selectively rotated to increase their width perpendicular to the projection beam PB to control uniformity.

摘要翻译： 该装置具有设置在辐射系统中的强度调节装置（10），并且包括具有盲部的叶片（11），所述叶片具有将半暗带放置在照明场的中心部分。 半圆形在围绕照明场的中心线的扫描方向上是对称的。 刀片可旋转以改变其在投影梁（PB）中的有效面积。 对于器件制造方法也包括独立权利要求。

公开(公告)号：EP1477855A1

公开(公告)日：2004-11-17

申请号：EP04076407.8

申请日：2004-05-12

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Franken, Dominicus Jacobus Petrus Adrianus ,  Box, Wilhelmus Josephus ,  Van Dijsseldonk, Antonius Johannes Josephus ,  Leenders, Martinus Hendrikus Antonius ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Smits, Josephus Jakobus ,  Van der Wijst, Marc Wilhelmus Maria

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/709 ,  G03F7/70991

摘要： A lithographic projection apparatus contains a projection system for projecting a patterned beam onto a target portion of the substrate. The projection system contains one or more optically active mirrors (20) and heat shields (22,28,29) specifically located for intercepting heat radiation to or from the mirrors and/or their support structure (26). The heat shields are actively cooled and the mirrors and the heat shields and the mirrors are supported separately on a support frame to reduce vibration of the mirrors due to active cooling. The heat shields preferably include heat shields that intercept heat radiation to or from the support structure and/or respective heat shields for individual mirrors that intercept heat radiation to or from the mirrors.

摘要翻译： 光刻投影设备包含用于将图案化的束投影到衬底的目标部分上的投影系统。 投影系统包含一个或多个光学有源反射镜（20）和隔热屏（22,28,29），该隔热屏专门设置用于拦截去往或来自反射镜和/或它们的支撑结构（26）的热辐射。 隔热罩被主动冷却，反射镜和隔热罩以及反射镜分别支撑在支撑架上，以减少由于主动冷却引起的反射镜振动。 隔热罩优选地包括热屏蔽件，该隔热罩拦截进入或来自支撑结构的热辐射和/或用于单个镜子的相应热屏蔽件，所述单个镜子拦截去往或来自镜子的热辐射。

公开(公告)号：EP1477850A1

公开(公告)日：2004-11-17

申请号：EP03076433.6

申请日：2003-05-13

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Franken, Dominicus Jakobus Petrus Adrianus ,  Box, Wilhelmus Josephus ,  Van Dijsseldonk, Antonius Johannes Josephus ,  Leenders, Martinus Hendrikus Antonius ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Smits, Josephus Jacobus ,  van der Wijst, Marc Wilhelmus Maria

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/709 ,  G03F7/70991

摘要： A lithographic projection apparatus contains a projection system for projecting a patterned beam onto a target portion of the substrate. The projection system contains one or more optically active mirrors (20) and heat shields (22,28,29) specifically located for intercepting heat radiation to or from the mirrors and/or their support structure (26). The heat shields are actively cooled and the mirrors and the heat shields and the mirrors are supported separately on a support frame (MF) to reduce vibration of the mirrors due to active cooling. The heat shields preferably include heat shields that intercept heat radiation to or from the support structure and/or respective heat shields for individual mirrors that intercept heat radiation to or from the mirrors.

摘要翻译： 光刻投影设备包含用于将图案化的束投影到衬底的目标部分上的投影系统。 投影系统包含一个或多个光学有源反射镜（20）和隔热屏（22,28,29），该隔热屏专门设置用于拦截去往或来自反射镜和/或它们的支撑结构（26）的热辐射。 隔热罩被主动冷却，反射镜和隔热罩以及反射镜分别支撑在支撑架（MF）上，以减少由于主动冷却引起的反射镜振动。 隔热罩优选地包括热屏蔽件，该隔热罩拦截进入或来自支撑结构的热辐射和/或用于单个镜子的相应热屏蔽件，所述单个镜子拦截去往或来自镜子的热辐射。

公开(公告)号：EP1429188A3

公开(公告)日：2004-10-13

申请号：EP03257068.1

申请日：2003-11-10

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Lof, Joeri ,  Bijlaart, Erik Theodorus Maria ,  Butler, Hans ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Kolesnychenko, Aleksey ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Meijer, Hendricus Johannes Maria ,  Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria ,  Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Ritsema, Roelof Aeilko Siebrand ,  Van Schaik, Frank ,  Sengers, Timotheus Franciscus ,  Simon, Klaus ,  De Smit, Joannes Theodoor ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob ,  Van Santen, Helmar

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which the space between the final element of the projection system and the substrate is filled with a liquid. An edge seal member 17, 117 at least partly surrounds the substrate W or other object on the substrate table WT to prevent catastrophic liquid loss when edge portions of the substrate or are imaged or illuminated.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影设备，其中投影系统的最终元件和衬底之间的空间填充有液体。 边缘密封构件17,117至少部分地围绕衬底W或衬底台WT上的其他物体，以防止当衬底的边缘部分成像或照射时的灾难性液体损失。

公开(公告)号：EP1420299A2

公开(公告)日：2004-05-19

申请号：EP03257071.5

申请日：2003-11-10

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Lof, Joeri ,  Derksen, Antonius Theodorus Anna Maria ,  Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria ,  Sengers, Timotheus Franciscus

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916

摘要： In a lithographic projection apparatus a liquid supply system maintains liquid in a space between the final element of the projection system and the substrate of the lithographic projection apparatus. A shutter member (150) is provided to take the place of the substrate in containing the liquid (11) in the liquid supply system during substrate exchange.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，液体供应系统将液体保持在投影系统的最终元件和光刻投影装置的基板之间的空间中。 在基板更换期间，设置有挡板部件（150）以取代基板以将液体（11）容纳在液体供应系统中。

公开(公告)号：EP1117010A3

公开(公告)日：2004-03-24

申请号：EP01300255.5

申请日：2001-01-12

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Groeneveld, Rogier Herman Mathijs ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Burghoorn, Jacobus ,  Levasier, Leon Martin ,  Straaijer, Alexander

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7019 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7034

摘要： In a lithographic apparatus, a reference grating 11 mounted on the wafer table WT is illuminated with a measurement beam 20 incident in a direction independent of wafer table tilt. The diffraction orders are detected by detector 30 and used to determine the lateral shift in the wafer table resulting from a non-zero Abbe arm, and hence the Abbe arm, for calibration purposes. The detector 30 may be a detector also used for off-axis alignment of the wafer and wafer table.

公开(公告)号：EP1278089A3

公开(公告)日：2004-02-04

申请号：EP02254927.3

申请日：2002-07-12

申请人： ASML Netherlands B.V. ,  CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG

发明人： Loopstra, Erik Roelof ,  Franken, Dominicus Jacobus Petrus Adrianus ,  Smits, Josephus Jacobus ,  Van Dijsseldonk, Antonius Johannes Josephus ,  Moors, Johannes Hubertus Josephina ,  Hof, Albrecht ,  Maul, Günter ,  Muhlbeyer, Michael ,  Mehlkopp, Klaus

IPC分类号： G02B7/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G02B7/008 ,  G02B7/02 ,  G03F7/70833

摘要： A lithographic projection apparatus in which the projection system comprises a plurality of optical elements or sensors mounted on a frame. The frame is made of a glass ceramic material with a coefficient of thermal expansion of less than or approximately equal to 0.1 x 10 -6 K -1 thereby avoiding the need for expensive cooling systems and/or predictive temperature compensation.

摘要翻译： 光学系统，特别是用于半导体光刻的照明物镜具有多个光学元件（2），至少一个负载轴承结构（3），其用于偏转与光学元件远离的力（包括重量）和测量结构（5） ）与承载结构无关。 本发明还涉及用于改变本发明的光学系统中的物体或图像的位置的相应方法，由此至少对于物体的已知位置和目标定位，光学元件的位置相对于测量结构而改变 的图像相对于测量结构。

公开(公告)号：EP1865291B1

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：EP07016985.9

申请日：2007-03-09

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Klaver, Renatus Gerardus ,  Van der Pasch, Engelbertus Antonius Fransiscus ,  Loopstra, Erik Roelof

IPC分类号： G03F7/20 ,  G01D5/38

CPC分类号： G01D5/38 ,  G03F7/70775

公开(公告)号：EP1401248B1

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：EP03255825.6

申请日：2003-09-17

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Koshelev, Konstantin Nikolaevitch ,  Banine, Vadim Yevgenyevich ,  Ivanov, Vladimir Vital'evitch ,  Kieft, Erik Rene ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Stevens, Lucas Henricus, Johannes ,  Sidelkov, Yurii Victorovitch ,  Koloshnikov, Vsevolod Grigorevitch ,  Krivtsun, Vladimir Mihailovitch ,  Gayazov, Robert Rafilevitch ,  Frijns, Olav Waldemar Vladimir

IPC分类号： H05G2/00 ,  G03F7/20 ,  F28D15/04 ,  F28D15/02 ,  F28D15/06

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  F28D15/0266 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005

公开(公告)号：EP1420299B1

公开(公告)日：2011-01-05

申请号：EP03257071.5

申请日：2003-11-10

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Lof, Joeri ,  Derksen, Antonius Theodorus Anna Maria ,  Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria ,  Sengers, Timotheus Franciscus

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916