摘要:
A method for patterning a substrate. The method includes wet etching a metalized substrate within a reaction vessel by contacting the metalized surface with oxidizing and metal complexing agents to remove metal from an unpatterned region. The method further includes maintaining the concentrations of the oxidizing and metal complexing agents in an etchant bath by delivering a replenishment feed of each of the oxidizing and metal complexing agents to the etchant bath. The method further includes and maintaining the concentration of the metal in the etchant bath by discharging an amount of the etchant bath from the reaction vessel. The first and second replenishment feed rates and the etchant bath removal rate are determined based at least in part on a rate that metal etched from the substrate enters the etchant bath.
摘要:
The invention concerns a device for chemically etching an electrically conductive layer (2) on a transparent substrate (1), comprising means for supporting (4) the substrate (1) and means for spraying (5) a solution. The invention is characterized in that the spraying means (5) consist of a plurality of nozzles (50) which are arranged above the substrate and which are designed to spray simultaneously on the layer to be etched at least two solutions (7, 8), either independently of each other, or in the form of a mixture provided at the nozzles.
摘要:
The present invention provides a method of forming a circuit pattern on an integrally bonded member, the method not requiring a correction step of a laminate film or a resist film which has been necessary at the time of wet treatment of the integrally bonded member. After a circuit pattern forming metal plate 13 is bonded on a part of a ceramic substrate 12 so as to expose an outer peripheral edge portion of the ceramic substrate 12 in an integrally bonded member 10, the integrally bonded member 10 is set on a treating apparatus 30 while being covered with a masking member 20 having a window portion 22 from which the circuit pattern forming metal plate 13 of the integrally bonded member 10 is exposed. Further, the integrally bonded member 10 is pressed with an appropriate pressure from a base plate 11 side so that a boundary surface between a portion 23 surrounding the window portion in the masking member and an exposed surface 16 of the ceramic substrate which is exposed in a metal-ceramic bonded member 14 has a state not allowing a liquid to pass therethrough. Thereafter, a treatment solution 33 for wet treatment is injected from an injection pipe 35 to be in contact with the circuit pattern forming metal plate 13.
摘要:
An aluminum layer supported on a web of flexible polymeric material, especially a microwave transparent material, or a self-supporting aluminum web is continuously selectively metallized by applying to the web a pattern of aqueous sodium hydroxide resistant material, immersing and passing the patterned web through a bath of aqueous sodium hydroxide solution to completely remove the etchable metal from non-protected areas of the web, and washing and drying the demetallized web. When an aluminum layer is supported on the flexible web, it is preferred that there is an intervening adhesive layer and that a detackifying layer is applied to the adhesive layer exposed by the demetallization.
摘要:
L'invention décrit la démétallisation sélective d'une couche de métal pouvant être attaqué chimiquement et supportée par un matériau polymère ou un autre matériau transparent pouvant être attaqué par des micro-ondes, ou bien d'une couche de métal autonome pouvant être attaqué chimiquement, particulièrement d'aluminium, d'une épaisseur d'au moins 1 micron adhérant à un substrat de matériau polymère souple. Une bande de matériau polymère porte la couche de métal pouvant être attaqué chimiquement, ou une couche de métal autonome pouvant être attaqué chimiquement. Sur ladite bande est d'abord appliqué un motif de matériau résistant au réactif d'attaque, puis on immerge ensuite la bande et on la fait passer dans un bain de réactif d'attaque aqueux, en particulier une solution d'hydroxyde de sodium aqueuse et chaude, pendant une durée au moins suffisante pour supprimer entièrement le métal pouvant être attaqué chimiquement des zones non protégées de la bande. On lave et on sèche la bande démétallisée. L'invention décrit également les structures spécifiques contenant la couche de métal pouvant être attaqué chimiquement qui a été démétallisée sélectivement.
摘要:
The invention provides an apparatus and method for spraying a single side of a printed circuit board (11) with a reactive spray. The apparatus (10) comprises a conveyor table (14), spray nozzles (38) located below the conveyor table (14) and a protective cover (18) above the conveyor table (14). The printed circuit boards (11) to be sprayed are sandwiched between the cover (18) and the conveyor table (14). The cover (18) prevents reactive spray from contacting top sides of the printed circuit board (11) while also maintaining the boards (11) against the conveyor table (14) such that bottom sides of the boards (11) can be sprayed without risk of reactive spray contacting the top sides of the boards (11) or dislodging the boards (11) from the conveyor table (14) by the upwardly sprayed reactive spray.
摘要:
Des fils ou fibres métalliques ou non métalliques (5), dont le diamètre est relativement petit, sont fixés à une âme cylindrique creuse (3). L'âme est pourvue d'espaces ayant la forme de trous pour le transfert d'électrolyte, qui passe depuis la partie interne creuse du cylindre, le long des fibres, vers le substrat de cuivre se trouvant sur un substrat à motif (1). On utilise des sources électriques ou non électriques. Les fils sont connectés électriquement par le biais du cylindre métallique avec le pôle positif (anode) de la source de puissance en courant continu. Les fibres non conductrices sont en contact direct avec le métal à grave. Dans le dispositif électrique, à l'intérieur du cylindre creux mais sans le toucher, se trouve un cuivre troué ou à mailles, qui est connecté électriquement au pôle négatif (cathode) de l'alimentation de puissance en courant continu. On forme ensuite une cellule entre le stratifié de cuivre et le cuivre troué se trouvant à l'intérieur du cylindre.