PROCEDE DE REALISATION D'UN DETECTEUR BOLOMETRIQUE

    公开(公告)号:EP3401657A1

    公开(公告)日:2018-11-14

    申请号:EP18170940.3

    申请日:2018-05-04

    IPC分类号: G01J5/02 G01J5/20 H01L31/18

    摘要: Procédé de réalisation d'un détecteur (100) bolométrique comprenant :
    - réalisation d'un empilement, sur un niveau d'interconnexion (20) d'un circuit de lecture, comprenant une couche sacrificielle disposée entre une couche support (32) et une couche d'arrêt de gravure (29), la couche sacrificielle comprenant un matériau minéral ;
    - réalisation d'un via (38) conducteur traversant l'empilement tel qu'il soit en contact avec une portion conductrice (21) dudit niveau d'interconnexion ;
    - dépôt d'une couche conductrice sur la couche support et le via ;
    - gravure de la couche conductrice et de la couche support, formant une membrane (54) de bolomètre reliée électriquement au via par une portion restante (44) de la couche conductrice qui recouvre une partie supérieure (40) du via ;
    - suppression de la couche sacrificielle par une gravure chimique sélective, et telle que la membrane soit suspendue par le via.

    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF DE DÉTECTION À DEUX SUBSTRATS ET UN TEL DISPOSITIF DE DÉTECTION

    公开(公告)号:EP3441734A1

    公开(公告)日:2019-02-13

    申请号:EP18187051.0

    申请日:2018-08-02

    发明人: LEDUC, Patrick

    IPC分类号: G01J5/04 G01J5/02 H01L21/00

    摘要: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif de détection (1) de rayonnements électromagnétiques. Le procédé comporte les étapes de : fourniture d'un premier substrat (400) comportant un circuit de lecture (340), au moins deux premiers plots de contact (343, 344) et au moins un premier élément de collage annulaire (345) entourant les premiers plots de contact (343, 344) ; fourniture d'un deuxième substrat comportant un capot (210), une paroi latérale annulaire formant avec le capot (210) une cavité emplie d'un matériau sacrificiel et une structure de détection (100) logée dans ladite cavité. Le procédé comportant en outre les étapes de collage du deuxième substrat (200) sur le premier substrat (400) ; aménagement d'au moins une ouverture (212) dans le deuxième substrat (200) ; suppression sélective du matériau sacrificiel; et fermeture de ladite ouverture (212) sous vide au moins primaire.