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公开(公告)号：EP3216753A1
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：EP17159400.5
申请日：2017-03-06
发明人： GHIS, Anne , DELAUNAY, Marc
CPC分类号： B81B3/0089 , B81B3/0075 , B81B2201/02 , B81B2201/0264 , B81B2201/03 , B81B2201/06 , B81B2203/0127 , B81B2207/115 , B81C1/00158
摘要： L'invention concerne une membrane en carbone amorphe pour un microsystème électromécanique, la membrane en carbone amorphe présentant une épaisseur comprise enre 1 nm et 50 nm, et de préférence comprise entre 3 nm et 20 nm, dans laquelle la membrane en carbone amorphe présente un taux d'hybridation de type sp 3 compris entre 20% et 40%.
摘要翻译： 本发明涉及用于机电微系统的无定形碳膜，所述无定形碳膜具有1nm至50nm，并且优选3nm至20nm的厚度，其中所述无定形碳膜具有 sp3杂交率在20％至40％之间。
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公开(公告)号：EP2511229B1
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：EP11003088.9
申请日：2011-04-12
CPC分类号： B81B3/0075 , B81C1/00674 , G04B1/145 , G04B13/02 , G04B15/14 , G04B17/063 , G04B17/066 , G04B31/004 , Y10T428/239 , Y10T428/24793
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公开(公告)号：EP2236455A8
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：EP09004887.7
申请日：2009-04-02
申请人： GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH , Manufacture et fabrique de montres et de chronomètres Ulysse Nardin Le Locle S.A. , Diamaze Microtechnology S.A.
IPC分类号： B81B3/00
CPC分类号： B81B3/0075 , B81B2201/035 , B81C2201/112
摘要： Die Erfindung betrifft ein mikromechanisches Bauteil, das mit einem Reibpartner in Kontakt steht, wobei auf mindestens derjenigen Oberfläche, die mit dem Reibpartner in Kontakt steht, eine Abschlussschicht aufgebracht ist, die überwiegend aus einem SP 2 -hybridisiertem -C besteht.
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公开(公告)号：EP3344574A1
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：EP16829011.2
申请日：2016-07-13
发明人： BREWER, Joleyn Eileen , KEIMEL, Christopher Fred , AIMI, Marco Francesco , MINNICK, Andrew James , RUFFALO, Renner Stephen
IPC分类号： B81B3/00
CPC分类号： B81B3/0027 , B81B3/0075 , B81B7/0003 , B81B7/008 , B81B2201/01 , B81B2201/014 , B81B2201/0228 , B81B2203/0118 , B81B2203/0127 , B81B2203/0315 , B81B2203/053 , B81B2207/015 , B81B2207/115 , B81C1/00134 , B81C1/0015 , B81C1/00158 , B81C1/00182 , B81C1/00373 , B81C2201/0107 , G01L9/0042 , G01L9/0044
摘要： A system and method for a micro-electrical-mechanical system (MEMS) device including a substrate and a free-standing and suspended electroplated metal MEMS structure formed on the substrate. The free-standing and suspended electroplated metal MEMS structure includes a metal mechanical element mechanically coupled to the substrate and a seed layer mechanically coupled to and in electrical communication with the mechanical element, the seed layer comprising at least one of a refractory metal and a refractory metal alloy, wherein a thickness of the mechanical element is substantially greater than a thickness of the seed layer such that the mechanical and electrical properties of the free-standing and suspended electroplated metal MEMS structure are defined by the material properties of the mechanical element.
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公开(公告)号：EP2898703A1
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：EP13779329.5
申请日：2013-09-19
IPC分类号： H04R19/00
CPC分类号： H04R19/005 , B81B3/0021 , B81B3/0075 , B81B2201/0257 , B81B2201/0264 , B81B2203/0127 , B81C1/00158 , H01L41/09 , H01L41/0926 , H01L2224/16225 , H01L2224/48091 , H01L2924/1461 , H01L2924/16151 , H01L2924/16152 , H04R1/222 , H04R23/006 , H04R2201/003 , Y10T29/49005 , H01L2924/00014
摘要： A MEMS capacitive transducer with increased robustness and resilience to acoustic shock. The transducer structure includes a flexible membrane supported between a first volume and a second volume, and at least one variable vent structure in communication with at least one of the first and second volumes. The variable vent structure includes at least one moveable portion which is moveable in response to a pressure differential across the moveable portion so as to vary the size of a flow path through the vent structure. The variable vent may be formed through the membrane and the moveable portion may be a part of the membrane, defined by one or more channels, that is deflectable away from the surface of the membrane. The variable vent is preferably closed in the normal range of pressure differentials but opens at high pressure differentials to provide more rapid equalization of the air volumes above and below the membrane.
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6.发明公开Method of manufacturing an electromechanical transducer 审中-公开Verfahren zur Herstellung eines elektromechanischen Wandlers
公开(公告)号：EP2572804A2
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：EP12006480.3
申请日：2012-09-14
发明人： Kato, Ayako , Torashima, Kazutoshi
IPC分类号： B06B1/02
CPC分类号： B06B1/0292 , B81B3/0075 , B81B2201/0221 , B81B2203/0127 , B81B2203/0315 , B81B2203/0392 , H04R19/005 , H04R31/00
摘要： Provided is a method of manufacturing an electromechanical transducer having a reduced variation in a breakdown strength caused by a variation in flatness of an insulating layer. In the method of manufacturing the electromechanical transducer, a first insulating layer (2) is formed on a first substrate (1), a barrier wall (3) is formed by removing a part of the first insulating layer, and a second insulating layer (10) is formed on a region of the first substrate after the part of the first insulating layer has been removed. Next, a gap is formed by bonding a second substrate (18) on the barrier wall, and a vibration film (23) that is opposed to the second insulating layer via the gap is formed from the second substrate. In the forming of the barrier wall, a height on a gap side in a direction vertical to the first substrate becomes lower than a height of a center portion.
摘要翻译： 提供一种制造机电换能器的方法，该机电换能器由绝缘层的平坦度的变化引起的击穿强度的变化减小。 在制造机电换能器的方法中，在第一基板（1）上形成第一绝缘层（2），通过去除第一绝缘层的一部分形成阻挡壁（3），以及第二绝缘层 10）在第一绝缘层的一部分被去除之后形成在第一衬底的区域上。 接下来，通过将第二基板（18）接合在阻挡壁上而形成间隙，并且从第二基板形成经由间隙与第二绝缘层相对的振动膜（23）。 在形成阻挡壁时，与第一基板垂直的方向上的间隙侧的高度比中心部的高度低。
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公开(公告)号：EP2236455A1
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：EP09004887.7
申请日：2009-04-02
申请人： GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH , Manufacture et fabrique de montres et chronomètres Ulysse Nardin Le Locle SA , Diamaze Microtechnology S.A.
IPC分类号： B81B3/00
CPC分类号： B81B3/0075 , B81B2201/035 , B81C2201/112
摘要： Die Erfindung betrifft ein mikromechanisches Bauteil, das mit einem Reibpartner in Kontakt steht, wobei auf mindestens derjenigen Oberfläche, die mit dem Reibpartner in Kontakt steht, eine Abschlussschicht aufgebracht ist, die überwiegend aus einem SP 2 -hybridisiertem -C besteht.
摘要翻译： 微机械部件与与组件表面（9）接触的摩擦配合体连接，组件表面（9）与金刚石与sp 3>杂化碳接触的摩擦配合体接合以形成硅和二氧化硅。 将具有纯金刚石的碳的最终层（2）施加在部件表面上。
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公开(公告)号：EP2572804A3
公开(公告)日：2017-12-27
申请号：EP12006480.3
申请日：2012-09-14
发明人： Kato, Ayako , Torashima, Kazutoshi
IPC分类号： B06B1/02
CPC分类号： B06B1/0292 , B81B3/0075 , B81B2201/0221 , B81B2203/0127 , B81B2203/0315 , B81B2203/0392 , H04R19/005 , H04R31/00
摘要： Provided is a method of manufacturing an electromechanical transducer having a reduced variation in a breakdown strength caused by a variation in flatness of an insulating layer. In the method of manufacturing the electromechanical transducer, a first insulating layer (2) is formed on a first substrate (1), a barrier wall (3) is formed by removing a part of the first insulating layer, and a second insulating layer (10) is formed on a region of the first substrate after the part of the first insulating layer has been removed. Next, a gap is formed by bonding a second substrate (18) on the barrier wall, and a vibration film (23) that is opposed to the second insulating layer via the gap is formed from the second substrate. In the forming of the barrier wall, a height on a gap side in a direction vertical to the first substrate becomes lower than a height of a center portion.
摘要翻译： 提供一种制造机电转换器的方法，该机电转换器具有减小的绝缘层的平坦度变化引起的击穿强度的变化。 在制造机电变换器的方法中，在第一基板（1）上形成第一绝缘层（2），通过去除第一绝缘层的一部分形成阻挡壁（3），并且形成第二绝缘层 10）在所述第一绝缘层的所述部分已被去除之后形成在所述第一衬底的区域上。 接下来，通过将第二基板（18）接合在阻挡壁上形成间隙，并且从第二基板形成隔着间隙与第二绝缘层相对的振动膜（23）。 在形成阻挡壁时，在与第一基板垂直的方向上的间隙侧的高度变得低于中央部分的高度。
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9.发明公开PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE ET LADITE PIÈCE MICROMÉCANIQUE HORLOGÈRE 有权制造定时器微机电零件的方法和称为微机电的钟表零件
公开(公告)号：EP3141520A1
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：EP15184189.7
申请日：2015-09-08
申请人： Nivarox-FAR S.A.
发明人： Dubois, Philippe
CPC分类号： G04B31/08 , B81B3/007 , B81B3/0075 , B81B2201/035 , C23C14/22 , C23C16/45525 , G04B15/14 , G04B19/12
摘要： L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère à partir d'un substrat à base de silicium (1), comprenant, dans l'ordre, les étapes de :
a) se munir d'un substrat à base de silicium (1),
b) former des pores (2) à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère.
L'invention concerne également une pièce micromécanique horlogère comprenant un substrat à base de silicium (1) qui présente, à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1), des pores (2) d'une profondeur d'au moins 10 µm, de préférence d'au moins 50 µm, et plus préférentiellement d'au moins 100 µm, lesdits pores étant agencés pour déboucher à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère摘要翻译： 本发明涉及一种用于由硅基衬底（1）制造制表微机械部件的方法，依次包括以下步骤：a）提供衬底 硅基底（1），b）在所述硅基衬底（1）的至少一部分表面的至少一部分表面上形成深度至少为10μm的孔隙（2），优选 至少50微米，更优选至少100微米，所述孔布置成通向钟表微机械部件的外表面。 本发明还涉及一种制表微机械部件，其包括在所述硅基衬底（1）的至少一部分表面上具有孔（2）的硅基衬底（1） 的深度为至少10μm，优选至少50μm，并且更优选至少100μm，所述孔布置成通向钟表微机械部件的外表面
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公开(公告)号：EP2236455B1
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：EP09004887.7
申请日：2009-04-02
申请人： GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH , Manufacture et fabrique de montres et chronomètres Ulysse Nardin Le Locle S.A. , Diamaze Microtechnology S.A.
IPC分类号： B81B3/00
CPC分类号： B81B3/0075 , B81B2201/035 , B81C2201/112
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