Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements
    5.
    发明公开
    Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements 审中-公开
    韦尔法罕zum Herstellen阴影Halbleiterbauelements

    公开(公告)号:EP2521166A1

    公开(公告)日:2012-11-07

    申请号:EP12002367.6

    申请日:2012-03-30

    IPC分类号: H01L21/56 C23C4/12 H01L21/683

    摘要: Erstellen eines Wafers (2), Aufbringen von Strukturen von Bauelementen (1) auf den Wafer (2), um einen Waferverbund auszubilden, Aufbringen einer Metallschicht (5) auf den Wafer (2), Entfernen der Metallschicht (5) in Nichtkontaktbereichen der Bauelemente (1), Aufbringen von Passivierungsrändem auf die Randbereiche der Bauelemente (1), Aufbringen des Wafers (2) auf eine von einem Spannring gehaltenen Folie (4), Vereinzeln der von der Folie (4) getragenen Bauelemente (1) voneinander aus dem Waferverbund heraus, Auflegen einer abdeckenden Maske (3) auf nicht zu beschichtende Bereiche der von der Folie (4) getragenen vereinzelten Bauelemente (1), Aufbringen einer Metallschicht (5) auf die mit der Maske (3) maskierten vereinzelten Bauelemente (1), Entfernen der Maske (3) und Abnehmen der Bauelemente (1) von der Folie (4) und Weiterbehandeln der vereinzelten Bauelemente (2), bei dem das Aufbringen einer Metallschicht (5) auf die mit der Maske (3) maskierten vereinzelten Bauelemente (1) mittels thermischem Spritzen erfolgt.

    摘要翻译: 将组分(2)和金属层(5)的结构施加到晶片(1)上。 部件的非接触区域中的金属层被去除。 钝化边缘施加在部件的边缘。 晶片由夹紧环膜(4)保持。 部件与晶片组件分离。 将覆盖掩模(3)施加在未涂覆的膜的区域上。 通过热喷涂将金属层施加在组合的掩模上,并除去掩模。 进行薄膜组分的薄化处理和分离的组分。