公开(公告)号：JPWO2009107773A1

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：JP2010500765

申请日：2009-02-27

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 清水　達也 ,  達也 清水 ,  石川　理 ,  理 石川 ,  正祥 大曲 ,  正祥 大曲 ,  突廻　恵介 ,  恵介 突廻

IPC: C08F2/44 ,  C08F257/02 ,  C08K3/00 ,  C08K5/00 ,  C08L101/00

CPC classification number: C08L33/06 ,  C08L2666/04

Abstract: 平均粒子径が20nm〜100μmの粒子であり、ポリマーと顔料とを含むポリマー相を有し、前記ポリマー相中に前記顔料が分散されており、前記粒子内部に少なくとも1つの空隙が形成されているポリマー粒子。また、好ましくは、顔料の含有量が、ポリマー100質量部に対して、3〜80質量部であるポリマー粒子。

公开(公告)号：JPWO2009096603A1

公开(公告)日：2011-05-26

申请号：JP2009551638

申请日：2009-01-30

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 清太郎 服部 ,  清太郎 服部 ,  学 関口 ,  学 関口 ,  小久保　輝一 ,  輝一 小久保 ,  玉木　研太郎 ,  研太郎 玉木 ,  剛 古川 ,  剛 古川 ,  太一 松本 ,  太一 松本 ,  智明 宮本 ,  智明 宮本

IPC: H01L21/76 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01L21/312 ,  C08G77/12 ,  C08G77/80 ,  C08L2203/20 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/316 ,  H01L21/76224

Abstract: 本発明は、トレンチを有する基板上に、下記示性式(1)(H2SiO)n(HSiO1.5)m(SiO2)k(1)(式(1)中、n、mおよびkはそれぞれ数であり、n+m+k=1としたとき、nは0〜0.8であり、mは0〜1.0であり、kは0〜0.2である。)で表され120℃において固体状であるシリコーン樹脂および有機溶媒を含有するシリコーン樹脂組成物を、上記基板のトレンチ内が充填されるように塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜に対し水、アルコールおよび過酸化水素よりなる群から選択される少なくとも1種を接触させる工程ならびに熱処理およびは光処理よりなる群から選択される少なくとも1種の工程を行うことを特徴とするトレンチアイソレーションの形成方法に関する。

公开(公告)号：JPWO2009081692A1

公开(公告)日：2011-05-06

申请号：JP2009547004

申请日：2008-11-25

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 利之 秋池 ,  利之 秋池

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/388 ,  C08L79/08

CPC classification number: G02F1/133788 ,  C08G77/388 ,  G02F1/133719

Abstract: 本発明は、下記式(1)(式(1)中、RIは、水素原子または炭素数1〜40の1価の有機基であり、RII、RIVおよびRVはそれぞれ独立に水素原子、メチル基、シアノ基またはフッ素原子であり、RIが水素原子のときRIIIは炭素数1〜40の1価の有機基であり、RIが水素原子以外であるときRIIIはカルボキシル基である。)で表される化合物と、エポキシ基を有する特定のポリオルガノシロキサンとを反応させて得られる感放射線性ポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤に関する。

公开(公告)号：JPWO2009072632A1

公开(公告)日：2011-04-28

申请号：JP2009544758

申请日：2008-12-05

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 金森　太郎 ,  太郎 金森 ,  吉井　公彦 ,  公彦 吉井 ,  啓介 八島 ,  啓介 八島 ,  幸志 樫下 ,  幸志 樫下

IPC: C08G59/20 ,  C08G59/70 ,  C08G77/14 ,  C08G77/38 ,  C08L63/00 ,  C09D163/00 ,  C09D183/06 ,  C09K3/10 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L33/56

CPC classification number: C08G77/045 ,  C08G59/306 ,  C08G77/06 ,  C08G77/14 ,  C08G77/38 ,  C09D163/00 ,  H01L23/293 ,  H01L23/3135 ,  H01L33/56 ,  H01L2924/0002 ,  H05B33/04 ,  C08L2666/04 ,  H01L2924/00

Abstract: 本発明は、耐紫外線性、透明性に優れ、高い硬度を有する硬化物を得ることができる硬化性組成物、光学素子コーティング用組成物、およびLED封止用材料、ならびにこのような組成物の製造方法を提供することを目的としている。本発明の硬化性組成物は、エポキシ基を含有する有機基を末端に有し、該エポキシ基含有有機基が結合したケイ素に1個または2個の水酸基が結合しており、エポキシ当量が150g/eq.以上、2000g/eq.未満であるエポキシ基末端ポリジメチルシロキサンと硬化剤とを含有することを特徴とする。

公开(公告)号：JPWO2009069724A1

公开(公告)日：2011-04-14

申请号：JP2009543859

申请日：2008-11-20

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 利之 秋池 ,  利之 秋池

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/38 ,  C08J7/04 ,  C08L79/08

CPC classification number: C08G77/38 ,  C09K19/56 ,  G02F1/133719 ,  G02F1/133788

Abstract: 本発明は、下記式(1)(式(1)中、Y1は水酸基、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である。)で表される繰り返し単位を有するポリシロキサン、その加水分解物および加水分解物の縮合物よりなる群から選択される少なくとも1種と、アルケニル基およびアルキニル基よりなる群から選択される少なくとも1種の基を有する桂皮酸誘導体とを反応させて得られる感放射線性ポリシロキサンを含有する液晶配向剤に関する。

公开(公告)号：JPWO2009063726A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：JP2009541082

申请日：2008-10-21

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 米倉　勇 ,  勇 米倉 ,  史恵 本多 ,  史恵 本多 ,  伊藤　泰弘 ,  泰弘 伊藤 ,  優嗣 新美 ,  優嗣 新美

IPC: C08F6/06

CPC classification number: G03F7/26 ,  C08F6/003 ,  C08F6/02 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0397

Abstract: 本発明の目的は、溶剤の使用量が少なく、不純物となる低分子成分や金属成分を効率よく除去することができ、分子量分布の狭い樹脂を容易に製造することができるフォトレジスト用樹脂の製造方法を提供することである。本フォトレジスト用樹脂の製造方法は、溶剤の存在下で重合性化合物を重合させることにより、フォトレジスト用樹脂を製造するものであって、(1)フォトレジスト用樹脂を含有する樹脂溶液を調製する樹脂溶液調製工程と、(2)前記樹脂溶液を、限外濾過膜を用いて精製する精製工程と、を備える。

公开(公告)号：JPWO2009057484A1

公开(公告)日：2011-03-10

申请号：JP2009539020

申请日：2008-10-21

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 宏和 榊原 ,  宏和 榊原 ,  誠 志水 ,  誠 志水 ,  岳彦 成岡 ,  岳彦 成岡 ,  芳史 大泉 ,  芳史 大泉 ,  健太郎 原田 ,  健太郎 原田 ,  琢磨 江畑 ,  琢磨 江畑

IPC: G03F7/004 ,  C08F220/16 ,  C08F220/22 ,  C08F220/38 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08L2312/06 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38

Abstract: 本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と液浸露光用液体との後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物及びそれに用いられる重合体を提供することである。本組成物は、重合体、酸不安定基を含有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するものであって、前記重合体は、下記式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を含有する。〔R1及びR2は、各々、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示し、R3は少なくとも一つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数4〜20の脂環式炭化水素基若しくはその誘導体を示し、Zは光照射により酸を発生する基を含有する基を示す。〕

公开(公告)号：JPWO2009041708A1

公开(公告)日：2011-01-27

申请号：JP2009534461

申请日：2008-09-25

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 利之 秋池 ,  利之 秋池 ,  西川　通則 ,  通則 西川

IPC: G02F1/1337 ,  C08G59/40

CPC classification number: C08G59/4042 ,  C09J163/00 ,  G02F1/133711 ,  G02F1/133788

Abstract: (A)下記式(1−1)(式(1−1)中、R1は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数5〜50の脂環式基であり、これらアルキル基または脂環式基の水素原子の一部または全部はフッ素原子、シアノ基またはアリール基で置換されていてもよい。)で表される化合物に代表される特定の化合物、(B)一分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物、ならびに(C)ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種を含む重合体を含有する液晶配向剤。

公开(公告)号：JPWO2009041556A1

公开(公告)日：2011-01-27

申请号：JP2009534394

申请日：2008-09-26

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 西村　幸生 ,  幸生 西村 ,  拡 宮田 ,  拡 宮田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041

Abstract: 本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(1)及び下記一般式(2)で表される繰り返し単位(2)を有する重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有するものであり、解像性能に優れるだけでなく、LWRが小さく、PEB温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れたレジスト膜を形成可能な感放射線性組成物である。(一般式(1)及び一般式(2)において、R1は互いに独立して、メチル基等を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基等を示し、R3は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)

公开(公告)号：JPWO2009031389A1

公开(公告)日：2010-12-09

申请号：JP2009531171

申请日：2008-08-12

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 彰浩 竹村 ,  彰浩 竹村 ,  充 目野 ,  充 目野 ,  裕司 下山 ,  裕司 下山 ,  裕貴 仕田 ,  裕貴 仕田

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、(A)スルホン酸基を有する水溶性高分子と、(B)アミノ酸と、(C)砥粒と、(D)酸化剤と、を含む。