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公开(公告)号：JPWO2009078335A1
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：JP2009546234
申请日：2008-12-11
IPC: C07C309/06 , C07C381/12 , C07D333/46 , C08F220/28
CPC classification number: C07C309/06 , C07C25/18 , C07C43/225 , C07C69/712 , C07C69/76 , C07C69/96 , C07C205/12 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D333/78 , C07D335/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 下記一般式(1)であらわされるスルホン酸塩である。(Rfはそれぞれ独立にフッ素原子または炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、R1は炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、R2はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはフッ素原子で置換されても良い炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基を示す。mは0〜3の整数、nは1〜3の整数を示す。Mk+はk価の陽イオンを示し、kは1〜4の整数を示す。)
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公开(公告)号：JPWO2009051088A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：JP2009538082
申请日：2008-10-14
IPC: C07C309/19 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C381/12 , C07C309/19 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 一般式(1)で表される部分構造を有する化合物である。(一般式(1)中、R1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基、R2は炭化水素基、Rfはフッ素原子またはパーフルオロアルキル基、Lは0〜4の整数、nは0〜10の整数、mは1〜4の整数を示す。)
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公开(公告)号：JPWO2009057484A1
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：JP2009539020
申请日：2008-10-21
Inventor： 宏和 榊原 , 宏和 榊原 , 誠 志水 , 誠 志水 , 岳彦 成岡 , 岳彦 成岡 , 芳史 大泉 , 芳史 大泉 , 健太郎 原田 , 健太郎 原田 , 琢磨 江畑 , 琢磨 江畑
IPC: G03F7/004 , C08F220/16 , C08F220/22 , C08F220/38 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08L2312/06 , C09D133/14 , C09D133/16 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , C08F220/24 , C08F220/38
Abstract: 本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と液浸露光用液体との後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物及びそれに用いられる重合体を提供することである。本組成物は、重合体、酸不安定基を含有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するものであって、前記重合体は、下記式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を含有する。〔R1及びR2は、各々、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示し、R3は少なくとも一つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数4〜20の脂環式炭化水素基若しくはその誘導体を示し、Zは光照射により酸を発生する基を含有する基を示す。〕
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公开(公告)号：JPWO2008056796A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：JP2008543150
申请日：2007-11-09
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂を含有し、かつ、高い解像性能及び良好なレジストパターンを得ることができるレジスト被膜を形成可能であり、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂及び溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物。(前記一般式(1)中、R1は水素原子等を表し、M+は所定のカチオンを表し、nは1〜5の整数を表す)
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公开(公告)号：JPWO2006121096A1
公开(公告)日：2008-12-18
申请号：JP2007528308
申请日：2006-05-11
Inventor： 永井 智樹 , 智樹 永井 , 米田 英司 , 英司 米田 , 琢磨 江畑 , 琢磨 江畑 , 峰規 川上 , 峰規 川上 , 誠 杉浦 , 誠 杉浦 , 下川 努 , 努 下川 , 誠 志水 , 誠 志水
IPC: C08F28/02 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C08F20/38 , G03F7/039
CPC classification number: C09D133/14 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C07D209/76 , C08F20/38 , C08F28/00 , C08F28/02 , C08F214/18 , C08F220/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F228/02 , C09D141/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に高解像度でDOFが広くLERに優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。新規化合物は、下記式(2)で表される。式(2)において、R4はメチル基、トリフルオロメチル基、または水素原子を表し、Rfの少なくとも1つはフッ素原子または炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、Aは2価の有機基または単結合を表し、Gはフッ素原子を含有する2価の有機基または単結合を表し、Mm+は金属イオンもしくはオニウム陽イオンを表し、mは1〜3の自然数を、pは1〜8の自然数をそれぞれ示す。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2008056795A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：JP2008543149
申请日：2007-11-09
Applicant: Jsr株式会社 , Jsr株式会社 , セントラル硝子株式会社
Inventor： 永井 智樹 , 智樹 永井 , 琢磨 江畑 , 琢磨 江畑 , 誠 志水 , 誠 志水 , ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム , 成塚 智 , 智 成塚 , 昌生 藤原 , 昌生 藤原
IPC: C08F20/38 , C07C303/32 , C07C309/12 , C07C381/12
CPC classification number: C07C309/12 , C07C381/12 , C08F20/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂であり、下記一般式(10)で表される繰り返し単位を有する樹脂。(前記一般式(10)中、R1は水素原子等を表し、M+は所定のカチオンを表し、nは1〜5の整数を表す)
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公开(公告)号：JPWO2007069640A1
公开(公告)日：2009-05-21
申请号：JP2007550196
申请日：2006-12-13
IPC: C07C381/12 , C08F20/18 , C08F20/38
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C08F220/38 , G03F7/0397
Abstract: 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に解像性能に優れ、DOF、LERに優れ、さらに液浸耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物、ならびにその製造方法を提供する。新規化合物は下記式(1)で表され、液浸耐性に優れる感放射線性樹脂組成物がえられる。式(1)において、R1はメチル基または水素原子を表し、R2、R3、またはR4はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1〜10の1価の有機基を表し、nは0〜3の整数を表し、Aはメチレン基、直鎖状もしくは分岐状の炭素数2〜10アルキレン基またはアリーレン基を表し、X−はS+の対イオンを表す。
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公开(公告)号：JP5428159B2
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：JP2007528308
申请日：2006-05-11
Applicant: Jsr株式会社
IPC: C08F28/02 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C08F20/38 , G03F7/039
CPC classification number: C09D133/14 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C07D209/76 , C08F20/38 , C08F28/00 , C08F28/02 , C08F214/18 , C08F220/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F228/02 , C09D141/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397
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公开(公告)号：JP5515471B2
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：JP2009164814
申请日：2009-07-13
Applicant: Jsr株式会社
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition which enables formation of a chemically amplified resist having excellent resolution performance and small nano edge roughness. SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition comprises (A) a radiation-sensitive acid generator having a partial structure represented by general formula (1) and (B) a resin. In general formula (1), R 1 represents a univalent hydrocarbon group or the like. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
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