蓄熱材用組成物
    201.
    发明专利
    蓄熱材用組成物 有权
    热蓄热材料组合物

    公开(公告)号:JPWO2014025070A1

    公开(公告)日:2016-07-25

    申请号:JP2014529594

    申请日:2013-08-09

    CPC classification number: C09K5/063 C08K5/01

    Abstract: 炭素数が2nである直鎖飽和炭化水素化合物(A)と、炭素数が2n+mである直鎖飽和炭化水素化合物(B)と、分子量が50〜300であり、溶解度パラメータが5〜8.5(cal/cm3)0.5であり、示差走査熱量計によって測定される融点が前記直鎖飽和炭化水素化合物(B)の融点よりも30℃以上低い有機化合物(C)と、を含有し、ただし、前記nは4以上の自然数から選択される1つの数であり、直鎖飽和炭化水素化合物(A)におけるnと直鎖飽和炭化水素化合物(B)におけるnとは同じ数であり、mは−3、−1、+1または+3であり、そして前記直鎖飽和炭化水素化合物(A)の含有量MAと前記直鎖飽和炭化水素化合物(B)の含有量MBとの質量比MA:MBが99:1〜80:20である、蓄熱材用組成物。

    Abstract translation: 碳原子的直链饱和烃化合物数目为2n和(A),直链饱和烃化合物的碳原子数为2n + M(B),和50至300的分子量,5至8.5的溶解度参数 (卡/厘米3)0.5,比(C)的熔点的熔点,如通过差示扫描量热线性饱和烃化合物(B)测得的低有机化合物30℃或更高,并含有,但是, 其中n是在(a)中(B)中,m是直链饱和烃化合物n和直链的饱和烃化合物从4个或更多,相同数目的自然数选择为N一个数 - 3,-1和+1或+3,并且内容MB线性饱和烃化合物含量MA和直链饱和烃化合物(a)(B)MA的质量比:MB 有99:1至80:20,储热材料组合物。

    固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途
    203.
    发明专利
    固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 有权
    光学滤波器及其固态成像设备的应用程序

    公开(公告)号:JPWO2014002864A1

    公开(公告)日:2016-05-30

    申请号:JP2014522576

    申请日:2013-06-20

    Abstract: 本願発明は、従来の近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが有していた欠点を改良し、近紫外波長領域においても入射角度依存性が少なく、可視光透過率特性に優れた固体撮像素子用光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置を提供することを目的とする。本発明の固体撮像素子用光学フィルターは、波長300〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)および波長600〜800nmに吸収極大を持つ化合物(Y)を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有すること特徴とする。

    Abstract translation: 本发明以改进的缺点光学滤波器有这样的现有的近红外线截止滤光器,在近紫外波长区域甚至更少入射角依赖性,在可见光透射率特性的光学优良的固态成像装置 并提供使用该过滤器和滤光器的装置。 用于本发明的固态成像装置中的光学滤波器包括透明树脂基片含有在波长300〜420nm的(X)具有吸收最大值在衬底的化合物和在波长600〜800nm的所述(Y)具有吸收最大值的化合物, 并且其中它具有近红外反射的至少一个表面上的膜。

    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物
    206.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物 有权
    光致抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法中,酸扩散控制剂和所述化合物

    公开(公告)号:JPWO2013137157A1

    公开(公告)日:2015-08-03

    申请号:JP2014504844

    申请日:2013-03-08

    Abstract: 本発明は、酸解離性基を有する重合体、感放射線性酸発生体、及び酸拡散制御剤を含有し、上記酸拡散制御剤が、下記式(1)で表される化合物からなるフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基である。Aは、水素原子、炭素数1〜30の鎖状炭化水素基及び炭素数3〜30の脂環式炭化水素基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基と、−O−、−CO−、−COO−、−SO2O−、−NRSO2−、−NRSO2O−及び−NRCO−からなる群より選ばれる少なくとも1種の基と、上記式(1)におけるカルボニル基と結合する部位となるn個の窒素原子とを組み合わせてなり、かつ原子量の総和が120以上であるn価の基である。nは、1〜4の整数である。

    Abstract translation: 本发明是一种具有酸解离性基团,对辐射敏感的酸产生剂的聚合物,和含有酸扩散控制剂,酸扩散控制剂,由下述式表示的化合物的光致抗蚀剂(1) 它是一种组合物。 在下面的式(1)中,R1,R2和R3各自独立地具有氢原子或1〜10个碳原子的一价烃基。 A是至少一个基团是氢原子,选自具有链烃基和C 3-30 C 1-30脂环族烃基组成的组中,-O - , - CO- ,-COO - , - SO 2 O - , - -NRSO 2 - , - NRSO2O-和选自 - NRCO,在n作为站点上述等式(1)的组中选择的用于结合的羰基的至少一个基团 它成为一个氮原子的组合,和总和的原子量为120或更大n价的基团。 n为1〜4的整数。

    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    207.
    发明专利
    フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    光致抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,所述聚合物和化合物

    公开(公告)号:JPWO2013133230A1

    公开(公告)日:2015-07-30

    申请号:JP2014503845

    申请日:2013-03-04

    Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、炭素数4〜20の2価の多環の脂環式炭化水素基である。R2は、炭素数3〜20の1価の単環又は多環の脂環式炭化水素基である。R3は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。[A]重合体は、ラクトン構造、環状カーボネート構造及びスルトン構造からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を含む構造単位をさらに有することが好ましい。[A]重合体は、下記式(2)で表される構造単位をさらに有することが好ましい。

    Abstract translation: 本发明是一种含有聚合物[B]具有由[A]下式(1)表示的结构单元酸产生光致抗蚀剂组合物,和。 在下面的式(1)中,R1为碳原子数4〜20的二价多环的脂环式烃基。 R2为单价单环或碳原子数3〜20的多环脂环族烃基。 R3是氢原子,氟原子,甲基或三氟甲基。 [A]所述的聚合物,内酯结构,还具有包含选自优选的环状碳酸酯结构和磺内酯结构组成的组中的至少一种结构的结构单元。 [A]聚合物优选进一步具有下述式(2)表示的结构单元。

    変性共役ジエン系重合体及びその製造方法
    208.
    发明专利
    変性共役ジエン系重合体及びその製造方法 有权
    改性共轭二烯系聚合物及其制造方法

    公开(公告)号:JPWO2013094629A1

    公开(公告)日:2015-04-27

    申请号:JP2013550300

    申请日:2012-12-19

    Abstract: 下記一般式(1)又は(2)で表される化合物とアルカリ金属化合物の存在下で、共役ジエン系化合物等を含む単量体を重合して、共役ジエン系重合体を得る工程と、該共役ジエン系重合体と下記一般式(3)で表される化合物を反応させて、変性共役ジエン系重合体を得る工程を含む、変性共役ジエン系重合体の製造方法。(式中、R1はヒドロカルビレン基である。Qは、例えば−N(−A1)−である。A1は、活性水素原子を有さず、N等の原子で置換されていてもよいヒドロカルビル基である。)(式中、Eは、例えば、活性水素原子を有さず、Nの原子でR4と結合している官能基である。R2及びR3はヒドロカルビル基である。R4はヒドロカルビレン基である。nは0〜2の整数である。)

    Abstract translation: 在下述通式(1)或(2)化合物,并通过聚合含有共轭二烯化合物等的单体,获得共轭二烯聚合物由,表示的碱金属化合物,所述的存在 和共轭二烯类聚合物和由通式(3)表示的下列化合物反应包括获得的改性共轭二烯系聚合物,其制造的改性共轭二烯系聚合物的方法。 (式中,R 1为亚烃基.Q,例如-N(-A1) - 一个是指定.A1,无活性氢原子,其可以任选地用烃基原子如N取代 是一个基团。)(式中,E,例如,不具有活性氢原子,.R2及R3是这势必在R4的N原子的官能团是烃基.R4是Hidorokarubi 的亚烷基.N为0〜2的整数。)

    ゴム組成物、ゴム弾性体およびタイヤ並びにブロック共重合体
    209.
    发明专利
    ゴム組成物、ゴム弾性体およびタイヤ並びにブロック共重合体 有权
    的橡胶组合物,橡胶弹性体以及轮胎以及嵌段共聚物

    公开(公告)号:JPWO2013081053A1

    公开(公告)日:2015-04-27

    申请号:JP2013547212

    申请日:2012-11-29

    Abstract: 低転がり抵抗性およびウエットスキッド抵抗性の両方に優れ、機械的強度および耐摩耗性に優れたゴム弾性体が得られるゴム組成物、ゴム弾性体およびタイヤ並びにブロック共重合体を提供する。本発明のゴム組成は、共役ジエンおよび芳香族ビニルによるブロック(a−1)と、共役ジエン若しくはこれと芳香族ビニルとによるブロック(a−2)とからなるブロック共重合体(A)、それ以外の特定の重合体(B)、並びに、フィラー(C)を含有し、ブロック共重合体(A)が特定の官能基を有し、ブロック共重合体(A)は、ASTM D3418に準拠して測定したときに、−100〜20℃の範囲において互いに5℃以上離れた2つのガラス転移温度が観測され、ブロック共重合体(A)と重合体(B)との合計を100質量%としたときに、ブロック共重合体(A)の割合が10質量%以上である。

    Abstract translation: 兼具优异的低滚动阻力和抗湿滑性,具有优异的机械强度的橡胶组合物的橡胶弹性体和磨损获得阻力,从而提供一个橡胶弹性体以及轮胎以及嵌段共聚物。 根据共轭二烯和芳族乙烯基(A-1),共轭二烯或这和芳族乙烯基和通过由嵌段共聚物(A)的嵌段(A-2)的块在本发明的橡胶组合物,它 比(B)以外的特定的聚合物,和含有填料(C)时,嵌段共聚物(a)具有特定的官能团,所述嵌段共聚物(a),符合ASTM D3418 测量当TE,在-100〜20℃的范围内观察到两个玻璃化转变温度远5℃以上彼此,以及总的嵌段共聚物100重量%的(a)和聚合物(B) 当嵌段共聚物(a)的比例为10质量%以上。

    パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法
    210.
    发明专利
    パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法 审中-公开
    图案形成自组装组合物和图案形成方法

    公开(公告)号:JPWO2013073505A1

    公开(公告)日:2015-04-02

    申请号:JP2013544262

    申请日:2012-11-12

    CPC classification number: B82Y40/00 B82Y10/00 G03F7/0002 C08L25/06 C08L83/04

    Abstract: 本発明は、[A]ヘテロ原子を含む基(α)を主鎖の少なくとも一方の末端に有する重合体、及び[B]ポリシロキサンを含有するパターン形成用自己組織化組成物である。上記ヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、スズ原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。上記基(α)は下記式(1)で表されることが好ましい。[A]重合体は、スチレン系重合体であることが好ましい。

    Abstract translation: 本发明是[A]的聚合物,和[B]图案形成含有具有基团(阿尔法)的主链的至少一个末端含有杂原子的聚硅氧烷自组装组合物。 杂原子,氧原子,氮原子,硫原子,磷原子,优选为至少一种选自锡原子和硅原子组成的组中。 基团(阿尔法)优选由下述式(1)表示。 [A]所述的聚合物优选为苯乙烯类聚合物。

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