波長変換フィルム、波長変換基板、波長変換素子および表示素子
    24.
    发明专利
    波長変換フィルム、波長変換基板、波長変換素子および表示素子 有权
    波长转换膜,波长变换基板中,波长转换元件以及显示装置

    公开(公告)号:JPWO2014129067A1

    公开(公告)日:2017-02-02

    申请号:JP2015501290

    申请日:2013-12-18

    Abstract: 安全な材料からなる量子ドットを含んで優れた波長変換特性を有し、安定性の高い波長変換フィルムを提供し、波長変換基板、波長変換素子および表示素子を提供する。波長変換フィルム3は、半導体量子ドットおよび樹脂を含んで構成され、基材2上に配置される。半導体量子ドットは、コアシェル構造型半導体量子ドットであるInP/ZnS、CuInS2/ZnSおよび(ZnS/AgInS2)固溶体/ZnS、並びに、均質構造型半導体量子ドットであるAgInS2およびZnドープAgInS2よりなる群から選ばれる少なくとも1つである。樹脂は透明樹脂である。この波長変換フィルム3を用い、波長変換基板1を提供し、表示素子を提供する。

    Abstract translation: 具有优良的波长变换特性包括安全材料的量子点,提供高的波长转换膜的稳定性,提供了波长变换基板中,波长转换元件以及显示装置。 波长转换膜3被配置为包括一个半导体量子点和树脂,被设置在基板2上。 半导体量子点是一个核 - 壳结构型半导体​​量子点的InP /硫化锌,CuInS2 / ZnS和硫化锌(ZnS / AgInS2)固溶/ ZnS和,从由均匀结构的类型半导体量子点AgInS2和Zn掺杂的AgInS2的组中选择 至少一个是要。 树脂是透明树脂。 使用这种波长转换膜3,提供一个波长变换基板1,提供一个显示元件。

    細胞の上皮性維持に作用する物質のスクリーニング方法
    25.
    发明专利
    細胞の上皮性維持に作用する物質のスクリーニング方法 有权
    筛选方法,作用于上皮细胞维持的物质

    公开(公告)号:JPWO2014038025A1

    公开(公告)日:2016-08-08

    申请号:JP2012545417

    申请日:2012-09-05

    CPC classification number: G01N33/5044 G01N33/5011

    Abstract: 迅速かつ低コストで実施でき、信頼性の高いデータの取得を可能とする、細胞の上皮性維持に作用する物質のスクリーニング方法を提供する。本スクリーニング方法は、(a)スフェロイド形成可能な培養基材上で細胞を培養する工程と、(b)前記細胞と被験物質とを接触させる工程と、(c)被験物質が前記細胞の上皮性維持に及ぼす効果をスフェロイドの形態の変化を指標として評価する工程と、を含む。このとき、前記工程(c)は、所定の大きさのスフェロイド数の測定や、スフェロイド内の低酸素領域の測定により評価することができる。

    Abstract translation: 可以快速,低成本进行,允许获得可靠的数据,它提供了一种作用于上皮细胞维持的物质的筛选方法。 该筛选方法中,(a)上的球体形成培养细胞的步骤可以培养基材,(b)中所述细胞与测试物质,上皮(c)中接触的步骤的测试物质是细胞 和评估保持为指标中的球状体的形式,所述的变化的影响的步骤。 在这种情况下,步骤(c)中,具有预定尺寸球体数测量的,并且可以通过球体内低氧区域的测量进行评估。

    フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
    30.
    发明专利
    フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 有权
    光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法

    公开(公告)号:JPWO2013047536A1

    公开(公告)日:2015-03-26

    申请号:JP2013536309

    申请日:2012-09-25

    CPC classification number: G03F7/0045 G03F7/0046 G03F7/0397 G03F7/11 G03F7/2041

    Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有するベース重合体、[B]撥水性重合体、及び[C]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。R2及びR3は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR2及びR3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数3〜20の環構造を表す。但し、R2とR3が共にヒドロキシ基である場合はない。R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子若しくは炭素数1〜20の1価の有機基であるか、又はR4及びR5が互いに合わせられこれらが結合している炭素原子と共に構成される炭素数3〜20の環構造を表す。

    Abstract translation: 本发明中,[A]具有由下式表示的结构单元(I)的基础聚合物(1),将含有[B]拒水聚合物光致抗蚀剂组合物,和[C]酸产生剂 一。 在下面的式(1)中,R1是氢原子,氟原子,甲基或三氟甲基。 R2和R3各自独立地为氢原子,氟原子,或为羟基的单价有机基团或碳原子数1〜20,或配置一起与R 2和R 3结合它们彼此结合的碳原子 它是3至20个碳原子的环结构的代表。 但是,任何情况下,R 2和R 3均为羟基。 R4和R5各自独立地是,具有其中或者一价有机基团的氢原子或1〜20个碳原子,或R4和R5相互结合它们所连接的碳原子构成的碳原子数 它表示3〜20的环结构。

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