半導体装置
    1.
    发明专利
    半導体装置 审中-公开
    半导体器件

    公开(公告)号:JP2016058756A

    公开(公告)日:2016-04-21

    申请号:JP2016003111

    申请日:2016-01-11

    CPC classification number: G06K19/07749 H01L29/78603 H01L27/12 H01L27/1214

    Abstract: 【課題】シリコンウェハからなるICチップは厚いため商品容器自体に搭載する場合、表 面に凹凸が生じ、デザイン性が低下してしまった。そこで非常に膜厚の薄い薄膜集積回路 、及び薄膜集積回路を有するICチップ等を提供する。 【解決手段】薄膜集積回路を有するICチップは、従来のシリコンウェハにより形成され る集積回路と異なり、半導体膜を能動領域(例えば薄膜トランジスタであればチャネル形 成領域)として備えることを特徴とする。このようなICチップは非常に薄いため、カー ドや容器等の商品へ搭載してもデザイン性を損ねることがない。 【選択図】図6

    Abstract translation: 要解决的问题:为了提供具有薄膜集成电路的具有超薄膜的薄膜集成电路,IC芯片等,以解决当由硅晶片制成的IC芯片安装在 产品容器本身,由于IC芯片厚,表面上出现不规则的现象以降低设计性能。解决方案:具有薄膜集成电路的IC芯片包括作为有源区域的半导体膜(例如, 薄膜晶体管的情况)与由硅晶片形成的常规集成电路不同。 由于这种IC芯片非常薄,即使将IC芯片安装在诸如卡片和容器的产品上,也不会损害设计特性。图示:图6

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