-
-
公开(公告)号：JP6295370B2
公开(公告)日：2018-03-14
申请号：JP2017501996
申请日：2016-01-27
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: A61B8/14 , H01L41/113 , H01L41/187 , H04R17/00
CPC classification number: A61B8/14 , A61B8/4281 , A61B8/4444 , A61B8/4488 , A61B8/4494 , B06B1/0622 , G10K11/30 , H04R3/00 , H04R17/00
-
公开(公告)号：JPWO2017038378A1
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：JP2017537688
申请日：2016-08-05
Applicant: 株式会社日立製作所
Abstract: 中性子吸収性能が高く、かつ中性子やγ線の照射によって構造崩壊しにくく、さらに耐水性が良好な中性子吸収材料を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明に係るガラス組成物は、成分を酸化物で表したときに、Gd2O3と、B2O3と、CeO2と、Bi2O3と、を含み、酸化物換算でGd2O3とB2O3の合計が65モル%以上であることを特徴とする。
-
公开(公告)号：JPWO2017051590A1
公开(公告)日：2018-03-22
申请号：JP2017541455
申请日：2016-07-11
Applicant: 株式会社日立製作所
Abstract: 被接合材の特性や物性が大きく異なる場合においても、簡易に接合可能な接合材を提供することを目的とする。上記課題を解決するために、本発明に係る接合材は、基材と、基材の一方の面に配置された第1の層と、基材の他方の面に配置され、第1の層を構成する相とは熱膨張係数の異なる相を含む第2の層と、を備え、第1の層と第2の層の少なくともいずれかは、軟化点が600℃以下のガラスを含むことを特徴とする。
-
公开(公告)号：JP2016207477A
公开(公告)日：2016-12-08
申请号：JP2015088033
申请日：2015-04-23
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01M10/0565 , H01M4/13 , H01M4/62 , H01M10/058 , H01M4/139 , H01M6/18 , H01B1/06 , H01B1/08 , H01M10/0562
Abstract: 【課題】 内部抵抗が低く、かつレート特性が良好な全固体電池を提供する。 【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明に係る全固体電池用イオン伝導性材料は、リチウムバナジウム酸化物のLiサイトの一部を1価もしくは2価のカチオンで置換したことを特徴とする。 【選択図】図1
Abstract translation: 甲内部电阻低，速率特性提供良好的全固态电池。 为了解决根据本发明，通过在一价或二价阳离子取代锂钒氧化物的Li位点的一部分，其特征在于A上述问题，全固体电池的离子导电材料 到。 点域1
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016101595A
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：JP2014240736
申请日：2014-11-28
Applicant: 株式会社日立製作所
Abstract: 【課題】 簡単なレーザ加工により、清浄な加工部表面を得る。 【解決手段】 レーザ加工時に部品の保護に用いられるレーザ加工用マスキング剤において、アルカリ金属又はアルカリ土類金属と3価から6価の陽イオンとを含む水溶性の化合物を含む。部品の表面に保護層を形成する保護工程と、前記保護層にレーザを照射して前記部品を加工する加工工程と、前記加工工程後に前記保護層を液体で溶かす除去工程とを備えたレーザ加工部品の製造方法において、前記保護層がアルカリ金属又はアルカリ土類金属と3から6価の陽イオンとを含む水溶性の化合物である。 【選択図】 図2
Abstract translation: 要解决的问题：通过简单的激光加工获得清洁的加工零件表面。解决方案：用于激光加工中用于保护部件的激光加工用掩模剂包括含有碱金属或碱土金属的水溶性化合物和三价至六价阳离子 离子。 激光加工部件的制造方法包括：利用掩模剂在所述部件的表面上形成保护层的保护工序; 用激光照射保护层以处理该部件的处理过程; 以及在处理过程之后使用液体熔化保护层的去除过程。 保护层由包括碱金属或碱土金属和三价至六价阳离子离子的水溶性化合物的掩蔽剂形成。选择图：图2
-
-
公开(公告)号：JP6286565B2
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：JP2016548847
申请日：2015-09-09
Applicant: 株式会社日立製作所
Inventor： 内藤 孝 , 児玉 一宗 , 青柳 拓也 , 菊池 茂 , 能川 玄也 , 森 睦宏 , 井出 英一 , 守田 俊章 , 紺野 哲豊 , 小野寺 大剛 , 三宅 竜也 , 宮内 昭浩
CPC classification number: H01L23/3733 , C03C3/122 , C03C3/125 , C03C3/21 , C03C8/02 , C03C8/08 , C03C8/18 , C03C8/24 , C09J1/00 , C09J11/04 , H01L21/52 , H01L23/3731 , H01L23/3735 , H01L24/29 , H01L25/07 , H01L25/18 , H01L2224/29211 , H01L2224/29224 , H01L2224/29239 , H01L2224/29247 , H01L2224/29287 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/73265 , H01L2924/00014
-
公开(公告)号：JPWO2017126378A1
公开(公告)日：2018-09-06
申请号：JP2017000571
申请日：2017-01-11
Applicant: 株式会社日立製作所
CPC classification number: C03C8/24 , C03C3/12 , C03C3/122 , C03C3/125 , C03C3/21 , C03C8/02 , C03C8/16 , C03C8/18 , C03C8/20 , C03C14/004 , C03C17/007 , C03C17/04 , C03C27/06 , C03C2205/00 , C03C2218/11 , H01J9/02 , H01J9/24 , H01J11/22 , H01J11/48 , H01L23/02 , H01L23/10 , H01L31/0224 , H01L31/022425 , H01L51/50 , H01L51/5246 , H01L2224/16225 , H01L2924/16152 , H03H9/10 , H05B33/04 , H05B33/26
Abstract: 結晶化が抑制され、かつ軟化点の低い無鉛ガラス組成物を提供することを目的とする。 本発明に係る無鉛ガラス組成物は、酸化銀、酸化テルル及び酸化バナジウムを含み、さらに追加成分として酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化エルビウム、酸化イットリビウム、酸化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化鉄、酸化タングステン及び酸化モリブデンのうちの少なくともいずれか1つを含み、酸化銀、酸化テルル及び酸化バナジウムの含有量(モル%)が次に示す酸化物換算で、Ag 2 O>TeO 2 ≧V 2 O 5 、Ag 2 O≦2V 2 O 5 の関係を有し、TeO 2 の含有量は25モル%以上37モル%以下であることを特徴とする。
-
公开(公告)号：JPWO2016185776A1
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：JP2017519046
申请日：2016-03-14
Applicant: 株式会社日立製作所
Abstract: 本発明は、光学素子を封入する複層ガラスのプロセス温度を下げ、加工時における光学素子に対するダメージを軽減することを目的とする。本発明に係る複層ガラスは、ガラス板間に形成された間隙を、光学素子の加工温度よりも低いプロセス温度で固定することができる封止材により封止する(図1参照)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
13
records
(took 0.022 seconds)
