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公开(公告)号：JPWO2008143301A1
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：JP2009515265
申请日：2008-05-21
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L21/0273 , Y10S430/106
Abstract: (1)第一のレジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、(2)第一のパターン上に、ベークすることで現像液に対して不溶化又は難溶化する水酸基を有する樹脂、及び溶媒を含有する所定の樹脂組成物を塗布し、ベーク後、洗浄して第二のパターンを形成する工程と、(3)第二のパターンを、全面露光又は選択的に露光することによって部分的に現像液に可溶にした後、現像して、穴及び溝の少なくともいずれかが第二のパターンに形成された第三のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。
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公开(公告)号：JPWO2008114644A1
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：JP2009505143
申请日：2008-03-11
IPC: G03F7/40 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70466 , G03F7/0035 , G03F7/0392 , G03F7/40 , H01L21/0274
Abstract: (1)第一のレジスト層にマスクを介して選択的に露光した後、現像して第一のレジストパターンを形成する工程と、(2)第一のレジストパターン上に、第一のレジストパターンを不要化することが可能なレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、ベーク又はUVキュア後、現像して、第一のレジストパターンを不溶化レジストパターンとする工程と、(3)不溶化レジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、第二のレジスト層にマスクを介して選択的に露光する工程と、(4)現像して第二のレジストパターンを形成する工程と、を含むレジストパターン形成方法である。
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公开(公告)号：JPWO2011108665A1
公开(公告)日：2013-06-27
申请号：JP2012503263
申请日：2011-03-03
IPC: G03F7/039 , C08F22/24 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本発明の課題は、ライン幅のばらつきの発生を抑制して、所望形状のパターンを精度良く形成することのできる化学増幅型レジストを与える感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することである。本発明は、[A]下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含み、酸解離性基を有する重合体、[B]感放射線性酸発生剤、及び、[C]フッ素原子を含む重合体を含有し、重合体[A]に含まれるフッ素原子の含有率が、重合体[C]に含まれるフッ素原子の含有率よりも少ない感放射線性樹脂組成物である。【化1】
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公开(公告)号：JPWO2010047340A1
公开(公告)日：2012-03-22
申请号：JP2010534823
申请日：2009-10-21
Inventor： 勇二 矢田 , 勇二 矢田 , 祐亮 庵野 , 祐亮 庵野 , 友洋 柿澤 , 友洋 柿澤 , 雅史 堀 , 雅史 堀 , 三田 倫広 , 倫広 三田 , 剛史 若松 , 剛史 若松
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/40
Abstract: 第一の感放射線性樹脂組成物を用いて、基板上に第一のレジストパターンを形成する工程(1)と、第一のレジストパターンをレジストパターンコーティング剤により処理する工程(2)と、第二の感放射線性樹脂組成物を用いて、レジストパターンコーティング剤によって処理された基板上に第二のレジストパターンを形成する工程(3)と、を含むレジストパターン形成方法の工程(2)で用いられる、水酸基を有する樹脂と、炭素数が3〜10の分岐アルキルアルコールを30質量%以上含む溶媒と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。
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公开(公告)号：JPWO2011122590A1
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：JP2012508328
申请日：2011-03-28
IPC: G03F7/039 , C08F20/22 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、[A]下記式(1)で表される繰り返し単位を含み、酸解離性基を有する重合体、[B]感放射線性酸発生剤、及び[C]フッ素原子を含む重合体を含有し、上記重合体[A]に含まれるフッ素原子の含有割合が、上記重合体[C]に含まれるフッ素原子の含有割合よりも小さいフォトレジスト組成物である。また、上記重合体[A]100質量部に対する上記重合体[C]の含有量が0.1質量部以上10質量部以下であるとよい。さらに、下記式(1)において、2つのR2は共にトリフルオロメチル基であることが好ましい。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2010032839A1
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：JP2010529818
申请日：2009-09-18
Inventor： 雅史 堀 , 雅史 堀 , 三田 倫広 , 倫広 三田 , 考一 藤原 , 考一 藤原 , 稗田 克彦 , 克彦 稗田 , 山口 佳一 , 佳一 山口 , 友洋 柿澤 , 友洋 柿澤
IPC: G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 水酸基を有する樹脂と、溶媒と、一般式(1)で表される基を少なくとも2つ有する化合物、一般式(2)で表される基を有する化合物、及び一般式(4)で表される基を有する化合物からなる群より選択される少なくとも2種の化合物と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。
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公开(公告)号：JPWO2012036250A1
公开(公告)日：2014-02-03
申请号：JP2012534056
申请日：2011-09-15
IPC: G03F7/039 , C08F220/18 , C09K3/00 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/30 , C08F224/00 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10S430/114
Abstract: 本発明は、[A]同一又は異なる重合体中に、下記式(1)で表される構造単位(I)と下記式(2)で表される構造単位(II)とを有する重合体成分、[B]感放射線性酸発生剤、及び[C]環構造を有する窒素含有化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R1は、水素原子又はメチル基である。Zは、R2と共に2価の単環の脂環式炭化水素基を形成する基である。R2は、炭素原子である。R3は、メチル基又はエチル基である。下記式(2)中、R4は、水素原子又はメチル基である。Xは、R5と共に炭素数10以上の2価の有橋の脂環式炭化水素基を形成する基である。R5は、炭素原子である。R6は、炭素数3又は4の分岐状のアルキル基である。
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公开(公告)号：JPWO2012008546A1
公开(公告)日：2013-09-09
申请号：JP2012524594
申请日：2011-07-14
Inventor： 友洋 柿澤 , 友洋 柿澤 , 峰規 川上 , 峰規 川上 , 孝和 木元 , 孝和 木元 , 希佳 田中 , 希佳 田中 , 岳彦 成岡 , 岳彦 成岡 , 大樹 中川 , 大樹 中川
IPC: G03F7/039 , C08F20/28 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F2220/1841 , C08F2220/1875 , G03F7/2041 , C08F2220/1883 , C08F2220/281 , C08F2220/283 , C08F220/22
Abstract: 本発明の感放射線性樹脂組成物は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有し、アルカリ不溶性又はアルカリ難溶性であり、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体(A)、及び、感放射線性酸発生剤(B)を含有する。【化1】
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公开(公告)号：JPWO2011037246A1
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：JP2011533072
申请日：2010-09-28
IPC: G03F7/004 , C08F8/12 , C08F20/34 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/34 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 断面形状に優れたレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位(I)を有し、分子中にフッ素原子を含む重合体と、(B)酸解離性基を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の重合体と、(C)感放射線性酸発生剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物。(一般式(1)中、R1は水素原子など、X1及びR2は単結合など、R3は水素原子など、R4は酸解離性基である。)
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公开(公告)号：JP5494489B2
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：JP2010534823
申请日：2009-10-21
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/40
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