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公开(公告)号：JPWO2012014576A1
公开(公告)日：2013-09-12
申请号：JP2012526362
申请日：2011-06-09
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0382
Abstract: [課題]反射率の高い基板や、単一の基板上に複数の材質が混在することで部分的に露光時の反射率が異なる基板で、基板からの反射によるレジストパターン側壁のガタツキやパターン形状の劣化の少ないネガ型感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。[解決手段]本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B1)下記一般式(0)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の感放射線性酸発生剤、(C)架橋剤を含有することを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物である。(一般式(0)においてR16〜R20は相互に独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の炭化水素基、炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基、極性基を示し、M+はオニウムカチオンを表す。)
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公开(公告)号：JPWO2011077993A1
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：JP2011547482
申请日：2010-12-14
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F12/22 , C08F212/14 , G03F7/0397 , C08F212/08 , C08F2222/1013 , C08F2220/185 , C08F2220/283 , C08F2220/1875 , C08F2220/1858 , C08L25/08 , C08L33/14
Abstract: 段差のある基板のリソグラフィ工程において、段差の下部や、レジストパターンと段差との交点部分など低露光量となる領域などでも、現像溶解速度が高くなるのでスカムマージンに優れ、良好な形状のレジストパターンが得られることを目的に、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む重合体(A1)と、下記式(2)で表される繰り返し単位を含み、かつ式(1)で表される繰り返し単位を含まない重合体(A2)との重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有する。
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公开(公告)号：JPWO2007060919A1
公开(公告)日：2009-05-07
申请号：JP2007546435
申请日：2006-11-21
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 解像性能、熱安定性および保存安定性に優れた感放射線性酸発生剤を含有し、定在波によるパターン線幅の変動およびパターン形状の劣化を抑制でき、ナノエッジラフネスおよびLEFに優れたレジストパターンを得ることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。感放射線性樹脂組成物は、(A)2,4,6−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム2,4−ジフルオロベンゼンスルホネート、2,4,6−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム4−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート等で代表されるスルホニウム塩化合物およびスルホンイミド化合物を含む感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする。当該組成物は、さらに(B)4−ヒドロキシスチレン/4−t−ブトキシスチレン共重合体、4−ヒドロキシスチレン/(メタ)アクリル酸t−ブチル等で代表される樹脂を含有することが好ましい。
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公开(公告)号：JP5630444B2
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：JP2011547482
申请日：2010-12-14
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F12/22 , C08F212/14 , G03F7/0397 , C08F212/08 , C08F2222/1013 , C08F2220/185 , C08F2220/283 , C08F2220/1875 , C08F2220/1858 , C08L25/08 , C08L33/14
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公开(公告)号：JPWO2011162303A1
公开(公告)日：2013-08-22
申请号：JP2012521507
申请日：2011-06-22
CPC classification number: G03F7/004 , C08F12/24 , C09D125/08 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , C08F212/14 , C08F212/08
Abstract: 重合体成分(A)と、感放射線性酸発生剤(B)と、一般式(C1−a)で表される溶剤、一般式(C1−b)で表される溶剤、及び一般式(C1−c)で表される溶剤からなる群より選択される少なくとも一種を含有する溶剤成分(C)と、を含む感放射線性組成物を提供する。但し、下記一般式中、R1〜R5は、それぞれ独立に、有機基を示し、kは1〜10、lは2〜5、aは0〜12、bは0〜10、m及びnは、それぞれ独立に2〜4である。
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公开(公告)号：JPWO2010047340A1
公开(公告)日：2012-03-22
申请号：JP2010534823
申请日：2009-10-21
Inventor： 勇二 矢田 , 勇二 矢田 , 祐亮 庵野 , 祐亮 庵野 , 友洋 柿澤 , 友洋 柿澤 , 雅史 堀 , 雅史 堀 , 三田 倫広 , 倫広 三田 , 剛史 若松 , 剛史 若松
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/40
Abstract: 第一の感放射線性樹脂組成物を用いて、基板上に第一のレジストパターンを形成する工程(1)と、第一のレジストパターンをレジストパターンコーティング剤により処理する工程(2)と、第二の感放射線性樹脂組成物を用いて、レジストパターンコーティング剤によって処理された基板上に第二のレジストパターンを形成する工程(3)と、を含むレジストパターン形成方法の工程(2)で用いられる、水酸基を有する樹脂と、炭素数が3〜10の分岐アルキルアルコールを30質量%以上含む溶媒と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。
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公开(公告)号：JP5494489B2
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：JP2010534823
申请日：2009-10-21
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/40
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公开(公告)号：JP5157932B2
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：JP2009010327
申请日：2009-01-20
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive resin composition exhibiting an enhanced dissolution contrast, high resolution as well as an excellent depth of focus. SOLUTION: The radiation sensitive resin composition contains: (A) a resin, which is an alkali-insoluble resin containing a repeating unit expressed by a formula (a-1), a repeating unit containing a cyclic carbonate ester structure, and a repeating unit having a protecting group capable of being deprotected by an acid, and which changes into alkali-soluble when the protecting group leaves; and (B) an acid generator. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
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公开(公告)号：JP4200936B2
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：JP2004134782
申请日：2004-04-28
Applicant: Jsr株式会社
IPC: C07D317/72 , G03F7/039 , C07C337/00 , C07D319/08 , C09K3/00 , H01L21/027
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