公开(公告)号：JP5768320B2

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：JP2010033260

申请日：2010-02-18

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 磯野 芳美 ,  成塚 智 ,  七井 秀寿 ,  山中 一広

IPC: C08G73/22 ,  C08G63/682 ,  C08G69/42

CPC classification number: C07C59/64 ,  C07C69/65 ,  C07C69/734 ,  C08G63/6826 ,  C08G69/42 ,  C08G73/06 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/22

公开(公告)号：JP5765473B2

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：JP2014178849

申请日：2014-09-03

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 森 和規 ,  萩原 勇士 ,  永盛 将士 ,  磯野 芳美 ,  成塚 智 ,  前田 一彦

IPC: G03F7/11

公开(公告)号：JP2017168828A

公开(公告)日：2017-09-21

申请号：JP2017030573

申请日：2017-02-22

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 福井 由季 ,  齋尾 崇 ,  両川 敦 ,  成塚 智 ,  塩田 彩織 ,  渡辺 翔太 ,  佐々木 真太朗 ,  岩崎 進

IPC: H01L21/304

Abstract: 【課題】接液部材として塩化ビニル樹脂を含む洗浄装置を用いるウェハの洗浄方法において用いる撥水性保護膜形成用薬液を提供すること。 【解決手段】(I)アルコキシシラン、(II)炭化水素、エーテル、及び、チオールからなる群から選ばれる少なくとも1種を80〜100質量%の割合で含む溶媒、及び(III)スルホン酸エステル、スルホンイミド、スルホンイミド誘導体、スルホンメチド、及びスルホンメチド誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、接液部材として塩化ビニル樹脂を含む洗浄装置を用いるウェハの洗浄用の撥水性保護膜形成用薬液。 【選択図】図4

公开(公告)号：JP6112018B2

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：JP2013555234

申请日：2013-01-17

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 森 和規 ,  成塚 智 ,  萩原 勇士 ,  雨宮 史尋 ,  藤原 昌生

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C08F20/38

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07C303/22 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C07D307/20 ,  C07D307/93 ,  C07D327/04 ,  C08F220/38 ,  C08F222/14 ,  C08F222/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42

公开(公告)号：JP6703256B2

公开(公告)日：2020-06-03

申请号：JP2016050763

申请日：2016-03-15

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 福井 由季 ,  齋尾 崇 ,  両川 敦 ,  成塚 智 ,  塩田 彩織 ,  渡辺 翔太 ,  佐々木 真太朗 ,  岩崎 進

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：JP2017168554A

公开(公告)日：2017-09-21

申请号：JP2016050763

申请日：2016-03-15

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 福井 由季 ,  齋尾 崇 ,  両川 敦 ,  成塚 智 ,  塩田 彩織 ,  渡辺 翔太 ,  佐々木 真太朗 ,  岩崎 進

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/304

Abstract: 【課題】シリコン元素を含むウェハの表面に撥水性保護膜を形成するための、新規の撥水性保護膜形成剤又は新規の撥水性保護膜形成用薬液、及び、該剤又は該薬液を用いるウェハの洗浄方法を提供すること。 【解決手段】 シリコン元素を含むウェハの表面に撥水性保護膜を形成するための撥水性保護膜形成剤であって、前記剤が、 下記一般式[1]で表されるスルホンイミド誘導体、下記一般式[2]で表されるスルホンイミド誘導体、及び、下記一般式[3]で表されるスルホンメチド誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種のケイ素化合物である、撥水性保護膜形成剤。 ((R 1 −S(=O) 2 ) 2 N) a Si(H) b (R 2 ) 4−a−b [1] ((R 5 −S(=O) 2 ) 3 C) e Si(H) f (R 6 ) 4−e−f [3] 【選択図】図4

公开(公告)号：JP6019849B2

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：JP2012155862

申请日：2012-07-11

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 森 和規 ,  雨宮 史尋 ,  藤原 昌生 ,  成塚 智

IPC: C07C69/54

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/10 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F222/14 ,  C08F222/18 ,  C08F228/04 ,  C08F28/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  C07C2101/08 ,  C07C2101/14 ,  C07C2101/18 ,  C07C2103/74 ,  C08F2220/382

公开(公告)号：JP5742662B2

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：JP2011233940

申请日：2011-10-25

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 瀧花 亮三 ,  成塚 智

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  H01L21/027 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/027 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/16 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041 ,  C07C2101/14 ,  C07C2103/74 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

公开(公告)号：JP5728916B2

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：JP2010273285

申请日：2010-12-08

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 増渕 毅 ,  磯野 芳美 ,  永盛 将士 ,  成塚 智

IPC: C07C311/04 ,  C07C381/12 ,  C07D333/54 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07C303/40

公开(公告)号：JP5704046B2

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：JP2011224454

申请日：2011-10-12

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 瀧花 亮三 ,  成塚 智

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  H01L21/027 ,  C08F20/38

CPC classification number: C08F28/02 ,  C07C309/10 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  C08F220/26 ,  C08F232/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/2041 ,  C07C2101/14