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公开(公告)号：KR102229633B1
公开(公告)日：2021-03-17
申请号：KR1020170180161A
申请日：2017-12-26
申请人： 삼성에스디아이 주식회사
CPC分类号： G03F7/004 , G02B5/20 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/0755
摘要： (A) 바인더 수지; (B) 착색제; (C) (메타)아크릴레이트계 화합물, 옥세탄계 화합물 및 티올기 함유 화합물을 포함하는 중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; (E) 술포늄계 양이온 개시제; 및 (F) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터가 제공된다.
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2.发明专利
公开(公告)号：KR102226670B1
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020167008223A
申请日：2014-10-06
申请人： 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
IPC分类号： G03F7/00 , C07F7/08 , C07F7/18 , G03F7/028 , H01B13/00 , H01L27/146 , H01L31/0392
CPC分类号： C08F290/068 , B32B3/10 , C07F7/0838 , C07F7/18 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/0755 , G03F7/0757 , H01B13/0026 , H01L27/146 , H01L31/0392 , Y10T428/24802
摘要： [과제] 신규한 임프린트 재료, 및 해당 재료로 제작되어, 패턴이 전사된 막을 제공한다.
[해결수단] (A)성분: 하기 식(1)로 표시되는 반복단위를 가지며, 식 중 X
0 으로 표시되는 중합성기를 2개 이상 갖는 실세스퀴옥산 화합물, (B)성분: 하기 식(2)로 표시되는 반복단위를 가지며, 말단에 중합성기를 2개 갖는 실리콘 화합물, (C)성분: 광중합개시제 및 (D)성분: 용제를 함유하고, 상기 (A)성분 및 (B)성분의 합계 100질량%에 대하여, 해당 (B)성분의 비율이 5질량% 이상 25질량% 이하인 임프린트 재료.
(식 중, R
1 및 R
2 는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 3의 알킬기를 나타내고, R
0 은 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타내고, k는 0 내지 3의 정수를 나타낸다.)-
公开(公告)号：JP6424832B2
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：JP2015553516
申请日：2014-12-12
申请人： AGC株式会社
CPC分类号： G03F7/038 , C08F283/105 , C09D151/08 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/0388 , G03F7/0755 , G03F7/0757 , H01L51/0005 , C08F222/10 , C08F230/08
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公开(公告)号：JPWO2017073674A1
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：JP2016081898
申请日：2016-10-27
申请人： 東レ株式会社
IPC分类号： C08G73/10 , H01L33/22 , H01L33/32 , G03F7/023 , G03F7/004 , G03F7/075 , G03F7/40 , G03F7/20 , G03F7/09
CPC分类号： H01L33/24 , C08G65/18 , C08G69/28 , C08K5/1525 , C08K5/41 , C08L63/00 , C08L79/04 , C08L79/08 , C09D177/06 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/0755 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/40 , H01L33/0075 , H01L33/12
摘要： 本発明は、レジストパターンを曲面状に形成することが可能で、高温となる高出力ドライエッチング処理においてもレジスト焼けや炭化が生じず、良好なエッチング選択比とエッチング後の除去性を有する硬化膜を与えることが可能な樹脂組成物を用い、表面に曲面状のパターンが彫刻された基板の製造方法を提供する。 本発明は、基板に(A)ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド前駆体、ポリアミドイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、前記樹脂のうち少なくとも2種以上の共重合体、および前記樹脂のうち少なくとも1種と他の構造単位との共重合体からなる群より選ばれるアルカリ可溶性樹脂、 (B)光酸発生剤、ならびに (C)エポキシ化合物およびオキセタン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種類の化合物、 を含む樹脂組成物の被膜を設ける工程、 被膜のパターンを形成する工程、 被膜のパターンをマスクにしてエッチングにより基板をパターン加工する工程、ならびに樹脂組成物の被膜を除去する工程を有するパターン加工された基板の製造方法。
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公开(公告)号：JP6341093B2
公开(公告)日：2018-06-13
申请号：JP2014544530
申请日：2013-10-29
申请人： 旭硝子株式会社
IPC分类号： B32B27/18 , G03F7/075 , G03F7/027 , C08F290/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0385 , B32B27/16 , B32B27/20 , B32B27/24 , B32B27/26 , B32B2457/20 , C08F290/06 , G02F1/133516 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/038 , G03F7/0755 , C08F222/10
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公开(公告)号：JP6323007B2
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：JP2013526658
申请日：2013-06-06
申请人： 東レ株式会社
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F290/126 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0755 , G06F2203/04103 , C08F222/1006
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公开(公告)号：JP6320392B2
公开(公告)日：2018-05-09
申请号：JP2015534222
申请日：2014-08-26
IPC分类号： C07D207/46 , G03F7/004 , G03F7/075 , G03F7/20 , C07F7/18
CPC分类号： C07F7/1804 , C07D207/46 , G03F7/0755 , G03F7/16 , G03F7/20
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公开(公告)号：JP6272753B2
公开(公告)日：2018-01-31
申请号：JP2014509225
申请日：2013-04-05
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0757 , C07F7/1804 , C08L83/04 , C09D183/04 , C09D183/06 , G03F7/0755 , G03F7/085 , G03F7/30
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公开(公告)号：JP6172683B2
公开(公告)日：2017-08-02
申请号：JP2014534383
申请日：2013-09-04
发明人： 山口 和夫
IPC分类号： C07C205/37 , C07C205/42 , C07C205/45 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/075 , H01L21/027 , C07F7/18
CPC分类号： C07C205/37 , C07C205/45 , C07C205/56 , C07C49/825 , C07C49/84 , C07F7/1836 , C07F7/1852 , G03F7/0046 , G03F7/0755 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2002 , H01L21/0274 , G03F7/0002
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