公开(公告)号：JP6382362B2

公开(公告)日：2018-08-29

申请号：JP2017009006

申请日：2017-01-20

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 渋井 智史 ,  平田 竜也 ,  佐々木 隆弘 ,  山田 泰輔

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  C08G61/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0233 ,  C08G8/22 ,  C08G16/0225 ,  C08G61/02 ,  C08G61/127 ,  C08G61/128 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/76 ,  C08L61/12 ,  C08L65/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0384 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40 ,  H01L21/56 ,  H01L23/293

公开(公告)号：JP6292299B2

公开(公告)日：2018-03-14

申请号：JP2016518779

申请日：2016-03-28

Applicant: 東レ株式会社

Inventor： 橋本 啓華 ,  亀本 聡 ,  三好 一登

IPC: G03F7/004 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0387 ,  C08G8/12 ,  C08G69/26 ,  C08G73/1007 ,  C08G73/1017 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/106 ,  C08G73/1082 ,  C08G73/14 ,  C08G73/22 ,  C08G77/14 ,  C09D179/08 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/105 ,  H01L27/3244 ,  H01L27/3274 ,  H01L51/5284 ,  C08L61/06

公开(公告)号：JPWO2016158881A1

公开(公告)日：2018-03-08

申请号：JP2017509989

申请日：2016-03-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越後 雅敏 ,  樋田 匠 ,  佐藤 隆

IPC: G03F7/023 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/0226 ,  G03F7/022 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: (A)レジスト基材と、(B)ジアゾナフトキノン光活性化合物と、(C)溶媒と、を含有する感放射線性組成物であって、前記感放射線性組成物中における固形成分の含有量が1〜80質量%であり、溶媒の含有量が20〜99質量%であり、前記(A)レジスト基材が式(1)で表わされる化合物である、感放射線性組成物。

公开(公告)号：JP6195623B2

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：JP2015539332

申请日：2014-09-25

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 信太 勝 ,  植松 照博

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/033 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032

公开(公告)号：JPWO2015141719A1

公开(公告)日：2017-04-13

申请号：JP2016508760

申请日：2015-03-18

Applicant: 日本ゼオン株式会社

Inventor： 隆志 堤 ,  隆志 堤

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0751 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: バインダー樹脂(A)、感放射線化合物(B)、架橋剤(C)、及び下記一般式(1)で表されるシランカップリング剤(D)を含有する感放射線樹脂組成物を提供する。(上記一般式(1)中、R1〜R3は、それぞれ独立に、炭素数1〜5の1価のアルキル基、R4は、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、R5は、水素原子又は炭素数1〜5の1価のアルキル基、R6〜R10は、水素原子又は炭素数1〜5の1価のアルキル基である。)

公开(公告)号：JPWO2014091997A1

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：JP2014552008

申请日：2013-12-05

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 智子 上田 ,  智子 上田 ,  沢辺　賢 ,  賢 沢辺

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  H05K3/06

CPC classification number: C08L63/04 ,  C08J5/18 ,  C08J2363/04 ,  C08J2463/04 ,  C08J2463/10 ,  C08L2203/16 ,  C08L2205/025 ,  C08L2205/03 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/0236

Abstract: 本発明は、(A)不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂、(B)メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、(C)オルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、(D)光により酸を発生する化合物及び(E)多塩基酸又は多塩基酸無水物を含有し、(E)成分の含有量が、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分の総量100質量部に対して、40質量部未満である、ポジ型感光性樹脂組成物に関する。

Abstract translation: 本发明中，（A）具有的烃基的不饱和改性酚醛清漆型酚醛树脂，（B）间甲酚和从对甲酚获得的酚醛清漆的酚醛树脂，（C）从邻甲酚得到的酚醛清漆型酚醛树脂，（ D）含有化合物产生由光及（E）多元酸或多元酸酐，组分（E）的含量，（A）成分，（B）成分，（C）组分和酸 基于100重量份的组分（D）小于40质量份，涉及一种正型感光性树脂组合物。

公开(公告)号：JPWO2014050558A1

公开(公告)日：2016-08-22

申请号：JP2013542271

申请日：2013-09-11

Applicant: 東レ株式会社

Inventor： 大西　啓之 ,  啓之 大西 ,  有希 増田 ,  有希 増田 ,  富川　真佐夫 ,  真佐夫 富川

IPC: G03F7/023 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0233 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1075 ,  C08G73/1082 ,  C08G73/14 ,  C09D179/08 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/40 ,  C08K5/22 ,  C08K5/357

Abstract: 【課題】250℃以下の低温焼成時において、低反りかつ高感度で高解像性に優れた硬化膜を得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(a)一般式(1)で表される構造単位および一般式(2)で表される構造単位を有するポリイミド樹脂ならびに(b)キノンジアジド感光剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記一般式(1)で表される構造単位および一般式(2)で表される構造単位を有するポリイミド樹脂のイミド化率が85%以上であり、かつ一般式(1)で表される構造単位と一般式(2)で表される構造単位の比が30:70〜90:10であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】(一般式(1)中、X1は1〜4個の芳香族環を有するテトラカルボン酸残基を、Y1は1〜4個の芳香族環を有する芳香族ジアミン残基を示す。【化2】(一般式(2)中、X2は1〜4個の芳香族環を有するテトラカルボン酸残基を、Y2は少なくとも2つ以上のアルキレングリコール単位を主鎖に持つジアミン残基を示す。)【選択図】なし

Abstract translation: 公开的是低温度下焙烧250℃或更低，提供一种能够获得具有优异的低翘曲性和高灵敏度高分辨率的固化膜的正型感光性树脂组合物。 （A）含有聚酰亚胺树脂和（b）具有（1）由通式表示的结构单元的结构单元的通式醌二叠氮敏化剂（2）的正型感光性树脂组合物 是那些化合物，其中是式（1）的结构由以下通式（2）中具有的结构单元的聚酰亚胺树脂的酰亚胺化率来表示为85％以上表示的具有通式单元，和（1） 在由结构单元式表示的结构单元的比率（2）表示为30：70〜90：这是一个10的正型光敏树脂组合物。 ## STR1（通式（1）中，X 1为具有1-4个芳环的四羧酸残基，Y 1表示具有1-4个芳环的芳族二胺残基 。嵌入图像（上述通式（2）中，X 2是具有1-4个芳环的四羧酸残基，Y 2是具有在主链上至少两个或更多个亚烷基二醇单元的二胺残基 被示出。）装置技术领域

公开(公告)号：JP5910665B2

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：JP2014095773

申请日：2014-05-07

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 加藤 英人 ,  神原 浩 ,  降籏 智欣 ,  平野 禎典

IPC: B81C99/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03F7/023

CPC classification number: C09D163/04 ,  B81C1/00619 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G03F7/70466 ,  B81C2201/0108

公开(公告)号：JP5753074B2

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：JP2011502575

申请日：2010-12-27

Applicant: 株式会社 マイクロプロセス ,  臺灣永光化學工業股▲ふん▼有限公司

Inventor： 上田 昭史 ,  中河原 秀孝 ,  渡辺 和夫 ,  渡辺 茂輝 ,  籃 偉仁 ,  林 昭文

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  H05K3/28 ,  G03F7/32 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0233 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/30 ,  H05K3/064 ,  H05K1/0393

公开(公告)号：JP5700269B1

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：JP2014556288

申请日：2014-06-12

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 今田 知之 ,  佐藤 勇介 ,  木本 誠二

IPC: G03F7/023 ,  G03F7/11 ,  C08G8/28 ,  C08L61/08 ,  G03F7/20 ,  C07C39/14

CPC classification number: C08G8/20 ,  C07C39/17 ,  C08G8/04 ,  C09D161/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  C07C2103/92

Abstract: 耐熱性に優れるフェノール性水酸基含有化合物、耐熱分解性、光感度及び解像度に優れるレジスト用組成物、耐熱分解性及びドライエッチング耐性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。下記構造式(1) (式中、R 1 は水素原子、アルキル基又はアリール基であり、nは2〜10の整数である。R 2 はアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子の何れかであり、mは0〜4の整数である。mが2以上の場合、複数のR 2 はそれぞれ同一でも良いし異なっていても良く、ナフチレン骨格の2つの芳香環のうちどちらに結合していても良い。) で表される分子構造を有することを特徴とするフェノール性水酸基含有化合物。

Abstract translation: 含有酚羟基的化合物具有优异的耐热性，提供了热分解性，具有优异的光敏度和分辨率的抗蚀剂组合物，抗蚀剂具有优异的耐热分解性和耐干蚀性下层膜的组合物。 以下结构式（1）（式中，R1是氢原子，烷基或芳基，n表示2〜10的整数是.R2是烷基，烷氧基，芳基，芳烷基，卤原子 是任何一种，m是如果.M为2或0-4的整数，多个的R 2可以是不同的可以是相同的，附加到其中亚萘基骨架的两个芳环的 即使它可能。）含有酚羟基的化合物，其特征在于具有由所示的分子结构。