公开(公告)号：KR101853154B1

公开(公告)日：2018-04-27

申请号：KR1020137019877

申请日：2011-12-21

申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤

发明人： 사카키바라,히로카즈 ,  후루카와,다이치 ,  호리,마사후미 ,  이토,고지 ,  미야타,히로무

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0041 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

摘要： 본발명은 (1) 감방사선성수지조성물을이용하는레지스트피막형성공정, (2) 노광공정, 및 (3) 유기용매가 80질량% 이상인현상액을이용하는현상공정을갖는레지스트패턴형성방법으로서, 상기감방사선성수지조성물이 [A] 산해리성기를갖는중합체를포함하는중합체성분, 및 [B] 감방사선성산발생체를함유하고, [A] 중합체성분이, 동일하거나또는상이한중합체중에, 탄화수소기 (a1)을갖는구조단위 (I) 및탄화수소기 (a2)를갖는구조단위 (II)를포함하고, 탄화수소기 (a1)이치환되어있을수도있는탄소수 8 이하의분지쇄상기또는치환되어있을수도있는환탄소수 3 내지 8의단환의지방족환식기이고, 탄화수소기 (a2)가아다만탄골격을갖고, 탄화수소기 (a1)에대한탄화수소기 (a2)의몰비가 1 미만이며, [A] 중합체성분에있어서의수산기를갖는구조단위의함유비율이 5몰% 미만인것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR101845568B1

公开(公告)日：2018-04-04

申请号：KR1020120034457

申请日：2012-04-03

申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

发明人： 우츠미요시유키 ,  시미즈히로아키

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： 산의작용에의해유기용제에대한용해성이감소하는기재성분 (A), 및노광에의해산을발생하는산발생제성분 (B) 를함유하는레지스트조성물을사용하여지지체상에레지스트막을형성하는공정, 상기레지스트막을노광하는공정, 및상기레지스트막을, 상기유기용제를함유하는현상액을사용한네거티브형현상에의해패터닝하여레지스트패턴을형성하는공정을포함하는레지스트패턴형성방법에사용되는레지스트조성물로서, 상기산발생제성분 (B) 가, logP 값이 2.7 이하이고, 또한, pKa 가 -3.5 이상인산을발생하는산발생제 (B1) 을함유하는것을특징으로하는네거티브형현상용레지스트조성물.

摘要翻译： 使用抗蚀剂含有基材成分（A），和产酸剂成分（B）组合物的步骤引起暴露于溶解度的溶解在通过酸的作用下，有机溶剂降低到形成在载体上的抗蚀剂膜 暴露抗蚀剂膜的步骤;以及使用含有有机溶剂的显影剂通过负型显影使抗蚀剂膜图案化来形成抗蚀剂图案的步骤， 其中，酸产生剂成分（B）含有logP值为2.7以下，产生pKa为-3.5以上的磷酸的酸产生剂（B1）。

公开(公告)号：KR101845113B1

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：KR1020137014061

申请日：2011-12-01

申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤

发明人： 마루야마,겐

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F220/10 ,  C08K5/42 ,  C08L33/04 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/027 ,  C07C309/06 ,  C08F220/10 ,  C08K5/42 ,  C08L33/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/20

摘要： 본발명의목적은현상후의패턴붕괴에대한내성, LWR 및 MEEF의균형이우수한감방사선성수지조성물, 및이것에바람직하게이용되는감방사선성산발생제를제공하는데 있다. 본발명은 [A] 하기화학식 (1)로표시되는화합물과, [B] 베이스중합체를포함하는감방사선성수지조성물이다. 또한, 상기화학식 (1)에있어서 R은하기화학식 (a1)로표시되는것이바람직하다. 또한, 상기화학식 (1)에있어서 M는술포늄양이온또는요오도늄양이온인것이바람직하다.

公开(公告)号：KR101844213B1

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：KR1020110117558

申请日：2011-11-11

申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

发明人： 안류유카코 ,  이치카와고지

IPC分类号： G03F7/038 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02

CPC分类号： C07D327/02 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07D327/04 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

摘要： 화학식 I의염. 화학식 I상기화학식 I에서, R및 R는, 각각독립적으로, 불소원자또는탄소수 1 내지 6의퍼플루오로알킬기이고, L은, 단결합, 탄소수 1 내지 6의알칸디일기, 탄소수 4 내지 8의 2가의지환식탄화수소기, -(CH)-CO-O-* 또는 -(CH)-CO-O-CH-(CH)-*이고, 당해알칸디일기및 당해 -(CH)-에포함되는 -CH-는, -O-로치환되어있어도좋고, t는, 1 내지 12의정수이고, u는, 0 내지 12의정수이고, *는, Y와의결합부위이고, Y는, 치환기를가지고있어도좋은탄소수 3 내지 18의 1가의지환식탄화수소기이고, 당해지환식탄화수소기를구성하고있는 -CH-는, -O-, -SO- 또는 -CO-로치환되어있어도좋고, R, R, R, R및 R은, 각각독립적으로, 수소원자, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 6의알킬기, 탄소수 1 내지 6의알콕시기, 탄소수 2 내지 7의알콕시카르보닐옥시기또는탄소수 2 내지 12의아실옥시기이고, S를포함하는지환에포함되는 -CH-는, -O- 또는 -CO-로치환되어있어도좋고, n은, 1 내지 3의정수이고, s는, 0 내지 3의정수이고, R은, 각각독립적으로, 탄소수 1 내지 6의알킬기이다.

公开(公告)号：KR101843601B1

公开(公告)日：2018-03-29

申请号：KR1020137009433

申请日：2011-09-05

申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤

发明人： 사까끼바라,히로까즈 ,  후루까와,다이이찌 ,  기무라,레이꼬 ,  호리,마사후미

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： 본발명은유기용매를함유하는현상액을이용하는레지스트패턴형성방법에있어서, 레지스트막의패턴형성후의막 감소를억제할수 있음과동시에, CDU, MEEF가우수한레지스트패턴을형성할수 있고, 해상성도충분히만족시키는감방사선성수지조성물, 및그것을이용한레지스트패턴형성방법을제공하는것을목적으로한다. 본발명은 (1) 감방사선성수지조성물을기판상에도포하는레지스트막형성공정, (2) 노광공정, 및 (3) 유기용매를 80 질량% 이상함유하는현상액을이용하는현상공정을갖는레지스트패턴형성방법으로서, 상기감방사선성수지조성물이, [A] 폴리스티렌환산중량평균분자량이 6,000을초과하고, 산해리성기를포함하는구조단위를갖고, 수산기를포함하는구조단위의함유비율이 5몰% 미만인중합체, 및 [B] 감방사선성산 발생체를함유하는것을특징으로한다.

摘要翻译： 本发明涉及一种使用含有有机溶剂的显影溶液形成方法的抗蚀剂图案，可以形成在在同一时间，CDU抗蚀膜的图案后抑制厚度损失，并且可以是MEEF高斯形成抗蚀剂图案，海洋成都满足 辐射敏感树脂组合物，以及使用其的抗蚀剂图案形成方法。 本发明（1）的辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜在基板上形成涂层的步骤，（2）在曝光过程中，和（3）使用的显影溶液，其重量的有机溶剂的含量不低于80％具有显影步骤的抗蚀剂图案 作为成形方法，其中，所述辐射敏感性树脂组合物中，[A]的聚苯乙烯换算的重均分子量超过6000，并具有包含酸解离性基团的结构单元，含有羟基基团的结构单元的含量为小于5％（摩尔） 一种聚合物和一种[B]辐射敏感酸产生剂。

公开(公告)号：KR101827695B1

公开(公告)日：2018-03-22

申请号：KR1020100054357

申请日：2010-06-09

申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

发明人： 이치카와고지 ,  스기하라마사코 ,  사카모토히로무

IPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07D307/94 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： 화학식 a1의염. 화학식 a1위의화학식 a1에서, Q및 Q는각각독립적으로불소원자또는 C1-C4 퍼플루오로알킬그룹이고, X은 -CO-O-X- 또는 -CH-O-X-이고, 여기서, 상기 X및 X는각각독립적으로 C1-C15 알킬렌그룹이고, 상기알킬렌그룹중의하나이상의 -CH-는 -O- 또는 -CO-로대체될수 있으며, Y은 C3-C6 지환족탄화수소그룹또는 C6-C24 방향족탄화수소그룹이고, 상기지환족탄화수소그룹과상기방향족탄화수소그룹은하나이상의치환체들을가질수 있고, 상기지환족탄화수소그룹중의하나이상의 -CH-는 -O- 또는 -CO-로대체될수 있으며, Z는유기양이온이다.

摘要翻译： 式a1的盐。 其中Q和Q各自独立地为氟原子或C1-C4全氟烷基，X为-CO-OX-或-CH-OX-，其中X和X为 并且亚烷基的至少一个-CH-可以被-O-或-CO-代替，Y是C3-C6脂环烃基或C6-C24芳香烃基 脂环族烃基和芳香族烃基可以具有一个或多个取代基，脂环族烃基的-CH-中的一个或多个可以被-O-或-CO-代替，并且Z是有机阳离子。

公开(公告)号：KR101839183B1

公开(公告)日：2018-03-15

申请号：KR1020150007302

申请日：2015-01-15

申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

发明人： 하타케야마쥰 ,  하세가와고지

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046

摘要： 카르복실기또는페놀성히드록실기가산불안정기로치환되어있는반복단위, 및질산이소소르비드에스테르의반복단위를포함하는, Mw가 1,000~500,000인고분자화합물을포함하는포지티브형레지스트재료가제공된다. 상기레지스트재료는충분한산 확산억제효과및 고해상성을가지며, 노광후의양호한패턴형상및 최소엣지러프니스를형성한다.

摘要翻译： 具有羧基或酚性羟基的重复取代的加入不稳定单元，以及包括该硝酸异山梨醇酯的重复单元，Mw为正型抗蚀剂组合物，含有1000〜500000锭分子化合物。 抗蚀剂材料具有足够的酸扩散抑制效果和高分辨率，并且曝光后形成良好的图案形状和最小的边缘粗糙度。

公开(公告)号：KR101837203B1

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：KR1020120035935

申请日：2012-04-06

申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

发明人： 이찌까와,고지 ,  야스에,다까히로 ,  마스야마,다쯔로

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041

摘要： 레지스트조성물은 (A) 알칼리수용액에불용성또는난용성이지만산의작용에의해알칼리수용액에가용성이되는수지, (B) 알칼리현상제의작용에의해절단되는구조를갖는산발생제, 및 (C) 화학식 (I)로표시되는화합물을포함한다.(식중, R및 R는각 경우독립적으로 C내지 C의탄화수소기, C내지 C의알콕시기, C내지 C의아실기, C내지 C의아실옥시기, C내지 C의알콕시카르보닐기, 니트로기또는할로겐원자를나타내고; m 및 n은독립적으로 0 내지 4의정수를나타냄)

摘要翻译： （A）在碱性水溶液中不溶或难溶但通过酸的作用可溶于碱性水溶液的树脂，（B）具有在碱性显影剂作用下裂解的结构的酸产生剂，和（C） （I）的化合物，其中R和R独立地为C至C的烃基，C至C的烷氧基，C至C的酰基，C至C的酰氧基， C，烷氧基羰基，硝基或卤素原子; m和n独立地表示0至4的数）

公开(公告)号：KR20180016958A

公开(公告)日：2018-02-20

申请号：KR20170099664

申请日：2017-08-07

申请人： SHINETSU CHEMICAL CO

发明人： HATAKEYAMA JUN ,  OHASHI MASAKI

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/1866 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

摘要： [과제] 포지티브형레지스트재료에있어서도네거티브형레지스트재료에있어서도고감도이면서또한 LWR이나 CDU가작은레지스트재료및 이것을이용하는패턴형성방법을제공한다. [해결수단] 베이스폴리머및 하기식(1-1)로표시되는술포늄염또는하기식(1-2)로표시되는요오도늄염을포함하는산발생제를포함하는레지스트재료.

摘要翻译： 包含基础聚合物和碘化苯氧基或碘化苯基烷氧基的氟化磺酸的锍盐或碘鎓盐的抗蚀剂组合物提供高灵敏度和最小的LWR或改进的CDU，而不管它是正性还是负性色调。

公开(公告)号：KR101828853B1

公开(公告)日：2018-02-13

申请号：KR1020157000041

申请日：2013-06-27

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 카와바타타케시 ,  츠바키히데아키 ,  타키자와히로오 ,  요코카와나츠미

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/20 ,  C08F14/185 ,  C08F28/02 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325

摘要： 활성광선또는방사선의조사시에분해되어수지의측쇄에산을발생하는이온성구조부위를각각함유하는하기일반식(I)의반복단위(A) 중어느하나를함유하는수지(P)를포함하는감활성광선성또는감방사선성수지조성물을제공한다.