公开(公告)号：KR101897026B1

公开(公告)日：2018-09-10

申请号：KR1020120112391

申请日：2012-10-10

Applicant: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

Inventor： 이치카와코지 ,  사카모토히로무 ,  후지타신고

IPC: C08F20/26 ,  C08L33/04 ,  G03F7/033 ,  G03F7/20

CPC classification number: C07D327/04 ,  C08F28/06 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 본발명은식 (aa)로나타내어지는구조단위를포함하는수지를제공한다:[식중, T은치환기를가질수 있는 C3-C34 술톤고리기를나타내고; X은 -O- 또는 -N(R)- 를나타내며; R는수소원자또는 C1-C6 알킬기를나타내고; Z은 -X- 또는 -X-X-CO-X- 를나타내는데, X, X, 및 X는각각독립적으로 C1-C6 알칸디일기를나타내고, X는 -O- 또는 -N(R)- 를나타내며, R는수소원자또는 C1-C6 알킬기를나타내며; R은수소원자, 할로겐원자, 또는할로겐원자를가질수 있는 C1-C6 알킬기를나타냄].

公开(公告)号：KR101660041B1

公开(公告)日：2016-09-26

申请号：KR1020090114474

申请日：2009-11-25

Applicant: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

Inventor： 가와우에아키야 ,  우츠미요시유키 ,  하다히데오 ,  세시모다케히로 ,  마츠자와겐스케 ,  이시두카게이타 ,  엔도고타로

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D307/94 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 산의작용에의해알칼리현상액에대한용해성이변화되는기재성분 (A), 및노광에의해산을발생하는산발생제성분 (B) 를함유하는레지스트조성물로서, 산발생제성분 (B) 는일반식 (I) [식중, R는카르보닐기, 에스테르결합, 또는술포닐기를갖는유기기를나타내고, Q 는 2 가의연결기이다.] 로나타내는기를카티온부에갖는화합물로이루어지는산발생제 (B1) 을함유하는것을특징으로하는레지스트조성물. [화학식 1]

公开(公告)号：KR101313398B1

公开(公告)日：2013-10-01

申请号：KR1020127026451

申请日：2012-07-06

Applicant: 스미또모 세이까 가부시키가이샤

Inventor： 오노즈카도모히로 ,  후지모토쇼헤이 ,  후지타고지

IPC: H01M10/0567 ,  H01M10/0566 ,  H01M10/0525 ,  H01G9/035

CPC classification number: H01M10/0567 ,  C07C309/65 ,  C07C311/03 ,  C07C311/08 ,  C07C311/13 ,  C07D285/01 ,  C07D285/36 ,  C07D295/26 ,  C07D327/04 ,  C07F7/21 ,  C07F9/4006 ,  C07F9/6544 ,  C07F9/6552 ,  H01G11/58 ,  H01G11/64 ,  Y02E60/13

Abstract: 본 발명은 보존 안정성이 우수하고, 비수 전해액 2 차 전지, 전기 이중층 커패시터 등의 축전 디바이스에 사용한 경우에, 전극 표면 상에 안정적인 SEI 를 형성하여 사이클 특성, 충방전 용량, 내부 저항 등의 전지 특성을 개선할 수 있는 비수 전해액용 첨가제를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 그 비수 전해액용 첨가제를 함유하는 비수 전해액 및 그 비수 전해액을 사용한 축전 디바이스를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 하기 식 (1-1) 로 나타내는 구조, 또는 하기 식 (1-2) 로 나타내는 구조를 갖고, 최저 공분자 궤도 에너지가 -3.0 ∼ 0.4 eV 이고, 표준 생성 엔탈피가 -220 ∼ -40 ㎉/㏖ 이고, 또한, 가수분해 반응에 수반되는 엔탈피 변화가 -5 ∼ 5 ㎉/㏖ 인 화합물로 이루어지는 비수 전해액용 첨가제이다.
식 (1-1) 및 식 (1-2) 중, A 는 C
m H
(2m-n) Z
n 을 나타내고, m 은 1 ∼ 6 의 정수이고, n 은 0 ∼ 12 의 정수이고, Z 는 치환되어 있어도 되는 알킬기, 실릴기, 포스폰산에스테르기, 아실기, 시아노기, 또는 니트로기를 나타낸다.
[화학식 1]

公开(公告)号：KR1020120052167A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：KR1020110117558

申请日：2011-11-11

Applicant: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

Inventor： 안류유카코 ,  이치카와고지

IPC: G03F7/038 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02

CPC classification number: C07D327/02 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07D327/04 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

Abstract: PURPOSE: A salt and a method for manufacturing a photoresist pattern are provided to obtain the resist pattern with CD uniformity. CONSTITUTION: An acid generator contains salt of chemical formula I. A photoresist composition contains the acid generator and resin which has unstable groups in acid and is non-soluble or insoluble in an alkali solution. A method for manufacturing a photoresist pattern comprises: a step of applying the photoresist composition on a substrate; a step of drying the composition to form a composition layer; a step of exposing light to the composition layer; a step of heating the composition layer; and a step of developing the composition layer.

Abstract translation: 目的：提供盐和制造光致抗蚀剂图案的方法以获得具有CD均匀性的抗蚀剂图案。 构成：酸产生剂含有化学式I的盐。光致抗蚀剂组合物含有在酸中不稳定基团并且不溶于或不溶于碱溶液的酸产生剂和树脂。 光致抗蚀剂图案的制造方法包括：将光致抗蚀剂组合物涂布在基板上的工序; 干燥组合物以形成组合物层的步骤; 将光曝光到组合物层的步骤; 加热组合物层的步骤; 以及显影组合物层的步骤。

公开(公告)号：KR1020120014005A

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：KR1020117028054

申请日：2010-04-26

Applicant: 사노피

Inventor： 파르카니졸트 ,  퍼제커스야노스 ,  미스콜치페테르 ,  몰나르언너마리어 ,  아거이베이어

IPC: C07D277/42 ,  C07D327/04 ,  C07C331/04 ,  C07D339/06 ,  C08F216/14

CPC classification number: C07D277/42 ,  C07C331/04 ,  C07D327/04 ,  C07D339/06 ,  C08F2216/1483

Abstract: 본 발명의 주제는 화학식 I의 [4-(2-클로로-4-메톡시-5-메틸페닐)-5-메틸-티아졸로-2-일]-[2-사이클로프로필-1-(3-플루오로-4-메틸페닐)-에틸]-아민의 신규한 제조방법 및 당해 제조방법의 신규한 중간체이다.
화학식 I

公开(公告)号：KR100137023B1

公开(公告)日：1998-04-25

申请号：KR1019890004725

申请日：1989-04-11

Applicant: 샤이어 캐나다 인코포레이티드

Inventor： 버나드벨로우

IPC: C07D487/04

CPC classification number: C07D411/14 ,  C07D327/04 ,  C07D405/04 ,  C07D411/04 ,  C07D473/00 ,  C07D473/40

Abstract: 내용없음

公开(公告)号：KR101777260B1

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：KR1020100054461

申请日：2010-06-09

Applicant: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

Inventor： 이치가와,코지 ,  스기하라,마사코 ,  시마다,마사히코

IPC: C07D327/06 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07D327/06 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D317/12 ,  C07D317/16 ,  C07D317/24 ,  C07D319/12 ,  C07D321/02 ,  C07D327/04 ,  C07D339/02 ,  C07D339/06 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/38

Abstract: 식 (I)로나타낸기를갖는염이개시된다:여기서, T는적어도 2 이상의메틸렌기가 -O- 또는 -S-로대체되고, 1 이상의치환기를가질수 있는 C3-C36 지환식탄화수소기를나타낸다.

Abstract translation: 式（I），其具有一组tanaen公开洛娜盐：其中，T是由基团替代 - O-或-S-的至少两个亚甲基，表示可以具有任何一个或多个取代基的C3-C36脂环烃基。

公开(公告)号：KR101699087B1

公开(公告)日：2017-01-23

申请号：KR1020110087010

申请日：2011-08-30

Applicant: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤

Inventor： 우츠미요시유키 ,  세시모다케히로

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/42

CPC classification number: C07D327/04 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 산의작용에의해알칼리현상액에대한용해성이변화되는기재성분 (A), 및노광에의해산을발생시키는산발생제성분 (B) 를함유하는레지스트조성물로서, 상기산발생제성분 (B) 는일반식 (b1-1) [식중, Z는유기카티온을나타낸다.] 로나타내는화합물로이루어지는산발생제 (B1) 을함유하는레지스트조성물. [화학식 1]

Abstract translation: 一种正型抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），其中，所述酸发生剂成分（B）含有 含有下述通式（b1-1）表示的化合物（其中Z +表示有机阳离子）的酸发生剂（B1）。

公开(公告)号：KR1020160085221A

公开(公告)日：2016-07-15

申请号：KR1020160001091

申请日：2016-01-05

Applicant: 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤

Inventor： 오치아이미츠요시 ,  이치카와고지

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C25/18 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D313/10 ,  C07D327/02 ,  C07D327/04 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38

Abstract: 산불안정기를갖는수지; 식 (I)로나타내어지는염; 및식 (B1)로나타내어지는염을포함하는포토레지스트조성물.

Abstract translation: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包含：具有酸不稳定基团的树脂; 以化学式（I）表示的盐; 和由化学式（B1）表示的盐。

公开(公告)号：KR1020160014573A

公开(公告)日：2016-02-11

申请号：KR1020157022696

申请日：2014-03-11

Applicant: 제이에스알 가부시끼가이샤

Inventor： 나마이,하야토

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C51/02 ,  C07D307/77 ,  C07D313/04 ,  C07D317/46 ,  C07D327/04 ,  C07C59/205 ,  C07C59/21 ,  C07C381/12

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C51/02 ,  C07C51/41 ,  C07C59/185 ,  C07C59/205 ,  C07C59/21 ,  C07C59/84 ,  C07C67/30 ,  C07C69/36 ,  C07C69/63 ,  C07C327/06 ,  C07C327/32 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/77 ,  C07D307/93 ,  C07D313/04 ,  C07D313/10 ,  C07D315/00 ,  C07D317/46 ,  C07D317/72 ,  C07D327/04 ,  C08F2/38 ,  C08F4/00 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  C07C319/20 ,  C07C323/52

Abstract: 본발명은, 산해리성기를포함하는구조단위를갖는중합체및 하기식 (1)로표현되는화합물을함유하는감방사선성수지조성물이다. 하기식 (1) 중, R은탄소수 1 내지 30의 1가의유기기이다. L은단결합, 산소원자또는황 원자이다. M는 1가의방사선분해성오늄양이온이다. 식 (1)에서의 R의 1가의유기기가 1가의탄화수소기또는 1가의불소화탄화수소기이며, L이단결합인것이바람직하다. 식 (1)에서의 R의 1가의유기기가 1가의탄화수소기, 1가의불소화탄화수소기, 1가의지방족복소환기 또는 1가의불소화지방족복소환기이며, L이산소원자또는황 원자인것도바람직하다. 상기 M의 1가의방사선분해성오늄양이온이하기식 (X)으로표현되는것이바람직하다. 감방사선성산 발생체를더 함유하는것이바람직하다.

Abstract translation: 辐射敏感性树脂组合物包括含有酸不稳定基团的结构单元的聚合物; 和由式（1）表示的化合物。 R1表示碳原子数为1〜30的一价有机基团。 L表示单键，氧原子或硫原子。 M +代表一价放射性不稳定鎓阳离子。 由R1表示的一价有机基团优选为一价烃基或一价氟化烃基，L优选表示单键。 由R1表示的一价有机基团优选为一价烃基，一价氟化烃基，一价脂族杂环基或一价含氟脂族杂环基，L优选表示氧原子或硫原子。 由M +表示的单价放射线不稳定鎓阳离子优选由式（X）表示。