半導體結構及其製造方法
    23.
    发明专利
    半導體結構及其製造方法 审中-公开
    半导体结构及其制造方法

    公开(公告)号:TW201816965A

    公开(公告)日:2018-05-01

    申请号:TW105137581

    申请日:2016-11-17

    IPC分类号: H01L23/492

    摘要: 一種半導體結構的製造方法包含:提供一基板與位於該基板上方的一晶片;配置該基板於一第一模具件上方;配置一第二模具件於該基板上方,以囊封該晶片;配置一模製材料於該晶片附近;形成一模製物於該基板上方且於該晶片附近;移除該第一模具件;移除該第二模具件;其中該第一模具件包含一曲面,該曲面朝向該基板、該晶片或該第二模具件突出。

    简体摘要: 一种半导体结构的制造方法包含:提供一基板与位于该基板上方的一芯片;配置该基板于一第一模具件上方;配置一第二模具件于该基板上方,以囊封该芯片;配置一模制材料于该芯片附近;形成一模制物于该基板上方且于该芯片附近;移除该第一模具件;移除该第二模具件;其中该第一模具件包含一曲面,该曲面朝向该基板、该芯片或该第二模具件突出。

    半導體裝置及其製造方法
    24.
    发明专利
    半導體裝置及其製造方法 审中-公开
    半导体设备及其制造方法

    公开(公告)号:TW201804590A

    公开(公告)日:2018-02-01

    申请号:TW105133110

    申请日:2016-10-13

    IPC分类号: H01L23/495 H01L23/28

    摘要: 本揭露提供一種半導體裝置及其製造方法。在本揭露之實施例中,該半導體裝置包含一積體電路晶粒;設置於該積體電路晶粒上的至少一導電終端;設置於該積體電路晶粒上的一框架,其中該框架實質暴露該至少一導電終端;以及設置於該框架中的至少一導電凸塊,其中該至少一導電凸塊電連接該至少一導電終端。

    简体摘要: 本揭露提供一种半导体设备及其制造方法。在本揭露之实施例中,该半导体设备包含一集成电路晶粒;设置于该集成电路晶粒上的至少一导电终端;设置于该集成电路晶粒上的一框架,其中该框架实质暴露该至少一导电终端;以及设置于该框架中的至少一导电凸块,其中该至少一导电凸块电连接该至少一导电终端。

    半導體結構及其製造方法
    29.
    发明专利
    半導體結構及其製造方法 审中-公开
    半导体结构及其制造方法

    公开(公告)号:TW201838158A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:TW106128160

    申请日:2017-08-18

    IPC分类号: H01L27/11551 H01L27/11597

    摘要: 一種半導體結構包含第一堆疊中介層、第一晶片、 以及複數個第二凸塊。第一堆疊中介層包含第一中介層、複數個第一導電柱、複數個第一凸塊、以及第一重分布層。第一中介層具有第一表面和與其相對的第二表面。複數個第一導電柱從第一中介層的第一表面穿透至第二表面。複數個第一凸塊位於第一中介層之第一表面的一側並電性連接此些第一導電柱。第一表面具有一淨空區域,此淨空區域無第一凸塊。第一重分布層位於第一中介層的第二表面上。第一晶片位於第一重分布層的上方。第一晶片在垂直第一表面的方向上與第一中介層之第一表面的淨空區域對齊。複數個第二凸塊連接第一重分布層和第一晶片。

    简体摘要: 一种半导体结构包含第一堆栈中介层、第一芯片、 以及复数个第二凸块。第一堆栈中介层包含第一中介层、复数个第一导电柱、复数个第一凸块、以及第一重分布层。第一中介层具有第一表面和与其相对的第二表面。复数个第一导电柱从第一中介层的第一表面穿透至第二表面。复数个第一凸块位于第一中介层之第一表面的一侧并电性连接此些第一导电柱。第一表面具有一净空区域,此净空区域无第一凸块。第一重分布层位于第一中介层的第二表面上。第一芯片位于第一重分布层的上方。第一芯片在垂直第一表面的方向上与第一中介层之第一表面的净空区域对齐。复数个第二凸块连接第一重分布层和第一芯片。