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公开(公告)号:TWI697055B
公开(公告)日:2020-06-21
申请号:TW108113080
申请日:2010-10-08
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 小山潤 , KOYAMA, JUN , 三宅博之 , MIYAKE, HIROYUKI , 高橋圭 , TAKAHASHI, KEI , 豐高耕平 , TOYOTAKA, KOUHEI , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI , 野田耕生 , NODA, KOSEI , 桑原秀明 , KUWABARA, HIDEAKI
IPC分类号: H01L21/336 , H01L29/786
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公开(公告)号:TWI669822B
公开(公告)日:2019-08-21
申请号:TW105110301
申请日:2009-11-03
发明人: 秋元健吾 , AKIMOTO, KENGO , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI
IPC分类号: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L21/28
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公开(公告)号:TW201921513A
公开(公告)日:2019-06-01
申请号:TW107131523
申请日:2010-10-08
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI,SHUNPEI , 小山潤 , KOYAMA,JUN , 三宅博之 , MIYAKE,HIROYUKI , 高橋圭 , TAKAHASHI,KEI , 豐高耕平 , TOYOTAKA,KOUHEI , 津吹將志 , TSUBUKU,MASASHI , 野田耕生 , NODA,KOSEI , 桑原秀明 , KUWABARA,HIDEAKI
IPC分类号: H01L21/336 , H01L29/786
摘要: 本發明的課題之一是降低用於LSI、CPU或記憶體的電晶體的漏電流及寄生電容。使用如下薄膜電晶體來製造LSI、CPU或記憶體等的半導體積體電路,在上述薄膜電晶體中,去掉氧化物半導體中的成為電子給體(施體)的雜質,利用所得到的本徵或者實際上本徵的其能隙大於矽半導體的氧化物半導體來形成通道區。使用氫濃度被充分地降低而被高純度化的氧化物半導體層形成的薄膜電晶體可以實現由漏電流引起的耗電少的半導體裝置。
简体摘要: 本发明的课题之一是降低用于LSI、CPU或内存的晶体管的漏电流及寄生电容。使用如下薄膜晶体管来制造LSI、CPU或内存等的半导体集成电路,在上述薄膜晶体管中,去掉氧化物半导体中的成为电子给体(施体)的杂质,利用所得到的本征或者实际上本征的其能隙大于硅半导体的氧化物半导体来形成信道区。使用氢浓度被充分地降低而被高纯度化的氧化物半导体层形成的薄膜晶体管可以实现由漏电流引起的耗电少的半导体设备。
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公开(公告)号:TWI649882B
公开(公告)日:2019-02-01
申请号:TW106136959
申请日:2010-10-20
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 三宅博之 , MIYAKE, HIROYUKI , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI , 野田耕生 , NODA, KOSEI
IPC分类号: H01L29/786 , H02M3/07
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公开(公告)号:TW201843743A
公开(公告)日:2018-12-16
申请号:TW107128851
申请日:2010-08-26
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 坂田淳一郎 , SAKATA, JUNICHIRO , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI , 秋元健吾 , AKIMOTO, KENGO , 細羽美雪 , HOSOBA, MIYUKI , 坂倉真之 , SAKAKURA, MASAYUKI , 及川欣聰 , OIKAWA, YOSHIAKI
IPC分类号: H01L21/336 , H01L21/324
摘要: 本發明提供一種顯示特性優越的顯示裝置,其中使用根據其電路特徵的不同結構的電晶體分別形成同一基板上的像素電路及驅動電路。在該驅動電路部中,包括閘極電極層、源極電極層及汲極電極層由金屬膜構成,且通道層由氧化物半導體構成的驅動電路用電晶體。此外,在該像素部中,包括閘極電極層、源極電極層及汲極電極層由氧化物導電體構成,且半導體層由氧化物半導體構成的像素用電晶體。該像素用電晶體由具有透光性的材料形成,並製造高孔徑比的顯示裝置。
简体摘要: 本发明提供一种显示特性优越的显示设备,其中使用根据其电路特征的不同结构的晶体管分别形成同一基板上的像素电路及驱动电路。在该驱动电路部中,包括闸极电极层、源极电极层及汲极电极层由金属膜构成,且信道层由氧化物半导体构成的驱动电路用晶体管。此外,在该像素部中,包括闸极电极层、源极电极层及汲极电极层由氧化物导电体构成,且半导体层由氧化物半导体构成的像素用晶体管。该像素用晶体管由具有透光性的材料形成,并制造高孔径比的显示设备。
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公开(公告)号:TW201830365A
公开(公告)日:2018-08-16
申请号:TW107110103
申请日:2010-09-02
发明人: 木村肇 , KIMURA, HAJIME , 秋元健吾 , AKIMOTO, KENGO , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI , 佐佐木俊成 , SASAKI, TOSHINARI
IPC分类号: G09G3/20 , G02F1/1368 , H01L29/786
摘要: 本發明提供一種包含具有記憶體的像素的顯示裝置。在像素中至少設置顯示元件、電容器、反相器以及開關。藉由使用保持在電容器中的信號和從反相器輸出的信號來控制開關,以便向顯示元件供應電壓。可以使用具有相同極性的電晶體來構成反相器以及開關。另外,也可以使用具有透光性的材料來形成構成像素的半導體層。另外,也可以使用具有透光性的導電層來形成閘極電極、汲極電極以及電容器電極。如上所述,藉由使用透光材料來形成像素,可以製造透射型顯示裝置,而同時該顯示裝置具有配置有記憶體的像素。
简体摘要: 本发明提供一种包含具有内存的像素的显示设备。在像素中至少设置显示组件、电容器、反相器以及开关。借由使用保持在电容器中的信号和从反相器输出的信号来控制开关,以便向显示组件供应电压。可以使用具有相同极性的晶体管来构成反相器以及开关。另外,也可以使用具有透光性的材料来形成构成像素的半导体层。另外,也可以使用具有透光性的导电层来形成闸极电极、汲极电极以及电容器电极。如上所述,借由使用透光材料来形成像素,可以制造透射型显示设备,而同时该显示设备具有配置有内存的像素。
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公开(公告)号:TWI692109B
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:TW107128489
申请日:2011-12-01
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI , 秋元健吾 , AKIMOTO, KENGO , 大原宏樹 , OHARA, HIROKI , 本田達也 , HONDA, TATSUYA , 小俁貴嗣 , OMATA, TAKATSUGU , 野中裕介 , NONAKA, YUSUKE , 高橋正弘 , TAKAHASHI, MASAHIRO , 宮永昭治 , MIYANAGA, AKIHARU
IPC分类号: H01L29/78 , H01L21/336
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公开(公告)号:TW201842676A
公开(公告)日:2018-12-01
申请号:TW107128489
申请日:2011-12-01
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI , 秋元健吾 , AKIMOTO, KENGO , 大原宏樹 , OHARA, HIROKI , 本田達也 , HONDA, TATSUYA , 小俁貴嗣 , OMATA, TAKATSUGU , 野中裕介 , NONAKA, YUSUKE , 高橋正弘 , TAKAHASHI, MASAHIRO , 宮永昭治 , MIYANAGA, AKIHARU
IPC分类号: H01L29/78 , H01L21/336
摘要: 本文提出具有較穩定的導電性之氧化物半導體膜。此外,藉由使用該氧化物半導體膜來提供具有穩定電氣特性及高可靠性之半導體裝置。氧化物半導體膜包括結晶區域,且結晶區域包括其中a-b面與膜之一表面實質上平行且c軸與膜的該表面實質上垂直的晶體;氧化物半導體膜具有穩定導電性且相關於可見光、紫外線光、及之類的照射更電穩定。藉由使用這種氧化物半導體膜作為電晶體,可提供具有穩定電氣特性之高度可靠的半導體裝置。
简体摘要: 本文提出具有较稳定的导电性之氧化物半导体膜。此外,借由使用该氧化物半导体膜来提供具有稳定电气特性及高可靠性之半导体设备。氧化物半导体膜包括结晶区域,且结晶区域包括其中a-b面与膜之一表面实质上平行且c轴与膜的该表面实质上垂直的晶体;氧化物半导体膜具有稳定导电性且相关于可见光、紫外线光、及之类的照射更电稳定。借由使用这种氧化物半导体膜作为晶体管,可提供具有稳定电气特性之高度可靠的半导体设备。
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公开(公告)号:TWI633377B
公开(公告)日:2018-08-21
申请号:TW106114988
申请日:2010-10-05
发明人: 山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 荒澤亮 , ARASAWA, RYO , 小山潤 , KOYAMA, JUN , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI , 野田耕生 , NODA, KOSEI
IPC分类号: G02F1/1343 , G02F1/1368 , H01L29/786 , G09G3/36
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公开(公告)号:TW201813107A
公开(公告)日:2018-04-01
申请号:TW106146054
申请日:2009-11-03
发明人: 秋元健吾 , AKIMOTO, KENGO , 津吹將志 , TSUBUKU, MASASHI
IPC分类号: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L21/28
CPC分类号: H01L29/7869 , H01L27/1225 , H01L29/42384 , H01L29/66969
摘要: 本發明為包括設置在閘極絕緣層、源電極層及汲電極層上的氧化物半導體層的半導體裝置,其中,位於源電極層和汲電極層之間的區域的閘極絕緣層的厚度小於設置在閘電極層和源電極層及汲電極層的至少其中之一之間的閘極絕緣層厚度。
简体摘要: 本发明为包括设置在闸极绝缘层、源电极层及汲电极层上的氧化物半导体层的半导体设备,其中,位于源电极层和汲电极层之间的区域的闸极绝缘层的厚度小于设置在闸电极层和源电极层及汲电极层的至少其中之一之间的闸极绝缘层厚度。
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