公开(公告)号：TWI604082B

公开(公告)日：2017-11-01

申请号：TW103134765

申请日：2014-10-06

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 柿本明修 ,  KAKIMOTO, AKINOBU ,  長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE

IPC: C23C16/34 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C16/345 ,  C23C16/45534 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/46 ,  C23C16/505 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228

公开(公告)号：TWI547586B

公开(公告)日：2016-09-01

申请号：TW101108695

申请日：2012-03-14

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 柿本明修 ,  KAKIMOTO, AKINOBU ,  高木聰 ,  TAKAGI, SATOSHI ,  池內俊之 ,  IKEUCHI, TOSHIYUKI ,  小森克彥 ,  KOMORI, KATSUHIKO ,  長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/42 ,  C23C16/56 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/02164 ,  C23C16/045 ,  C23C16/45546 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32779 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67109

公开(公告)号：TWI517296B

公开(公告)日：2016-01-11

申请号：TW100126350

申请日：2011-07-26

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 渡邊將久 ,  WATANABE, MASAHISA ,  長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE

IPC: H01L21/76

CPC classification number: H01L21/67167 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02304 ,  H01L21/02323 ,  H01L21/32055 ,  H01L21/32105 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/76227

公开(公告)号：TW201539577A

公开(公告)日：2015-10-16

申请号：TW103143759

申请日：2014-12-16

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE ,  清水亮 ,  SHIMIZU, AKIRA

IPC: H01L21/318 ,  C23C16/34 ,  C23C16/50

CPC classification number: C23C16/511 ,  C23C16/308 ,  C23C16/345 ,  C23C16/452 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32348 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32816

Abstract: 本發明之處理裝置具備：第1活性物種產生單元，具有第1產生室，於該第1產生室利用無聲放電，從含活性物種源之第1氣體產生第1活性物種；第2活性物種產生單元，設於該第1活性物種產生單元之下游，並具有第2產生室，於該第2產生室中，從該第1產生室供給該第1活性物種，且利用電感耦合電漿、電容耦合電漿及微波電漿中之至少其一，從含活性物種源之第2氣體產生第2活性物種；及處理室，設於該第2活性物種產生單元之下游，使用從該第2產生室所供給之該第1、第2活性物種，對被處理體施加處理。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之处理设备具备：第1活性物种产生单元，具有第1产生室，于该第1产生室利用无声放电，从含活性物种源之第1气体产生第1活性物种；第2活性物种产生单元，设于该第1活性物种产生单元之下游，并具有第2产生室，于该第2产生室中，从该第1产生室供给该第1活性物种，且利用电感耦合等离子、电容耦合等离子及微波等离子中之至少其一，从含活性物种源之第2气体产生第2活性物种；及处理室，设于该第2活性物种产生单元之下游，使用从该第2产生室所供给之该第1、第2活性物种，对被处理体施加处理。

公开(公告)号：TWI500083B

公开(公告)日：2015-09-11

申请号：TW099139814

申请日：2010-11-18

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 松永正信 ,  MATSUNAGA, MASANOBU ,  鈴木啟介 ,  SUZUKI, KEISUKE ,  張宰赫 ,  JANG, JAEHYUK ,  周保華 ,  CHOU, PAO HWA ,  米澤雅人 ,  YONEZAWA, MASATO ,  長谷川雅之 ,  HASEGAWA, MASAYUKI ,  長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/205 ,  C23C16/34 ,  C23C16/52

CPC classification number: H01L21/3185 ,  C23C16/345 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/52 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/0228

公开(公告)号：TWI443714B

公开(公告)日：2014-07-01

申请号：TW096123315

申请日：2007-06-27

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 野寺伸武 ,  NODERA, NOBUTAKE ,  長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE ,  山本和彌 ,  YAMAMOTO, KAZUYA

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/67 ,  C23C16/30

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4405 ,  Y10S438/905

公开(公告)号：TWI436423B

公开(公告)日：2014-05-01

申请号：TW096139387

申请日：2007-10-19

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE ,  藤田武彥 ,  FUJITA, TAKEHIKO ,  中島滋 ,  NAKAJIMA, SHIGERU ,  小川淳 ,  OGAWA, JUN

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/02238 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/31662

公开(公告)号：TWI425577B

公开(公告)日：2014-02-01

申请号：TW097118863

申请日：2008-05-22

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 赤坂泰志 ,  AKASAKA, YASUSHI ,  吹上紀明 ,  FUKIAGE, NORIAKI ,  加藤良裕 ,  KATO, YOSHIHIRO ,  長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE ,  周保華 ,  CHOU, PAO HWA

IPC: H01L21/336 ,  H01L21/28 ,  H01L21/8234

CPC classification number: H01L21/823864 ,  H01L21/823814

公开(公告)号：TWI420597B

公开(公告)日：2013-12-21

申请号：TW098112224

申请日：2009-04-13

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 門永健太郎 ,  KADONAGA, KENTARO ,  戶根川大和 ,  TONEGAWA, YAMATO ,  周保華 ,  CHOU, PAO HWA ,  長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE ,  柴田哲弥 ,  SHIBATA, TETSUYA

IPC: H01L21/318 ,  H01L21/67 ,  C23C16/54

CPC classification number: H01L21/3185 ,  H01L21/02145 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/28282 ,  H01L21/31612 ,  H01L29/792

公开(公告)号：TWI420574B

公开(公告)日：2013-12-21

申请号：TW100114311

申请日：2011-04-25

Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

Inventor： 長谷部一秀 ,  HASEBE, KAZUHIDE ,  村上博紀 ,  MURAKAMI, HIROKI ,  柿本明修 ,  KAKIMOTO, AKINOBU

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/768

CPC classification number: H01L21/76843 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/24 ,  C23C16/52 ,  H01L21/76876