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    METHODS OF EVAPORATING METAL ONTO A SEMICONDUCTOR WAFER IN A TEST WAFER HOLDER
    1.
    发明申请
    METHODS OF EVAPORATING METAL ONTO A SEMICONDUCTOR WAFER IN A TEST WAFER HOLDER 有权
    将金属蒸发到测试保持架中的半导体波形的方法

    公开(公告)号：US20120083118A1

    公开(公告)日：2012-04-05

    申请号：US13179382

    申请日：2011-07-08

    申请人： Lam T. Luu ,  Shiban K. Tiku ,  Richard S. Bingle ,  Jens A. Riege ,  Heather L. Knoedler ,  Daniel C. Weaver

    发明人： Lam T. Luu ,  Shiban K. Tiku ,  Richard S. Bingle ,  Jens A. Riege ,  Heather L. Knoedler ,  Daniel C. Weaver

    IPC分类号： H01L21/28

    CPC分类号： C23C14/545 ,  C23C14/505 ,  C23C14/546 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68785

    摘要： Apparatus and methods for evaporating metal onto semiconductor wafers are disclosed. One such apparatus can include an evaporation chamber that includes a wafer holder, such as a dome, and a test wafer holder that is separate and spaced apart from the wafer holder. In certain implementations, the test wafer can be coupled to a cross beam supporting at least one shaper. A metal can be evaporated onto production wafers positioned in the wafer holder while metal is evaporated on a test wafer positioned in a test wafer holder. In some instances, the production wafers can be GaAs wafers. The test wafer can be used to make a quality assessment about the production wafers.

    摘要翻译： 公开了将金属蒸发到半导体晶片上的装置和方法。 一种这样的设备可以包括蒸发室，其包括晶片保持器，例如圆顶，以及与晶片保持器分离并间隔开的测试晶片保持器。 在某些实施方案中，测试晶片可以耦合到支撑至少一个整形器的横梁。 金属可以被蒸发到位于晶片保持器中的生产晶片上，同时金属在位于测试晶片保持器中的测试晶片上蒸发。 在某些情况下，生产晶片可以是GaAs晶片。 测试晶片可用于对生产晶圆进行质量评估。

    Apparatus and methods for evaporation including test wafer holder
    2.
    发明授权
    Apparatus and methods for evaporation including test wafer holder 有权
    用于蒸发的装置和方法包括测试晶片保持器

    公开(公告)号：US08022448B1

    公开(公告)日：2011-09-20

    申请号：US12898632

    申请日：2010-10-05

    申请人： Lam T. Luu ,  Shiban K. Tiku ,  Richard S. Bingle ,  Jens A. Riege ,  Heather L. Knoedler ,  Daniel C. Weaver

    发明人： Lam T. Luu ,  Shiban K. Tiku ,  Richard S. Bingle ,  Jens A. Riege ,  Heather L. Knoedler ,  Daniel C. Weaver

    IPC分类号： H01L29/76

    CPC分类号： C23C14/545 ,  C23C14/505 ,  C23C14/546 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68785

    摘要： Apparatus and methods for evaporating metal onto semiconductor wafers are disclosed. One such apparatus can include an evaporation chamber that includes a wafer holder, such as a dome, and a test wafer holder that is separate and spaced apart from the wafer holder. In certain implementations, the test wafer can be coupled to a cross beam supporting at least one shaper. A metal can be evaporated onto production wafers positioned in the wafer holder while metal is evaporated on a test wafer positioned in a test wafer holder. In some instances, the production wafers can be GaAs wafers. The test wafer can be used to make a quality assessment about the production wafers.

    摘要翻译： 公开了将金属蒸发到半导体晶片上的装置和方法。 一种这样的设备可以包括蒸发室，其包括晶片保持器，例如圆顶，以及与晶片保持器分离并间隔开的测试晶片保持器。 在某些实施方案中，测试晶片可以耦合到支撑至少一个整形器的横梁。 金属可以被蒸发到位于晶片保持器中的生产晶片上，同时金属在位于测试晶片保持器中的测试晶片上蒸发。 在某些情况下，生产晶片可以是GaAs晶片。 测试晶片可用于对生产晶圆进行质量评估。

    Apparatus and methods for detecting evaporation conditions
    4.
    发明授权
    Apparatus and methods for detecting evaporation conditions 有权
    用于检测蒸发条件的装置和方法

    公开(公告)号：US08030725B1

    公开(公告)日：2011-10-04

    申请号：US12898616

    申请日：2010-10-05

    申请人： Lam T. Luu ,  Heather L. Knoedler ,  Richard S. Bingle ,  Daniel C. Weaver

    发明人： Lam T. Luu ,  Heather L. Knoedler ,  Richard S. Bingle ,  Daniel C. Weaver

    IPC分类号： H01L27/146

    CPC分类号： H01L21/68764 ,  C23C14/044 ,  C23C14/24 ,  C23C14/546 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/28575 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68771

    摘要： Apparatus and methods for detecting evaporation conditions in an evaporator for evaporating metal onto semiconductor wafers, such as GaAs wafers, are disclosed. One such apparatus can include a crystal monitor sensor configured to detect metal vapor associated with a metal source prior to metal deposition onto a semiconductor wafer. This apparatus can also include a shutter configured to remain in a closed position when the crystal monitor sensor detects an undesired condition, so as to prevent metal deposition onto the semiconductor wafer. In some implementations, the undesired condition can be indicative of a composition of a metal source, a deposition rate of a metal source, impurities of a metal source, position of a metal source, position of an electron beam, and/or intensity of an electron beam.

    摘要翻译： 公开了一种用于检测用于将金属蒸发到诸如GaAs晶片的半导体晶片上的蒸发器中的蒸发条件的装置和方法。 一种这样的设备可以包括晶体监视器传感器，其被配置为在金属沉积到半导体晶片之前检测与金属源相关联的金属蒸气。 该装置还可以包括配置为当晶体监视器传感器检测到不期望的状况时保持在关闭位置的快门，以防止金属沉积到半导体晶片上。 在一些实施方案中，不期望的条件可以指示金属源的组成，金属源的沉积速率，金属源的杂质，金属源的位置，电子束的位置和/或 电子束。

    DETECTING A DEPOSITION CONDITION
    5.
    发明申请
    DETECTING A DEPOSITION CONDITION 有权
    检测沉积条件

    公开(公告)号：US20120083050A1

    公开(公告)日：2012-04-05

    申请号：US13186356

    申请日：2011-07-19

    申请人： Lam T. Luu ,  Heather L. Knoedler ,  Richard S. Bingle ,  Daniel C. Weaver

    发明人： Lam T. Luu ,  Heather L. Knoedler ,  Richard S. Bingle ,  Daniel C. Weaver

    IPC分类号： H01L21/66

    CPC分类号： H01L21/68764 ,  C23C14/044 ,  C23C14/24 ,  C23C14/546 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/28575 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68771

    摘要： Apparatus and methods for detecting evaporation conditions in an evaporator for evaporating metal onto semiconductor wafers, such as GaAs wafers, are disclosed. One such apparatus can include a crystal monitor sensor configured to detect metal vapor associated with a metal source prior to metal deposition onto a semiconductor wafer. This apparatus can also include a shutter configured to remain in a closed position when the crystal monitor sensor detects an undesired condition, so as to prevent metal deposition onto the semiconductor wafer. In some implementations, the undesired condition can be indicative of a composition of a metal source, a deposition rate of a metal source, impurities of a metal source, position of a metal source, position of an electron beam, and/or intensity of an electron beam.

    摘要翻译： 公开了一种用于检测用于将金属蒸发到诸如GaAs晶片的半导体晶片上的蒸发器中的蒸发条件的装置和方法。 一种这样的设备可以包括晶体监视器传感器，其被配置为在金属沉积到半导体晶片之前检测与金属源相关联的金属蒸气。 该装置还可以包括配置为当晶体监视器传感器检测到不期望的状况时保持在关闭位置的快门，以防止金属沉积到半导体晶片上。 在一些实施方案中，不期望的条件可以指示金属源的组成，金属源的沉积速率，金属源的杂质，金属源的位置，电子束的位置和/或 电子束。

    Detecting a deposition condition
    6.
    发明授权
    Detecting a deposition condition 有权
    检测沉积条件

    公开(公告)号：US08546205B2

    公开(公告)日：2013-10-01

    申请号：US13186356

    申请日：2011-07-19

    申请人： Lam T. Luu ,  Heather L. Knoedler ,  Richard S. Bingle ,  Daniel C. Weaver

    发明人： Lam T. Luu ,  Heather L. Knoedler ,  Richard S. Bingle ,  Daniel C. Weaver

    IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C8/00 ,  H05H1/24 ,  H01L21/84 ,  H01L21/8249

    CPC分类号： H01L21/68764 ,  C23C14/044 ,  C23C14/24 ,  C23C14/546 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/28575 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68771

    摘要： Apparatus and methods for detecting evaporation conditions in an evaporator for evaporating metal onto semiconductor wafers, such as GaAs wafers, are disclosed. One such apparatus can include a crystal monitor sensor configured to detect metal vapor associated with a metal source prior to metal deposition onto a semiconductor wafer. This apparatus can also include a shutter configured to remain in a closed position when the crystal monitor sensor detects an undesired condition, so as to prevent metal deposition onto the semiconductor wafer. In some implementations, the undesired condition can be indicative of a composition of a metal source, a deposition rate of a metal source, impurities of a metal source, position of a metal source, position of an electron beam, and/or intensity of an electron beam.

    摘要翻译： 公开了一种用于检测用于将金属蒸发到诸如GaAs晶片的半导体晶片上的蒸发器中的蒸发条件的装置和方法。 一种这样的设备可以包括晶体监视器传感器，其被配置为在金属沉积到半导体晶片之前检测与金属源相关联的金属蒸气。 该装置还可以包括配置为当晶体监视器传感器检测到不期望的状况时保持在关闭位置的快门，以防止金属沉积到半导体晶片上。 在一些实施方案中，不期望的条件可以指示金属源的组成，金属源的沉积速率，金属源的杂质，金属源的位置，电子束的位置和/或 电子束。

    CELLULOSIC BIOMASS PROCESSING FOR HYDROGEN EXTRACTION
    7.
    发明申请
    CELLULOSIC BIOMASS PROCESSING FOR HYDROGEN EXTRACTION 有权
    用于氢萃取的细胞生物量处理

    公开(公告)号：US20130011756A1

    公开(公告)日：2013-01-10

    申请号：US12758355

    申请日：2010-04-12

    申请人： Samuel C. Weaver ,  Samuel P. Weaver ,  Daniel C. Weaver

    发明人： Samuel C. Weaver ,  Samuel P. Weaver ,  Daniel C. Weaver

    IPC分类号： H01M8/06 ,  C01B3/02

    CPC分类号： H01M8/06 ,  C10J3/10 ,  C10J3/723 ,  C10J2300/0906 ,  C10J2300/092 ,  C10J2300/0973 ,  C10J2300/1646

    摘要： Methods are disclosed for extracting hydrogen from a biomass compound comprising carbon, oxygen, and hydrogen. The biomass may include cellulose, lignin, and/or hemicellulose. Water is combined with the compound to produce a wet form of the compound. The wet form of the compound is transferred into a reaction processing chamber. The wet form of the compound is heated within the reaction chamber such that elements of the compound dissociate and react, with one reaction product comprising hydrogen gas. The hydrogen gas is processed to generate electrical power.

    摘要翻译： 公开了从包括碳，氧和氢的生物质化合物中提取氢的方法。 生物质可包括纤维素，木质素和/或半纤维素。 水与化合物结合以产生湿形式的化合物。 化合物的湿形式转移到反应处理室中。 化合物的湿形式在反应室内加热，使得化合物的元素离解并反应，一个反应产物包含氢气。 处理氢气以产生电力。