公开(公告)号：US6015457A

公开(公告)日：2000-01-18

申请号：US39289

申请日：1998-03-12

申请人： Roger Y. Leung ,  Tadashi Nakano

发明人： Roger Y. Leung ,  Tadashi Nakano

IPC分类号： C08G77/12 ,  H01L21/312 ,  C08G77/04

CPC分类号： H01L21/312 ,  C08G77/12

摘要： Processes for producing poly (hydrido siloxane) copolymers and processes for producing solutions of such copolymers for coating semiconductor substrates are provided. The copolymers have the general formula: (HSiO.sub.1.5).sub.a (HSiO(OR)).sub.b (SiO.sub.2).sub.c, wherein R is a mixture of H and an alkyl group having between 1 and 4 carbon atoms; a+b+c=1; 0.5

摘要翻译： 制备聚（羟基硅氧烷）共聚物的方法和用于制备用于涂覆半导体衬底的这种共聚物的溶液的方法。 共聚物具有以下通式：（HSiO1.5）a（HSiO（OR））b（SiO 2）c，其中R是H和具有1至4个碳原子的烷基的混合物; a + b + c = 1; 0.5

公开(公告)号：US07381442B2

公开(公告)日：2008-06-03

申请号：US10507411

申请日：2002-04-10

申请人： Victor Y. Lu ,  Roger Y. Leung ,  Eric Deng ,  Songyuan Xie

发明人： Victor Y. Lu ,  Roger Y. Leung ,  Eric Deng ,  Songyuan Xie

IPC分类号： B05D3/02

CPC分类号： C08J9/26 ,  C08J2201/046 ,  C08J2383/04 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/31695 ,  Y10T428/249953

摘要： The invention relates to the production of nanoporous silica dielectric films and to semiconductor devices and integrated circuits comprising these improved films. The nanoporous films of the invention are prepared using silicon containing pre-polymers and are prepared by a process that allows crosslinking at lowered gel temperatures by means of a metal-ion-free onium or nucleophile catalyst.

摘要翻译： 本发明涉及纳米多孔二氧化硅介电膜的制造以及包括这些改进膜的半导体器件和集成电路。 使用含硅预聚物制备本发明的纳米多孔膜，并且通过允许通过无金属离子的鎓或亲核试剂催化剂在较低凝胶温度下进行交联的方法制备。

公开(公告)号：US5512359A

公开(公告)日：1996-04-30

申请号：US464470

申请日：1990-01-12

申请人： Roger Y. Leung ,  Gerald T. Stranford ,  Stephen T. Gonczy

发明人： Roger Y. Leung ,  Gerald T. Stranford ,  Stephen T. Gonczy

IPC分类号： A01K39/01 ,  C03C14/00 ,  C04B35/80 ,  D04H1/58 ,  B32B9/00

CPC分类号： C04B35/803 ,  A01K39/0113 ,  C03C14/002 ,  C03C2214/02 ,  C03C2214/03 ,  C03C2214/20 ,  Y10S428/902 ,  Y10T428/24993 ,  Y10T428/2918 ,  Y10T428/30

摘要： An improved fiber reinforced glass composite includes a carbon-coated refractory fiber in a matrix of a black glass ceramic having the empirical formula SiCxOy where x ranges from about 0.5 to about 2.0, preferably 0.9 to 1.6 and y ranges from about 0.5 to 3.0, preferably 0.7 to 1.8. Preferably the black glass ceramic is derived from cyclosiloxane monomers containing a vinyl group attached to silicon and/or a hydride-silicon group.

摘要翻译： 改进的纤维增强玻璃复合材料包括具有经验式SiC x O y的黑色玻璃陶瓷基质中的碳涂层耐火纤维，其中x为约0.5至约2.0，优选0.9至1.6，y为约0.5至3.0，优选为 0.7至1.8。 优选地，黑色玻璃陶瓷衍生自含有连接到硅和/或氢化物 - 硅基团的乙烯基的环硅氧烷单体。

公开(公告)号：US5340777A

公开(公告)日：1994-08-23

申请号：US96494

申请日：1993-07-23

申请人： Roger Y. Leung ,  John G. Sikonia

发明人： Roger Y. Leung ,  John G. Sikonia

IPC分类号： C03C3/04 ,  C03C3/076 ,  C03C10/00 ,  C08G77/50 ,  C08L83/14 ,  C03C3/00

CPC分类号： C03C3/076 ,  C03C10/0009 ,  C03C3/045 ,  C08G77/50 ,  C08L83/14 ,  Y10T428/31612

摘要： Carbon-containing black glass compositions of matter having the empirical formula SiC.sub.x O.sub.y and derived from the precursor polymers obtained by reacting (a) cyclo siloxanes and (b) non-cyclic siloxanes, each of the reactants having either or both of hydrogen and an unsubstituted vinyl group whereby a polymer is formed by a hydrosilylation reaction.

摘要翻译： 具有经验式为SiC x O y并且由（a）环硅氧烷和（b）非环状硅氧烷反应获得的前体聚合物的含碳黑色玻璃组合物，每种反应物都具有氢和未取代的乙烯基 由此通过氢化硅烷化反应形成聚合物。

公开(公告)号：US07915159B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11203558

申请日：2005-08-12

申请人： Anil S. Bhanap ,  Boris A. Korolev ,  Roger Y. Leung ,  Beth C. Munoz

发明人： Anil S. Bhanap ,  Boris A. Korolev ,  Roger Y. Leung ,  Beth C. Munoz

IPC分类号： H01L21/4763 ,  C08J5/12 ,  C04B28/36 ,  C04B28/26 ,  C09D7/00

CPC分类号： H01L21/02216 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/316 ,  H01L21/31695 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76826

摘要： A treating agent composition for increasing the hydrophobicity of an organosilicate glass dielectric film when applied to said film. It includes a component capable of alkylating or arylating silanol moieties of the organosilicate glass dielectric film via silylation, and an activating agent which may be an acid, a base, an onium compound, a dehydrating agent, and combinations thereof, and a solvent or mixture of a main solvent and a co-solvent.

摘要翻译： 一种用于在施加到所述膜上时增加有机硅酸盐玻璃介电膜的疏水性的处理剂组合物。 它包括能够通过甲硅烷基化将有机硅酸盐玻璃介电膜的硅烷醇部分烷基化或芳基化的组分，以及可以是酸，碱，鎓化合物，脱水剂及其组合的活化剂和溶剂或混合物 的主要溶剂和共溶剂。

公开(公告)号：US07011889B2

公开(公告)日：2006-03-14

申请号：US10078919

申请日：2002-02-19

申请人： William B. Bedwell ,  Nigel P. Hacker ,  Roger Y. Leung ,  Nancy Iwamoto ,  Jan Nedbal ,  Songyuan Xie ,  Lorenza Moro ,  Shyama P. Mukherjee

发明人： William B. Bedwell ,  Nigel P. Hacker ,  Roger Y. Leung ,  Nancy Iwamoto ,  Jan Nedbal ,  Songyuan Xie ,  Lorenza Moro ,  Shyama P. Mukherjee

IPC分类号： B32B9/04

CPC分类号： C08G77/04 ,  C08G77/12 ,  G03F7/0751 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/76807 ,  H01L21/76829 ,  H01L21/76835 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663

摘要： The present invention provides an organosiloxane comprising at least 80 weight percent of Formula I: [Y0.01-1.0SiO1.5-2]a[Z0.01-1.0SiO1.5-2]b[H0.01-1.0SiO1.5-2]c where Y is aryl; Z is alkenyl; a is from 15 percent to 70 percent of Formula I; b is from 2 percent to 50 percent of Formula I; and c is from 20 percent to 80 percent of Formula I. The present composition is useful in semiconductor devices and may be advantageously used as an etch stop.

摘要翻译： 本发明提供了包含至少80重量％的式I的有机硅氧烷：[Y 0.01-1.0 SiO 2 1.5-2] 0.01-1.0 SiO <1.5-2 其中Y是芳基; Z是烯基; a是一级方程式的15％至70％; b是式I的2％至50％; 并且c为式I的20％至80％。本发明的组合物可用于半导体器件，并且可有利地用作蚀刻停止层。