公开(公告)号：US07248354B2

公开(公告)日：2007-07-24

申请号：US10854275

申请日：2004-05-27

申请人： Albert Kreh ,  Henning Backhauss

发明人： Albert Kreh ,  Henning Backhauss

IPC分类号： G01N21/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G01N21/9501

摘要： The invention concerns an apparatus for inspection of a wafer, encompassing at least one incident-light illumination device that radiates an illuminating light beam which is incident obliquely onto a surface of a wafer to be inspected, and an image capture device for capturing an image of the surface in a dark-field arrangement. The wafer inspection apparatus is characterized in that at least one deflection device is provided in order to deflect an associated illuminating light beam onto the surface of the wafer.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于检查晶片的装置，包括至少一个入射光照明装置，其将倾斜入射待检查的晶片的表面的照明光束照射，以及用于捕获图像的图像的图像捕获装置 表面在暗场排列。 晶片检查装置的特征在于，至少提供一个偏转装置以便将相关的照明光束偏转到晶片的表面上。

公开(公告)号：US20070103696A1

公开(公告)日：2007-05-10

申请号：US11554369

申请日：2006-10-30

申请人： Harald Pohlmann

发明人： Harald Pohlmann

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B9/02052 ,  G01B9/02027 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70858

摘要： The present invention relates to an apparatus for measuring the position of an object (30), comprising at least one laser interferometer system (29) for determining a position displacement of the object (30) in at least one spatial direction, wherein the at least one laser interferometer system (29), together with the object (30), are accommodated in a climate chamber (40) comprising an area (42) with air intake apertures and an area (44) with air exhaust apertures, wherein it is suggested to provide means for directing in operation at least part of the airflow (46) through the climate chamber (40) into the area of the laser axes (52, 54) of the at least one laser interferometer system (29).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于测量物体（30）的位置的装置，包括至少一个用于确定物体（30）在至少一个空间方向上的位置位移的激光干涉仪系统（29），其中至少 一个激光干涉仪系统（29）与物体（30）一起容纳在气候室（40）中，气候室（40）包括具有进气孔的区域（42）和具有排气孔的区域（44），其中建议 以提供用于将至少一部分气流（46）经由气候室（40）引导到至少一个激光干涉仪系统（29）的激光轴（52,54）的区域中的装置。

公开(公告)号：US20070046949A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11467410

申请日：2006-08-25

申请人： Michael Heiden ,  Hans-Arthur Boesser

发明人： Michael Heiden ,  Hans-Arthur Boesser

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G01B9/02058 ,  G01B11/026 ,  G03F7/70883

摘要： The present invention relates to a reference-beam interferometer for determining the position of a traversable stage, wherein an evacuated tube is inserted into the longer of the two interferometer legs. The tube is closed off by windows, which have a negative coefficient of thermal expansion and which can have a coating for reflecting heat radiation. Moreover, thermal compensation plates are inserted into the shorter of the two beam paths.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于确定可移动台的位置的参考光束干涉仪，其中抽真空管插入到两个干涉仪腿的较长的一侧。 管子由窗户封闭，这些窗户具有负的热膨胀系数，并且可以具有用于反射热辐射的涂层。 此外，热补偿板插入两个光束路径中较短的一个。

公开(公告)号：US20070013902A1

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：US11422182

申请日：2006-06-05

申请人： Henning Backhauss ,  Albert Kreh ,  Christof Krampe-Zadler

发明人： Henning Backhauss ,  Albert Kreh ,  Christof Krampe-Zadler

IPC分类号： G01N21/88

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G01N21/9501

摘要： The present invention relates to an apparatus and method for automatically inspecting a wafer, having a light source and an illumination optics for illuminating the wafer for inspection, wherein the illumination optics comprises a variable gray filter for adjusting the illumination power.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于自动检查晶片的装置和方法，该晶片具有光源和用于照射晶片以进行检查的照明光学元件，其中该照明光学器件包括用于调节照明功率的可变灰度滤光片。

公开(公告)号：US08248618B2

公开(公告)日：2012-08-21

申请号：US12689358

申请日：2010-01-19

申请人： Klaus Rinn ,  Andreas Schaaf ,  Andre Schepp

发明人： Klaus Rinn ,  Andreas Schaaf ,  Andre Schepp

IPC分类号： G01B11/24 ,  G06F17/18

CPC分类号： G01B11/03

摘要： A method for determining the positions of structures (3) on a mask (2) is disclosed. The method is implemented in a metrology tool (1) comprising a measurement table (20) which is movable in X-coordinate direction and Y-coordinate direction. A first intensity profile (IX) is recorded along a first measurement direction (MRX), which is parallel to the X-coordinate direction. A second intensity profile (IY) is recorded along a second measurement direction (MRY), which is parallel to the Y-coordinate direction. A two-dimensional position of a centre of gravity (S) with respect to the coordinate system of the metrology tool (1) is determined from the first intensity profile (IX) and the second intensity profile (IY).

摘要翻译： 公开了一种用于确定掩模（2）上的结构（3）的位置的方法。 该方法在包括可在X坐标方向和Y坐标方向上移动的测量台（20）的计量工具（1）中实现。 沿着与X坐标方向平行的第一测量方向（MRX）记录第一强度分布（IX）。 沿着与Y坐标方向平行的第二测量方向（MRY）记录第二强度分布（IY）。 根据第一强度分布（IX）和第二强度分布（IY）确定相对于计量工具（1）的坐标系的重心（S）的二维位置。

公开(公告)号：US08115808B2

公开(公告)日：2012-02-14

申请号：US12215115

申请日：2008-06-25

申请人： Wolfgang Fricke ,  Klaus Rinn ,  Slawomir Czerkas

发明人： Wolfgang Fricke ,  Klaus Rinn ,  Slawomir Czerkas

IPC分类号： H04N7/18

CPC分类号： G01B11/03 ,  G01B21/042

摘要： A coordinate measuring machine is disclosed having an orientor automatically orienting a substrate associated therewith. A control and computing unit is further associated with the coordinate measuring machine, so that self-calibration may be performed on the basis of at least two different and automatically set orientations of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种坐标测量机，其具有自动定向与其相关联的衬底的定向器。 控制和计算单元进一步与坐标测量机相关联，使得可以基于至少两个不同且自动设置的基板取向进行自校准。

公开(公告)号：US20120033691A1

公开(公告)日：2012-02-09

申请号：US13024195

申请日：2011-02-09

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： H01S3/13 ,  F21V1/00

CPC分类号： G01B9/02027 ,  G01B9/02012 ,  G01B9/02082 ,  G01B11/002 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70625

摘要： A device for determining the position of a structure (3) on an object (2) in relation to a coordinate system is disclosed. The object (2) is placed on a measuring table (20) which is movable in one plane (25a), wherein a block (25) defines the plane (25a). At least one optical arrangement (40, 50) is provided for transmitted light illumination and/or reflected light illumination. The optical arrangement (40, 50) comprises an illumination apparatus (41, 51) for reflected light illumination and/or transmitted light illumination and at least one first or second optical element (9a, 9b), wherein at least part of the at least one optical element (9a, 9b) extends into the space (110) between the block (25) and an optical system support (100). The block (25) and/or the optical system support (100) separates the illumination apparatus (41, 51) spatially from the plane (25a) in which the measuring table (20) is movable.

摘要翻译： 公开了一种用于相对于坐标系确定物体（2）上的结构（3）的位置的装置。 物体（2）被放置在可在一个平面（25a）中移动的测量台（20）上，其中块（25）限定平面（25a）。 为透射光照射和/或反射光照明提供至少一个光学装置（40,50）。 光学装置（40,50）包括用于反射光照射和/或透射光照明的照明装置（41,41）和至少一个第一或第二光学元件（9a，9b），其中至少部分至少 一个光学元件（9a，9b）延伸到块（25）和光学系统支撑件（100）之间的空间（110）中。 块体（25）和/或光学系统支撑体（100）将空间上的照明装置（41,51）从测量台（20）可移动的平面（25a）分离。

公开(公告)号：US07973931B2

公开(公告)日：2011-07-05

申请号：US12231465

申请日：2008-09-03

申请人： Detlef Michelsson ,  Guido Dietzler

发明人： Detlef Michelsson ,  Guido Dietzler

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01B11/14 ,  G06K9/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G01N21/9503 ,  G06K9/3216 ,  G06K2009/3225 ,  G06T7/0004 ,  G06T7/12 ,  G06T2207/30148 ,  G06T2207/30204

摘要： A method for determining the position of an edge bead removal line of a disk-like object having an edge area and an alignment mark on the edge area is disclosed, wherein the edge area including the edge bead removal line is imaged on a line-by-line basis, an intensity profile I of the imaged edge area including the edge bead removal line is obtained with a camera on a line-by-line basis, and the edge area and the alignment mark are detected, wherein the local intensity maxima I′max of the intensity profile I are plotted as points in a diagram, segment sets are formed in the diagram, the segment sets are fitted in ellipses, and a quality criterion qges is determined for each ellipse.

摘要翻译： 公开了一种用于确定在边缘区域上具有边缘区域和对准标记的圆盘状物体的边缘珠粒移除线的位置的方法，其中包括边缘珠粒移除线的边缘区域被逐行成像 利用相机逐行地获得包括边缘珠去除线的成像边缘区域的强度分布I，并且检测边缘区域和对准标记，其中局部强度最大值I 强度分布I的最大值被绘制为图中的点，在图中形成段集合，将段集合以椭圆拟合，并且为每个椭圆确定质量标准qges。

公开(公告)号：US07872763B2

公开(公告)日：2011-01-18

申请号：US12286466

申请日：2008-09-30

申请人： Katrin Pietsch ,  Klaus-Dieter Adam ,  Tillmann Ehrenberg

发明人： Katrin Pietsch ,  Klaus-Dieter Adam ,  Tillmann Ehrenberg

IPC分类号： G01B11/02 ,  G01N21/01

CPC分类号： G01B11/03 ,  G03F1/84

摘要： A device for measuring the position of at least one structure on a substrate is disclosed. The substrate to be measured is positioned in a mirror body. A flat insert is provided in the mirror body and is formed such that the substrate and the insert together always have the same optical thickness, irrespective of the mechanical thickness of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种用于测量衬底上至少一个结构的位置的装置。 待测量的基板位于镜体中。 平面插入件设置在镜体中，并且形成为使得基底和插入物总是具有相同的光学厚度，而与基底的机械厚度无关。

公开(公告)号：US20100205815A1

公开(公告)日：2010-08-19

申请号：US12690489

申请日：2010-01-20

申请人： Klaus Rinn

发明人： Klaus Rinn

IPC分类号： G01B5/008 ,  G01B1/00

CPC分类号： G01B21/042 ,  G01B5/008 ,  G01B11/03 ,  G03F1/84

摘要： A method is disclosed which is suitable for the calibration of a measuring table (20) of a coordinate measuring machine (1). For this purpose, a mask (2) is deposited in a three-point support of the measuring table (20), wherein the mask (2) used for the calibration of the measuring table (20) is a mask (2), which is used for the semiconductor production. The measurement of positions of a plurality of different structures (3) which are arranged in a distributed manner on the mask (2) is carried out. The structures (3) are available in an initial orientation on the mask (2). The mask (2) is rotated and the position of the structures (3) is determined in the rotated orientation. Afterwards, the mask (2) is shifted and the position of the structures (3) is also determined. A total correction function for eliminating coordinate-dependant measuring errors is determined, wherein the total correction function has a first correction function and a second correction function.

摘要翻译： 公开了一种适于校准坐标测量机（1）的测量台（20）的方法。 为此，将掩模（2）沉积在测量台（20）的三点支撑件中，其中用于校准测量台（20）的掩模（2）是掩模（2），其中 用于半导体生产。 执行以分布式布置在掩模（2）上的多个不同结构（3）的位置的测量。 结构（3）可以在掩模（2）上以初始取向获得。 旋转掩模（2）并且以旋转方向确定结构（3）的位置。 之后，掩模（2）移动，结构（3）的位置也被确定。 确定用于消除坐标相关测量误差的总校正功能，其中总校正功能具有第一校正功能和第二校正功能。