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    Modified high-cis isoprene polymer, method for producing the same, and tire containing aforementioned polymer
    11.
    发明授权
    Modified high-cis isoprene polymer, method for producing the same, and tire containing aforementioned polymer 有权
    改性高顺式异戊二烯聚合物，其制备方法和含有上述聚合物的轮胎

    公开(公告)号：US09481746B2

    公开(公告)日：2016-11-01

    申请号：US14572787

    申请日：2014-12-17

    申请人： Chi Mei Corporation

    发明人： Chih-Cheng Lee ,  Hung-Jui Kuo

    IPC分类号： C08F136/08 ,  B60C1/00 ,  C08C19/25 ,  C08C19/44

    CPC分类号： C08F136/08 ,  B60C1/00 ,  C08C19/25 ,  C08C19/44 ,  C08F2410/01 ,  C08F4/545

    摘要： A modified high-cis isoprene polymer, a method for producing the same, and a tire containing the aforementioned polymer are provided. A polymerization reaction is performed on isoprene monomers in an organometallic catalyst system to form a high-cis isoprene polymer having an organometallic active site, wherein the organometallic active site is formed by an organometallic catalyst system. The high-cis isoprene polymer having the organometallic active site is reacted with a modifier mixture including a first modifier and a second modifier via the organometallic active site. The first modifier and the second modifier are compounds represented by formula 1 and formula 2, respectively: X—R1-Si(R2)3  formula 1, and R3-Si(R4)3  formula 2, wherein X, R1, R2, R3, and R4 are defined in the specification.

    Photosensitive resin composition, protective film and element having the same
    14.
    发明授权
    Photosensitive resin composition, protective film and element having the same 有权
    感光树脂组合物，保护膜和具有该感光性树脂组合物的元件

    公开(公告)号：US09422446B2

    公开(公告)日：2016-08-23

    申请号：US14733971

    申请日：2015-06-09

    申请人： CHI MEI CORPORATION

    发明人： Ming-Ju Wu ,  Chun-An Shih

    IPC分类号： C08F2/50 ,  C08F2/46 ,  C08G61/04 ,  C09D135/06 ,  C09D4/06 ,  C08F220/18

    CPC分类号： C09D135/06 ,  C08F220/18 ,  C09D4/06

    摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition, a protective film and an element having the same. The aforementioned photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (B) and a solvent (C). The alkali-soluble resin (A) is copolymerized by an unsaturated carboxylic acid or unsaturated carboxylic anhydride compound (a1), a fluorene derivative having a double-bond group (a2) and an unsaturated compound having an acid-decomposable group (a3).

    摘要翻译： 本发明涉及感光性树脂组合物，保护膜及具有该感光性树脂组合物的元件。 上述感光性树脂组合物包含碱溶性树脂（A），邻萘醌二叠氮基磺酸酯（B）和溶剂（C）。 碱可溶性树脂（A）通过不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物（a1），具有双键基团（a2）的芴衍生物和具有酸可分解基团（a3）的不饱和化合物共聚。

    Positive photosensitive resin composition and method for forming pattern by using the same
    16.
    发明授权
    Positive photosensitive resin composition and method for forming pattern by using the same 有权
    正型感光性树脂组合物及其制造方法

    公开(公告)号：US09395627B2

    公开(公告)日：2016-07-19

    申请号：US14475589

    申请日：2014-09-03

    申请人： CHI MEI CORPORATION

    发明人： Chi-Ming Liu ,  Chun-An Shih

    IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/023

    CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236

    摘要： The present invention relates to a positive photosensitive resin composition and a method for forming a pattern by using the same. The positive photosensitive resin composition includes a novolac resin (A), a polysiloxane (B), an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (C) and a solvent (D). The novolac resin (A) includes a xylenol-type novolac resin (A-1). The xylenol-type novolac resin (A-1) is synthesized by polycondensing an aldehyde compound with a xylenol compound.

    摘要翻译： 本发明涉及一种正型感光性树脂组合物及其制造方法。 正型感光性树脂组合物包括酚醛清漆树脂（A），聚硅氧烷（B），邻萘醌二叠氮磺酸酯（C）和溶剂（D）。 酚醛清漆树脂（A）包括二甲苯酚型酚醛清漆树脂（A-1）。 通过使醛化合物与二甲苯酚化合物缩聚来合成二甲苯酚型酚醛清漆树脂（A-1）。

    Photosensitive resin composition and uses thereof
    18.
    发明授权
    Photosensitive resin composition and uses thereof 有权
    感光树脂组合物及其用途

    公开(公告)号：US09285681B2

    公开(公告)日：2016-03-15

    申请号：US14281715

    申请日：2014-05-19

    申请人： CHI MEI CORPORATION

    发明人： Li-Ting Hsieh

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G02F1/1335

    CPC分类号： G03F7/0388 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0385

    摘要： The invention relates to a photosensitive resin composition, and an overcoat and/or spacer for a liquid crystal display component. The photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A), a compound having an ethylenically unsaturated group (B); a photoinitiator (C); a solvent (D); and an organic acid (E). The alkali-soluble resin (A) comprises a resin having an unsaturated group (A-1) synthesized by polymerizing a mixture, and the mixture comprises an epoxy compound having at least two epoxy groups (i) and a compound having at least one carboxyl group and at least one vinyl unsaturated group (ii). A molecular weight of said organic acid (E) is below 1000.

    摘要翻译： 本发明涉及一种感光性树脂组合物，以及液晶显示元件的外涂层和/或间隔物。 感光性树脂组合物包含碱溶性树脂（A），具有烯属不饱和基团（B）的化合物; 光引发剂（C）; 溶剂（D）; 和有机酸（E）。 碱溶性树脂（A）包含具有通过使混合物聚合而合成的不饱和基团（A-1）的树脂，并且该混合物包含具有至少两个环氧基的环氧化合物（i）和具有至少一个羧基的化合物 基团和至少一个乙烯基不饱和基团（ii）。 所述有机酸（E）的分子量低于1000。

    Photosensitive resin composition for color filter and application thereof
    19.
    发明授权
    Photosensitive resin composition for color filter and application thereof 有权
    用于滤色器的光敏树脂组合物及其应用

    公开(公告)号：US09268218B2

    公开(公告)日：2016-02-23

    申请号：US14801818

    申请日：2015-07-16

    申请人： CHI MEI CORPORATION

    发明人： Jung-Pin Hsu

    IPC分类号： G02B5/20 ,  G03F7/033 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/00 ,  G02B5/22 ,  G02B1/04 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/0007 ,  G02B1/04 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223 ,  G02F1/133516 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/30 ,  C08L2666/70 ,  C08L33/08 ,  C08L63/00 ,  C08L45/00

    摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter and an application thereof. The photosensitive resin composition includes a pigment (A), an alkali-soluble resin (B), a compound having an ethylenically unsaturated group (C), a photo initiator (D) and an organic solvent (E). The alkali-soluble resin (B) includes a first alkali-soluble resin (B-1), and the first alkali-soluble resin (B-1) is copolymerized by a first mixture. The first mixture at least includes an ethylenically unsaturated monomer having a structure of hindered amine (b1-1), an ethylenically unsaturated monomer having an oxetanyl (b1-2) and an ethylenically unsaturated monomer having a carboxylic acid group (b1-3).

    摘要翻译： 本发明涉及一种滤色器用感光性树脂组合物及其应用。 感光性树脂组合物包含颜料（A），碱溶性树脂（B），具有烯键式不饱和基团（C）的化合物，光引发剂（D）和有机溶剂（E）。 碱溶性树脂（B）包括第一碱溶性树脂（B-1），第一碱溶性树脂（B-1）通过第一混合物共聚。 第一混合物至少包括具有受阻胺（b1-1）结构的烯键式不饱和单体，具有氧杂环丁烷基（b1-2）的烯属不饱和单体和具有羧酸基团的烯属不饱和单体（b1-3）。