公开(公告)号：US20120050710A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13210003

申请日：2011-08-15

申请人： Satoru Oishi

发明人： Satoru Oishi

IPC分类号： G01B11/14 ,  G03B27/58 ,  G06F19/00

CPC分类号： G03F9/7092 ,  G03B27/521 ,  G03B27/53

摘要： A method and an apparatus are provided to measure a position of a mark with a less measurement error caused by a variation in a wafer process condition. The mark is illuminated with light and an image of the mark is formed, via an optical system, in a light receiving surface of a sensor. The image of the mark is sensed and image data thereof is acquired by the sensor. Correction data of a fundamental harmonic and a high harmonic of the image data is set based on information associated with a shape of the mark, an imaging magnification of the optical system, and an area of the sensor. The image data is corrected using the correction data, and the position of the mark is calculated using the corrected image data.

摘要翻译： 提供了一种方法和装置，用于测量由晶片工艺条件变化引起的较小测量误差的标记位置。 标记用光照亮，并且通过光学系统在传感器的光接收表面中形成标记的图像。 检测标记的图像，并且通过传感器获取其图像数据。 基于与标记的形状，光学系统的成像倍率和传感器的面积相关联的信息来设置图像数据的基本谐波和高次谐波的校正数据。 使用校正数据校正图像数据，并且使用校正图像数据来计算标记的位置。

公开(公告)号：US07983472B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11244558

申请日：2005-10-05

申请人： Satoru Oishi

发明人： Satoru Oishi

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F9/7046 ,  G03F9/7092 ,  H01L21/681 ,  H01L21/682

摘要： A method detects a position of a mark based on an image signal of the mark. The method includes steps of obtaining a first position of the mark by performing a first process for the image signal, extracting plural feature values from the image signal based on the first position, and detecting the position of the mark by obtaining an offset value for the first position based on the plural feature values.

摘要翻译： 方法基于标记的图像信号来检测标记的位置。 该方法包括以下步骤：通过对图像信号执行第一处理来获得标记的第一位置，基于第一位置从图像信号中提取多个特征值，以及通过获得标记的偏移值来检测标记的位置 基于多个特征值的第一位置。

公开(公告)号：US07952725B2

公开(公告)日：2011-05-31

申请号：US12465567

申请日：2009-05-13

申请人： Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi ,  Hideki Ina

发明人： Koichi Sentoku ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi ,  Hideki Ina

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G03B27/54 ,  G01B11/24 ,  G01J3/45 ,  G01J2003/1213 ,  G01J2003/1226 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7088

摘要： A surface shape measurement apparatus is configured to measure a surface shape of an object to be measured, and includes a beam splitter configured to split white light from a light source into two light beams, a pair of prisms each configured to increase an incident angle of each light beam that has been split by the beam splitter and directed to the object or a reference surface, each prism having an antireflection part that is formed at a period of a wavelength of the white light or smaller and has a moth-eye shape, a superimposition unit configured to superimpose object light from the object with reference light from the reference surface and has passed the second prism, and to generate white interference light, and a Lyot filter configured to discretely separate the white interference light for each of a plurality of wavelengths.

摘要翻译： 表面形状测量装置被配置为测量待测物体的表面形状，并且包括：分束器，被配置为将来自光源的白光分成两束光束;一对棱镜，每个棱镜被配置为增加入射角 已经被分束器分离并被引导到物体或参考表面的每个光束，每个棱镜具有在白色光的波长或更小的周期形成并具有蛾眼形状的抗反射部分， 叠加单元，被配置为用来自所述参考表面的参考光叠加来自所述物体的物体光并且已经通过所述第二棱镜并产生白色干涉光;以及Lyot滤光器，其被配置为离散地分离所述白色干涉光， 波长。

公开(公告)号：US07916271B2

公开(公告)日：2011-03-29

申请号：US11489360

申请日：2006-07-19

申请人： Hideki Ina ,  Satoru Oishi

发明人： Hideki Ina ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G06T7/0004 ,  G01N21/956 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G06T2207/30148

摘要： Disclosed is a method and apparatus which are arranged to detect magnitude of correlation between (i) an explanatory variable corresponding to operation data related to an operation made by an exposure apparatus for exposing a substrate, and (ii) a response variable corresponding to inspection data related to a result of inspection made to the substrate after the same is exposed, the magnitude of correlation between the explanatory variable and the response variable being detected with respect to each of different combinations of operation data pieces, and also arranged to specify, on the basis of detected correlation magnitudes and with respect to one of the different combinations of operation data pieces, a category of the operation data and the correlation between the explanatory variable and the response variable.

摘要翻译： 公开了一种方法和装置，其被设置为检测（i）对应于与由曝光装置曝光基板的曝光装置进行的操作有关的操作数据的解释变量的相关性，以及（ii）与检查数据相对应的响应变量 与在曝光之后对基板进行检查的结果相关，解释变量与响应变量之间的相关性的大小相对于操作数据的不同组合检测到，并且还被布置为在 检测到的相关幅度的基础，以及操作数据的不同组合之一，操作数据的类别以及解释变量与响应变量之间的相关性。

公开(公告)号：US07865328B2

公开(公告)日：2011-01-04

申请号：US11851047

申请日：2007-09-06

申请人： Satoru Oishi ,  Takehiko Suzuki

发明人： Satoru Oishi ,  Takehiko Suzuki

IPC分类号： G01C9/00 ,  G06F19/00

CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7092

摘要： A position detecting method includes the steps of forming an image of a mark on a sensor, performing a first process that processes a raw signal obtained from the sensor with plural parameters, performing a second process that determines an edge of a signal processed by the first process for each parameter, determining a parameter from a result of the second process obtained for each parameter, and calculating a position of the mark based on a determined parameter.

摘要翻译： 位置检测方法包括以下步骤：在传感器上形成标记的图像，执行处理由多个参数从传感器获得的原始信号的第一处理，执行第二处理，第二处理确定由第一处理的信号的边缘 对每个参数进行处理，根据针对每个参数获得的第二处理结果确定参数，以及基于所确定的参数来计算标记的位置。

公开(公告)号：US20100192091A1

公开(公告)日：2010-07-29

申请号：US12695032

申请日：2010-01-27

申请人： Satoru Oishi ,  Yasuhide Kumagai

发明人： Satoru Oishi ,  Yasuhide Kumagai

IPC分类号： G06F3/048

CPC分类号： G06F3/1423 ,  G09G5/14 ,  G09G2340/0414 ,  G09G2340/0421 ,  G09G2340/0471 ,  G09G2340/0478 ,  G09G2360/02 ,  G09G2370/04 ,  G09G2370/042

摘要： Provided is an image processing method in a program that is linked with a separate program and displays a window by being activated on the basis of the separate program, the separate program being executed in an image processing apparatus having a plurality of display sections and displaying a window on any of the plurality of display sections. The image processing method includes: acquiring display information including information as to which of the plurality of display sections the window of the linked separate program is displayed on; determining whether or not a display section.

摘要翻译： 提供了一种程序中的图像处理方法，其与单独的程序相链接，并且通过基于单独的程序被激活来显示窗口，所述单独的程序在具有多个显示部分的图像处理装置中执行，并且显示 窗口在多个显示部分中的任一个上。 所述图像处理方法包括：获取显示信息，所述显示信息包括关于所述多个显示部分中的哪一个显示所链接的分离节目的窗口的信息; 确定是否显示部分。

公开(公告)号：US20090138135A1

公开(公告)日：2009-05-28

申请号：US12323312

申请日：2008-11-25

申请人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina

发明人： Satoru Oishi ,  Hideki Ina

IPC分类号： G05D1/02 ,  G01N21/86 ,  G01B11/00 ,  G01C9/00

CPC分类号： G03F9/7076 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7084

摘要： An alignment method is provided in which a substrate including first and second layers is aligned in forming a second pattern in the second layer. The method includes storing first alignment measurement data to be used in alignment performed in forming a first pattern and a second alignment mark in the second layer, the first alignment measurement data obtained by measuring a first alignment mark provided in the first layer; obtaining second alignment measurement data by measuring the second alignment mark through a resist applied over the second layer; obtaining third alignment measurement data by measuring the first alignment mark through the resist; and performing alignment of the substrate in accordance with a first difference between the first and second alignment measurement data, or in accordance with the first difference and a second difference between the first and third alignment measurement data.

摘要翻译： 提供了一种对准方法，其中包括第一和第二层的基板在第二层中形成第二图案。 该方法包括存储在第二层中形成第一图案和第二对准标记时所进行对准中使用的第一对准测量数据，通过测量设置在第一层中的第一对准标记获得的第一对准测量数据; 通过在第二层上施加的抗蚀剂测量第二对准标记来获得第二对准测量数据; 通过测量通过抗蚀剂的第一对准标记获得第三对准测量数据; 以及根据第一和第二对准测量数据之间的第一差异，或者根据第一差异和第一和第三对准测量数据之间的第二差异来执行衬底的对准。

公开(公告)号：US07385700B2

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：US11218538

申请日：2005-09-06

申请人： Takahiro Matsumoto ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

发明人： Takahiro Matsumoto ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G01B11/00 ,  G06F19/00

CPC分类号： G03F9/7092 ,  G03F7/70633

摘要： An exposure apparatus performs AGA measurement by using a predetermined sample shot group formed on a wafer, and decides an alignment parameter. The exposure apparatus executes wafer alignment processing and exposure processing by using the alignment parameter. The exposure apparatus notifies a central processing unit of AGA measurement results and the alignment parameter. An overlay inspection apparatus measures an actual exposure position on the exposed wafer, and notifies the central processing unit of the measurement result. The central processing unit optimizes alignment processing on the basis of the AGA measurement results, alignment parameter, and actually measured exposure position.

摘要翻译： 曝光装置通过使用形成在晶片上的预定取样组进行AGA测量，并且确定对准参数。 曝光装置通过使用对准参数来执行晶片对准处理和曝光处理。 曝光装置向中央处理单元通知AGA测量结果和对准参数。 覆盖检查装置测量曝光的晶片上的实际曝光位置，并向中央处理单元通知测量结果。 中央处理单元根据AGA测量结果，对准参数和实际测量的曝光位置优化对准处理。

公开(公告)号：US07247868B2

公开(公告)日：2007-07-24

申请号：US11194661

申请日：2005-08-02

申请人： Takehiko Suzuki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

发明人： Takehiko Suzuki ,  Hideki Ina ,  Koichi Sentoku ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7015 ,  G03F7/70233 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7065 ,  G03F9/7088

摘要： An exposure method for projecting a pattern formed on a reflection plate onto a substrate, via a projection optical system, using extreme ultraviolet light. The method includes a detection step of detecting a relative position between a second mark formed on a plate holding unit for holding the reflection plate and a third mark formed on the reflection plate. The detection step includes sub-steps of (i) detecting light reflected from the second mark with a detector, (ii) detecting light reflected from the third mark with the detector, and (iii) changing a relative position between the plate holding unit and the detector between sub-steps (i) and (ii).

摘要翻译： 一种曝光方法，用于通过使用极紫外光的投影光学系统将形成在反射板上的图案投射到基板上。 该方法包括检测步骤，用于检测形成在用于保持反射板的板保持单元上的第一标记与形成在反射板上的第二标记之间的相对位置。 检测步骤包括以下步骤：（i）用检测器检测从第一标记反射的光，（ii）用检测器检测从第二标记反射的光，和（iii）改变板保持单元和 子步骤（i）和（ii）之间的检测器。

公开(公告)号：US07010380B2

公开(公告)日：2006-03-07

申请号：US10423891

申请日：2003-04-28

申请人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi

发明人： Koichi Sentoku ,  Hideki Ina ,  Takehiko Suzuki ,  Takahiro Matsumoto ,  Satoru Oishi

IPC分类号： G06F19/00 ,  G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70525 ,  G05B19/418 ,  G05B2219/32015 ,  G05B2219/34402 ,  G05B2219/45027 ,  Y02P90/02 ,  Y02P90/18 ,  Y02P90/185

摘要： A system which manages a plurality of semiconductor exposure apparatuses holds TIS information representing the characteristics of the respective semiconductor exposure apparatuses. In a semiconductor exposure apparatus, a parameter value is optimized on the basis of AGA measurement results obtained using a set parameter value and another parameter value and AGA measurement estimation results obtained by virtually changing the parameter value. Whether to reflect the optimized parameter value in another exposure device is decided on the basis of the TIS information. If it is decided to reflect the optimized parameter value, the parameter value of another semiconductor exposure apparatus is optimized by the optimized parameter value. In this manner, the optimization result of a parameter value by a given exposure device can be properly reflected in another exposure device, realizing efficient parameter value setting.

摘要翻译： 管理多个半导体曝光装置的系统保持表示各半导体曝光装置的特性的TIS信息。 在半导体曝光装置中，基于使用设定参数值和另一参数值获得的AGA测量结果和通过虚拟改变参数值而获得的AGA测量估计结果来优化参数值。 根据TIS信息确定是否反映另一曝光装置中的优化参数值。 如果决定反映优化参数值，则通过优化的参数值优化另一半导体曝光装置的参数值。 以这种方式，通过给定曝光装置的参数值的优化结果可以适当地反映在另一曝光装置中，实现有效的参数值设定。