公开(公告)号：US20090066375A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：US11898443

申请日：2007-09-12

申请人： Keisuke Kuroda ,  Ken Maruyama

发明人： Keisuke Kuroda ,  Ken Maruyama

IPC分类号： H03K3/00

CPC分类号： H03K17/6871 ,  H02P27/08 ,  H03K17/08122 ,  H03K17/08142 ,  H03K17/165 ,  H03K17/166 ,  H03K17/731 ,  H03K17/74 ,  H03K2017/0806

摘要： The present invention inexpensively controls a turn-on and turn-off switching speed for MOS transistors made in accordance with various specifications. According to the present invention, during an output voltage rise period for a turn-on operation of the MOS transistor, a fixed current determined by a first clip circuit and a resistor is input to a gate terminal of the MOS transistor to obtain a linear rise slew rate. During an output voltage drop period for a turn-off operation of the MOS transistor, a fixed current determined by a second clip circuit 38 and a resistor is input to the gate terminal of the MOS transistor to obtain a linear drop slew rate.

摘要翻译： 本发明低成本地控制根据各种规格制造的MOS晶体管的导通和关断切换速度。 根据本发明，在用于MOS晶体管的导通动作的输出电压上升期间，将由第一钳位电路和电阻器确定的固定电流输入到MOS晶体管的栅极端子，以获得线性上升 压摆率 在用于MOS晶体管的截止操作的输出电压下降周期期间，由第二钳位电路38和电阻器确定的固定电流被输入到MOS晶体管的栅极端子以获得线性降压转换速率。

公开(公告)号：US09261789B2

公开(公告)日：2016-02-16

申请号：US13110855

申请日：2011-05-18

申请人： Takahiro Hayama ,  Kazunori Kusabiraki ,  Yukio Nishimura ,  Ken Maruyama ,  Kiyoshi Tanaka

发明人： Takahiro Hayama ,  Kazunori Kusabiraki ,  Yukio Nishimura ,  Ken Maruyama ,  Kiyoshi Tanaka

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F228/02

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A liquid immersion lithography upper-layer film-forming composition includes (A) a polymer that includes a structural unit (I) shown by the following formula (1), and (S) a solvent. R1 in the formula (1) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (II) that includes a sulfo group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (III) shown by the following formula (3). R2 in the formula (3) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. R3 represents a linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a monovalent alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, provided that at least one hydrogen atom of the hydrocarbon group or the alicyclic group is substituted with a fluorine atom.

摘要翻译： 液浸光刻上层成膜组合物包含（A）包含下式（1）所示的结构单元（I）的聚合物和（S）溶剂。 式（1）中的R 1表示氢原子，甲基或三氟甲基。 聚合物（A）优选还包括包含磺基的结构单元（II）。 聚合物（A）优选还包含由下式（3）表示的结构单元（III）。 式（3）中的R 2表示氢原子，甲基或三氟甲基。 R 3表示碳原子数1〜12的直链或支链一价烃基或碳原子数3〜20的一价脂环式基，其中烃基或脂环族基中的至少一个氢原子被氟原子取代。

公开(公告)号：US09120726B2

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：US13525563

申请日：2012-06-18

申请人： Ken Maruyama

发明人： Ken Maruyama

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C309/75 ,  G03F7/039

CPC分类号： C07C309/75 ,  C07C2602/10 ,  C07C2602/20 ,  C07C2602/22 ,  C07C2603/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a compound shown by a following general formula (A), a solvent and a resin having an acid-labile group. Each of R1 and R2 independently represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms. Each of X and Z independently represents a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms. Y represents a single bond or the like. n represents an integer from 0 to 5.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括由以下通式（A）表示的化合物，溶剂和具有酸不稳定基团的树脂。 R 1和R 2各自独立地表示具有1〜25个碳原子的取代或未取代的一价烃基。 X和Z各自独立地表示具有1至25个碳原子的取代或未取代的二价烃基。 Y表示单键等。 n表示0〜5的整数。

公开(公告)号：US08632945B2

公开(公告)日：2014-01-21

申请号：US13479268

申请日：2012-05-24

申请人： Ken Maruyama

发明人： Ken Maruyama

IPC分类号： C07C309/04 ,  C08F228/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： C08F12/32 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R1 to R3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R7 and R11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R8 to R10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括溶剂和聚合物。 聚合物包括由式（I）表示的重复单元，由式（II）表示的重复单元或其二者。 R 1〜R 3各自独立地表示羟基等。 R1中的至少一个表示具有两个或更多个杂原子的基团。 l是1〜5的整数。m和n各自独立地为0〜5的整数.R 7和R 11各自独立地表示氢原子等。 R 8〜R 10各自独立地表示氢原子等。 A表示-O-等。 D表示取代或未取代的亚甲基等。

公开(公告)号：US08389202B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US13427855

申请日：2012-03-22

申请人： Ken Maruyama ,  Toru Kimura

发明人： Ken Maruyama ,  Toru Kimura

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F212/04 ,  C08F220/10 ,  C08F220/54 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F212/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： A polymer includes a repeating unit shown by a general formula (1). R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group. R2 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms. Y represents a carbon atom. X represents —X1Z1X2— which is an atomic group which forms a cyclic structure including a heteroatom together with Y. Z1 represents —O—, —S—, —CO—, —COO—, —SO—, or —SO2—. Each of X1 and X2 individually represents a single bond, a methylene group, or an alkylene group having 2 to 25 carbon atoms. Each of X1 and X2 is unsubstituted or substituted with a substituent, and optionally a carbon atom included in X1 and a carbon atom included in X2 are bonded via a divalent group.

摘要翻译： 聚合物包括由通式（1）表示的重复单元。 R1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基。 R2表示取代或未取代的碳原子数6〜22的芳基。 Y表示碳原子。 X表示-X1Z1X2-，其是与Y一起形成包含杂原子的环状结构的原子团.Z 1表示-O - ， - S - ， - CO-，-COO-，-SO-或-SO 2 - 。 X1和X2各自表示单键，亚甲基或碳原子数2〜25的亚烷基。 X 1和X 2各自是未取代的或被取代基取代，并且任选地包括在X 1中的碳原子和X 2中包含的碳原子通过二价基团键合。

公开(公告)号：US08334087B2

公开(公告)日：2012-12-18

申请号：US12834015

申请日：2010-07-12

申请人： Ken Maruyama ,  Toshiyuki Kai

发明人： Ken Maruyama ,  Toshiyuki Kai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F2220/1891

摘要： A radiation-sensitive composition includes (A) an acid-dissociable group-containing polymer, and (B) a radiation-sensitive acid generator. The acid-dissociable group-containing polymer (A) includes a polymer that includes a repeating unit shown by a general formula (1) in which R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group, R2 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms, Y represents a carbon atom, and X represents an atomic group that forms an alicyclic hydrocarbon group together with Y.

摘要翻译： 辐射敏感性组合物包括（A）含酸解离基团的聚合物，和（B）辐射敏感性酸产生剂。 含酸解离基的聚合物（A）包括含有通式（1）所示的重复单元的聚合物，其中R 1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基，R 2表示 取代或未取代的碳原子数6〜22的芳基，Y表示碳原子，X表示与Y一起形成脂环式烃基的原子团。

公开(公告)号：US20120058429A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：US13242920

申请日：2011-09-23

申请人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

发明人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/30 ,  C08F220/58 ,  C08F228/02 ,  C08F220/24

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/38 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C08F2220/1883 ,  C08F220/22 ,  C08F2220/382

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer that includes at least one repeating unit (i) selected from a repeating unit shown by a formula (1), (2), and (3); and a repeating unit (ii) shown by a formula (4). R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R2 independently represents one of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 25 carbon atoms. p is an integer from 0 to 3, and q is an integer from 1 to 3, and p+q≦5. A chemically-amplified positive-tone resist film that is sensitive to extreme ultraviolet rays (EUV) can be formed using the radiation-sensitive resin composition.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有至少一种选自式（1），（2）和（3）所示的重复单元的重复单元（i）的聚合物; 和式（4）所示的重复单元（ii）。 R1表示氢原子或甲基。 每个R 2独立地表示具有1至12个碳原子的直链或支链烷基，具有1至12个碳原子的直链或支链烷氧基和具有3至25个碳原子的脂环族烃基。 p为0〜3的整数，q为1〜3的整数，p + q＆nlE; 5。 可以使用放射线敏感性树脂组合物形成对极紫外线（EUV）敏感的化学放大正性抗蚀剂膜。

公开(公告)号：US08470513B2

公开(公告)日：2013-06-25

申请号：US13242920

申请日：2011-09-23

申请人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

发明人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

IPC分类号： C08F228/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/38 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C08F2220/1883 ,  C08F220/22 ,  C08F2220/382

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer that includes at least one repeating unit (i) selected from a repeating unit shown by a formula (1), (2), and (3); and a repeating unit (ii) shown by a formula (4). R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R2 independently represents one of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 25 carbon atoms. p is an integer from 0 to 3, and q is an integer from 1 to 3, and p+q≦5. A chemically-amplified positive-tone resist film that is sensitive to extreme ultraviolet rays (EUV) can be formed using the radiation-sensitive resin composition.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有至少一种选自式（1），（2）和（3）所示的重复单元的重复单元（i）的聚合物; 和式（4）所示的重复单元（ii）。 R1表示氢原子或甲基。 每个R 2独立地表示碳原子数1〜12的直链或支链烷基，碳原子数1〜12的直链或支链烷氧基和碳原子数3〜25的脂环族烃基。 p为0〜3的整数，q为1〜3的整数，p + q〜5。 可以使用放射线敏感性树脂组合物形成对极紫外线（EUV）敏感的化学放大正性抗蚀剂膜。

公开(公告)号：US20120295198A1

公开(公告)日：2012-11-22

申请号：US13560987

申请日：2012-07-27

申请人： Yasuhiko MATSUDA ,  Takanori Kawakami ,  Kazuki Kasahara ,  Ken Maruyama

发明人： Yasuhiko MATSUDA ,  Takanori Kawakami ,  Kazuki Kasahara ,  Ken Maruyama

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a compound represented by a following formula (1), and a first polymer that serves as a base resin. R1 represents a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or the like. The M+ represents a monovalent cation. The first polymer (B) is preferably insoluble or hardly soluble in alkali, the polymer including a structure unit represented by a formula (5) or a structure unit represented by a formula (6), and a structure unit represented by a formula (7).

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含由下式（1）表示的化合物和作为基础树脂的第一聚合物。 R1表示碳原子数3〜20的一价脂环式烃基等。 M +表示一价阳离子。 第一聚合物（B）优选不溶于或几乎不溶于碱，该聚合物包括由式（5）表示的结构单元或由式（6）表示的结构单元，和由式（7）表示的结构单元 ）。

公开(公告)号：US20120045719A1

公开(公告)日：2012-02-23

申请号：US13288963

申请日：2011-11-04

申请人： Ken Maruyama ,  Kota Nishino ,  Kazuki Kasahara ,  Hirokazu Sakakibara

发明人： Ken Maruyama ,  Kota Nishino ,  Kazuki Kasahara ,  Hirokazu Sakakibara

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07C65/05

CPC分类号： C07C65/10 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F212/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  C08F2220/1891 ,  C08F220/18

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes an acid-dissociable group-containing resin, and a compound shown by the following general formula (1). wherein Z− represents a monovalent anion shown by a general formula (2), M+ represents a monovalent onium cation, R1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms substituted or unsubstantiated with a fluorine atom, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and n is 1 or 2.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含含酸解离基团的树脂和由以下通式（1）表示的化合物。 其中Z-表示由通式（2）表示的一价阴离子，M +表示一价鎓阳离子，R1表示碳原子数1〜12的被氟原子取代或未取代的直链或支链烷基，或直链或支链 具有1至12个碳原子的烷氧基，n为1或2。