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公开(公告)号：US20090274977A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：US12519519
申请日：2008-01-08
CPC分类号： C07C39/17 , C07C43/23 , C07C69/712 , G03F7/004 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： A compound shown by the following formula (1) can be used as a material for a radiation-sensitive composition capable of forming a resist film which effectively responds to electron beams or the like, exhibits low roughness, and can form a high precision minute pattern in a stable manner.
摘要翻译： 由下式（1）表示的化合物可以用作能够形成有效响应电子束等的抗蚀剂膜的放射线敏感性组合物的材料，显示出低的粗糙度，并且可以形成高精度的微小图案 以稳定的方式。
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公开(公告)号：US08377627B2
公开(公告)日：2013-02-19
申请号：US12673167
申请日：2008-07-30
CPC分类号： C07C69/736 , C07C43/23 , C07C2603/92 , G03F7/0392
摘要： A compound shown by the following formula (1).
摘要翻译： 由下式（1）表示的化合物。
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公开(公告)号：US08173351B2
公开(公告)日：2012-05-08
申请号：US12519519
申请日：2008-01-08
CPC分类号： C07C39/17 , C07C43/23 , C07C69/712 , G03F7/004 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： A compound shown by the following formula (1) can be used as a material for a radiation-sensitive composition capable of forming a resist film which effectively responds to electron beams or the like, exhibits low roughness, and can form a high precision minute pattern in a stable manner.
摘要翻译： 由下式（1）表示的化合物可以用作能够形成对电子束等有效响应的抗蚀剂膜的放射线敏感性组合物的材料，显示出低的粗糙度，并且可以形成高精度的微小图案 以稳定的方式。
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4.发明授权Polymer, radiation-sensitive composition, monomer, and method of producing compound 有权聚合物，辐射敏感组合物，单体和生产化合物的方法公开(公告)号：US08334087B2
公开(公告)日：2012-12-18
申请号：US12834015
申请日：2010-07-12
申请人： Ken Maruyama , Toshiyuki Kai
发明人： Ken Maruyama , Toshiyuki Kai
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F8/12 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/30 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , C08F2220/1891
摘要： A radiation-sensitive composition includes (A) an acid-dissociable group-containing polymer, and (B) a radiation-sensitive acid generator. The acid-dissociable group-containing polymer (A) includes a polymer that includes a repeating unit shown by a general formula (1) in which R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group, R2 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms, Y represents a carbon atom, and X represents an atomic group that forms an alicyclic hydrocarbon group together with Y.
摘要翻译： 辐射敏感性组合物包括（A）含酸解离基团的聚合物，和（B）辐射敏感性酸产生剂。 含酸解离基的聚合物（A）包括含有通式（1）所示的重复单元的聚合物，其中R 1表示氢原子，甲基，氟原子或三氟甲基，R 2表示 取代或未取代的碳原子数6〜22的芳基，Y表示碳原子，X表示与Y一起形成脂环式烃基的原子团。
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公开(公告)号：US20120058429A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：US13242920
申请日：2011-09-23
申请人： Kota Nishino , Ken Maruyama , Daisuke Shimizu , Toshiyuki Kai
发明人： Kota Nishino , Ken Maruyama , Daisuke Shimizu , Toshiyuki Kai
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/30 , C08F220/58 , C08F228/02 , C08F220/24
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F12/20 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/38 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F2220/1883 , C08F220/22 , C08F2220/382
摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer that includes at least one repeating unit (i) selected from a repeating unit shown by a formula (1), (2), and (3); and a repeating unit (ii) shown by a formula (4). R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R2 independently represents one of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 25 carbon atoms. p is an integer from 0 to 3, and q is an integer from 1 to 3, and p+q≦5. A chemically-amplified positive-tone resist film that is sensitive to extreme ultraviolet rays (EUV) can be formed using the radiation-sensitive resin composition.
摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有至少一种选自式（1），（2）和（3）所示的重复单元的重复单元（i）的聚合物; 和式（4）所示的重复单元（ii）。 R1表示氢原子或甲基。 每个R 2独立地表示具有1至12个碳原子的直链或支链烷基，具有1至12个碳原子的直链或支链烷氧基和具有3至25个碳原子的脂环族烃基。 p为0〜3的整数，q为1〜3的整数，p + q＆nlE; 5。 可以使用放射线敏感性树脂组合物形成对极紫外线（EUV）敏感的化学放大正性抗蚀剂膜。
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公开(公告)号：US08470513B2
公开(公告)日：2013-06-25
申请号：US13242920
申请日：2011-09-23
申请人： Kota Nishino , Ken Maruyama , Daisuke Shimizu , Toshiyuki Kai
发明人： Kota Nishino , Ken Maruyama , Daisuke Shimizu , Toshiyuki Kai
IPC分类号： C08F228/00
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F12/20 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/38 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F2220/1883 , C08F220/22 , C08F2220/382
摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer that includes at least one repeating unit (i) selected from a repeating unit shown by a formula (1), (2), and (3); and a repeating unit (ii) shown by a formula (4). R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R2 independently represents one of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 25 carbon atoms. p is an integer from 0 to 3, and q is an integer from 1 to 3, and p+q≦5. A chemically-amplified positive-tone resist film that is sensitive to extreme ultraviolet rays (EUV) can be formed using the radiation-sensitive resin composition.
摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有至少一种选自式（1），（2）和（3）所示的重复单元的重复单元（i）的聚合物; 和式（4）所示的重复单元（ii）。 R1表示氢原子或甲基。 每个R 2独立地表示碳原子数1〜12的直链或支链烷基，碳原子数1〜12的直链或支链烷氧基和碳原子数3〜25的脂环族烃基。 p为0〜3的整数，q为1〜3的整数，p + q〜5。 可以使用放射线敏感性树脂组合物形成对极紫外线（EUV）敏感的化学放大正性抗蚀剂膜。
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公开(公告)号：US20110117489A1
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：US12673167
申请日：2008-07-30
IPC分类号： G03F7/004 , C07C69/734 , C07C69/96
CPC分类号： C07C69/736 , C07C43/23 , C07C2603/92 , G03F7/0392
摘要： A compound shown by the following formula (1).
摘要翻译： 由下式（1）表示的化合物。
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公开(公告)号：US09200098B2
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：US13415754
申请日：2012-03-08
申请人： Ken Maruyama
发明人： Ken Maruyama
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/12 , C07C381/12 , C08F20/10 , C07C307/06 , C07C309/07 , C07C309/17 , C08F20/28 , C08F20/54 , G03F7/039
CPC分类号： C08F20/10 , C07C307/06 , C07C309/07 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C08F12/24 , C08F20/28 , C08F20/54 , C08F212/14 , C09D125/14 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , C08F2220/1891 , C08F220/18
摘要： A radiation-sensitive composition includes a photoacid generator shown by a general formula (0-1a). Each of R0 individually represents a substituted or unsubstituted organic group which includes a carbon atom, a hydrogen atom, and an oxygen atom, and which includes at least one ester bond, and M+ represents a monovalent onium cation. A compound is shown by a general formula (0). R represents a substituted or unsubstituted organic group which includes a carbon atom, a hydrogen atom, and an oxygen atom, and which includes at least one ester bond, and M+ represents a monovalent onium cation.
摘要翻译： 辐射敏感性组合物包括通式（0-1a）所示的光致酸产生剂。 R 0各自独立地表示取代或未取代的包含碳原子，氢原子和氧原子的有机基团，其包含至少一个酯键，M +表示一价鎓阳离子。 化合物由通式（0）表示。 R表示取代或未取代的包含碳原子，氢原子和氧原子的有机基团，其包含至少一个酯键，M +表示一价鎓阳离子。
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公开(公告)号：US09104102B2
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：US13560987
申请日：2012-07-27
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a compound represented by a following formula (1), and a first polymer that serves as a base resin. R1 represents a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or the like. The M+ represents a monovalent cation. The first polymer (B) is preferably insoluble or hardly soluble in alkali, the polymer including a structure unit represented by a formula (5) or a structure unit represented by a formula (6), and a structure unit represented by a formula (7).
摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包含由下式（1）表示的化合物和作为基础树脂的第一聚合物。 R1表示碳原子数3〜20的一价脂环式烃基等。 M +表示一价阳离子。 第一聚合物（B）优选不溶于或几乎不溶于碱，该聚合物包括由式（5）表示的结构单元或由式（6）表示的结构单元，和由式（7）表示的结构单元 ）。
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10.发明授权Method for forming resist pattern and composition for forming protective film 有权形成抗蚀剂图案的方法和用于形成保护膜的组合物公开(公告)号：US09052600B2
公开(公告)日：2015-06-09
申请号：US13604810
申请日：2012-09-06
申请人： Ken Maruyama , Koji Inukai
发明人： Ken Maruyama , Koji Inukai
CPC分类号： G03F7/2059 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/2037
摘要： A method for forming a resist pattern includes providing a resist film. A protective film is provided on the resist film using a composition for forming the protective film. The composition includes a polymer and an organic solvent. The resist film on which the protective film is provided is exposed to irradiation with EUV light or an electron beam. The exposed resist film is developed.
摘要翻译： 形成抗蚀剂图案的方法包括提供抗蚀剂膜。 使用形成保护膜的组合物在抗蚀剂膜上设置保护膜。 该组合物包括聚合物和有机溶剂。 其上设置有保护膜的抗蚀膜暴露于用EUV光或电子束照射。 显影出抗蚀剂膜。
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