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    Two Layer Ag Process For Low Emissivity Coatings
    12.
    发明申请
    Two Layer Ag Process For Low Emissivity Coatings 审中-公开
    用于低发射率涂层的两层Ag工艺

    公开(公告)号：US20140170434A1

    公开(公告)日：2014-06-19

    申请号：US13715709

    申请日：2012-12-14

    Applicant: INTERMOLECULAR INC.

    Inventor： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Brent Boyce ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang ,  Yongli Xu

    IPC: G02B1/10

    CPC classification number: G02B1/10 ,  Y10T428/12056 ,  Y10T428/12611

    Abstract: Two layer silver process comprising a silver layer deposited on a doped silver layer can improve the adhesion of the silver layer on a substrate, minimizing agglomeration to provide a high quality silver layer. The doped silver layer can comprise silver and a doping element that has lower enthalpy of formation with oxide than that of silver, leading to better bonding with oxygen in the substrate.

    Abstract translation: 包含沉积在掺杂银层上的银层的双层银方法可以改善银层在基片上的附着力，最小化附聚以提供高质量的银层。 掺杂的银层可以包含银和掺杂元素，其掺杂元素具有比银更低的氧化物形成焓，导致与衬底中的氧更好的结合。

    Silver barrier materials for low-emissivity applications
    13.
    发明授权
    Silver barrier materials for low-emissivity applications 有权
    用于低发射率应用的银屏障材料

    公开(公告)号：US09448345B2

    公开(公告)日：2016-09-20

    申请号：US13725126

    申请日：2012-12-21

    Applicant: Intermolecular Inc. ,  Guardian Industries Corp.

    Inventor： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Brent Boyce ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang ,  Yongli Xu

    IPC: G02B5/28 ,  F21V9/00 ,  G02B5/20 ,  C03C17/36

    CPC classification number: G02B5/208 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/40 ,  G02B5/282

    Abstract: A method for making low emissivity panels, including control the composition of a barrier layer formed on a thin conductive silver layer. The barrier structure can include an alloy of a first element having high oxygen affinity with a second element having low oxygen affinity. The first element can include Ta, Nb, Zr, Hf, Mn, Y, Si, and Ti, and the second element can include Ru, Ni, Co, Mo, and W, which can have low oxygen affinity property. The alloy barrier layer can reduce optical absorption in the visible range, can provide color-neutral product, and can improve adhesion to the silver layer.

    Abstract translation: 一种制造低发射率面板的方法，包括控制形成在薄导电银层上的阻挡层的组成。 阻挡结构可以包括具有高氧亲和力的第一元素与具有低氧亲合力的第二元素的合金。 第一元素可以包括Ta，Nb，Zr，Hf，Mn，Y，Si和Ti，第二元素可以包括可以具有低氧亲和性的Ru，Ni，Co，Mo和W。 合金阻挡层可以减少可见光范围内的光吸收，可以提供颜色中性的产品，并可以提高对银层的粘附性。

    SYSTEMS, METHODS, AND APPARATUS FOR PRODUCTION COATINGS OF LOW-EMISSIVITY GLASS
    15.
    发明申请
    SYSTEMS, METHODS, AND APPARATUS FOR PRODUCTION COATINGS OF LOW-EMISSIVITY GLASS 有权
    低功率玻璃生产涂料的系统，方法和装置

    公开(公告)号：US20140308528A1

    公开(公告)日：2014-10-16

    申请号：US14144828

    申请日：2013-12-31

    Applicant: Intermolecular Inc.

    Inventor： Guowen Ding ,  Brent Boyce ,  Jeremy Cheng ,  Jose Ferreira ,  Muhammad Imran ,  Minh Huu Le ,  Daniel Schweigert ,  Yu Wang ,  Yongli Xu ,  Guizhen Zhang

    IPC: C23C14/10 ,  C03C17/34 ,  C23C14/34

    CPC classification number: C03C17/366 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3613 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3681 ,  C03C25/226 ,  C03C2218/155 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/083 ,  C23C14/086

    Abstract: Disclosed herein are systems, methods, and apparatus for forming a low emissivity panel. In various embodiments, a partially fabricated panel may be provided. The partially fabricated panel may include a substrate, a reflective layer formed over the substrate, and a top dielectric layer formed over the reflective layer such that the reflective layer is formed between the substrate and the top dielectric layer. The top dielectric layer may include tin having an oxidation state of +4. An interface layer may be formed over the top dielectric layer. A top diffusion layer may be formed over the interface layer. The top diffusion layer may be formed in a nitrogen plasma environment. The interface layer may substantially prevent nitrogen from the nitrogen plasma environment from reaching the top dielectric layer and changing the oxidation state of tin included in the top dielectric layer.

    Abstract translation: 本文公开了用于形成低发射率面板的系统，方法和装置。 在各种实施例中，可以提供部分制造的面板。 部分制造的面板可以包括衬底，在衬底上形成的反射层，以及形成在反射层上的顶部电介质层，使得反射层形成在衬底和顶部电介质层之间。 顶部电介质层可以包括具有+4的氧化态的锡。 界面层可以形成在顶部介电层上。 可以在界面层上形成顶部扩散层。 顶部扩散层可以在氮等离子体环境中形成。 界面层可以基本上防止来自氮等离子体环境的氮到达顶部电介质层并改变顶部电介质层中包含的锡的氧化态。

    Low-E Panel with Improved Barrier Layer Process Window and Method for Forming the Same
    16.
    发明申请
    Low-E Panel with Improved Barrier Layer Process Window and Method for Forming the Same 审中-公开
    具有改进的阻挡层工艺窗口的Low-E面板及其形成方法

    公开(公告)号：US20140272390A1

    公开(公告)日：2014-09-18

    申请号：US13834261

    申请日：2013-03-15

    Applicant: INTERMOLECULAR INC.

    Inventor： Guowen Ding ,  Brent Boyce ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang

    IPC: C03C17/36

    CPC classification number: C03C17/366 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3644 ,  Y10T428/265

    Abstract: Embodiments provided herein describe low-e panels and methods for forming low-e panels. A transparent substrate is provided. A reflective layer is formed above the transparent substrate. A barrier layer is formed above the reflective layer. A nitride-containing layer is formed above the barrier layer. The nitride-containing layer has a thickness that is 1 nm or less. A over-coating layer is formed above the nitride-containing layer. The over-coating layer includes a different material than that of the nitride-containing layer.

    Abstract translation: 本文提供的实施例描述了用于形成低e板的低e板和方法。 提供透明基板。 在透明基板的上方形成反射层。 在反射层上形成阻挡层。 在阻挡层上方形成含氮化物层。 含氮化物层的厚度为1nm以下。 在含氮化物层的上方形成覆盖层。 覆盖层包括与含氮化物层不同的材料。

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