公开(公告)号：US20090073410A1

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：US12257910

申请日：2008-10-24

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

IPC分类号： G03B27/70

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358

摘要： There is provided a projection objective for a projection exposure apparatus that has a primary light source for emitting electromagnetic radiation having a chief ray with a wavelength ≦193 nm. The projection objective includes an object plane, a first mirror, a second mirror, a third mirror, a fourth mirror; and an image plane. The object plane, the first mirror, the second mirror, the third mirror, the fourth mirror and the image plane are arranged in a centered arrangement around a common optical axis. The first mirror, the second mirror, the third mirror, and the fourth mirror are situated between the object plane and the image plane. The chief ray, when incident on an object situated in the object plane, in a direction from the primary light source, is inclined away from the common optical axis.

摘要翻译： 提供一种用于投影曝光装置的投影物镜，其具有用于发射具有波长<= 193nm的主射线的电磁辐射的主光源。 投影物镜包括物平面，第一镜，第二镜，第三镜，第四镜; 和一个图像平面。 物体平面，第一反射镜，第二反射镜，第三反射镜，第四反射镜和像平面以围绕公共光轴的中心布置布置。 第一镜，第二镜，第三镜和第四镜位于物平面和像平面之间。 当从主光源方向入射到物平面中的物体上时，主光线远离公共光轴倾斜。

公开(公告)号：US07456408B2

公开(公告)日：2008-11-25

申请号：US12009984

申请日：2008-01-23

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

IPC分类号： G02B27/14 ,  G02B5/30 ,  G02B17/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K2201/061

摘要： There is provided an illumination system for microlithography. The illumination system includes an optical element having a plurality of field raster elements, a plane in which a field is illuminated, and a grazing incidence mirror situated in a light path from the optical element to the plane, after the optical element. The illumination system has no other grazing incidence mirror in the light path, after the optical element and before the plane.

公开(公告)号：US07348565B2

公开(公告)日：2008-03-25

申请号：US11649199

申请日：2007-01-03

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

IPC分类号： G02B27/14 ,  G02B5/30 ,  G02B17/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K2201/061

摘要： There is provided a projection exposure apparatus for microlithography using a wavelength less than or equal to 193 nm. The apparatus includes an optical element with a pupil raster element, and a projection objective with a real entrance pupil. The optical element is situated in or near a plane defined by the real entrance pupil.

摘要翻译： 提供了使用波长小于或等于193nm的微光刻的投影曝光装置。 该装置包括具有光瞳光栅元件的光学元件和具有真实入射光瞳的投影物镜。 光学元件位于由真正的入射光瞳限定的平面内或附近。

公开(公告)号：US20050088760A1

公开(公告)日：2005-04-28

申请号：US10919583

申请日：2004-08-17

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

IPC分类号： G02B17/06 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G02B17/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K2201/061

摘要： There is provided a projection objective for a projection exposure apparatus that has a primary light source for emitting electromagnetic radiation having a chief ray with a wavelength≦193 nm. The projection objective includes an object plane, a first mirror, a second mirror, a third mirror, a fourth mirror; and an image plane. The object plane, the first mirror, the second mirror, the third mirror, the fourth mirror and the image plane are arranged in a centered arrangement around a common optical axis. The first mirror, the second mirror, the third mirror, and the fourth mirror are situated between the object plane and the image plane. The chief ray, when incident on an object situated in the object plane, in a direction from the primary light source, is inclined away from the common optical axis.

摘要翻译： 提供一种用于投影曝光装置的投影物镜，其具有用于发射具有波长<= 193nm的主射线的电磁辐射的主光源。 投影物镜包括物平面，第一镜，第二镜，第三镜，第四镜; 和一个图像平面。 物体平面，第一反射镜，第二反射镜，第三反射镜，第四反射镜和像平面以围绕公共光轴的中心布置布置。 第一镜，第二镜，第三镜和第四镜位于物平面和像平面之间。 当从主光源方向入射到物平面中的物体上时，主光线远离公共光轴倾斜。

公开(公告)号：US07551361B2

公开(公告)日：2009-06-23

申请号：US10571267

申请日：2004-07-14

申请人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

发明人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

IPC分类号： G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70241

摘要： An optical imaging system for a microlithography projection exposure system is used for imaging an object field arranged in an object plane of the imaging system into an image field arranged in an image plane of the imaging system. A projection objective or a relay objective to be used in the illumination system can be involved, in particular. The imaging system has a plurality of lenses that are arranged between the object plane and the image plane and in each case have a first lens surface and a second lens surface. At least one of the lenses is a double aspheric lens where the first lens surface and the second lens surface is an aspheric surface. Lenses of good quality that have the action of an asphere with very strong deformation can be produced in the case of double aspheric lenses with an acceptable outlay as regards the surface processing and testing of the lens surfaces.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光系统的光学成像系统用于将布置在成像系统的物体平面中的物体场成像为布置在成像系统的图像平面中的图像场。 特别是可以涉及在照明系统中使用的投影物镜或中继物镜。 成像系统具有布置在物平面和图像平面之间的多个透镜，并且在每种情况下具有第一透镜表面和第二透镜表面。 至少一个透镜是双非球面透镜，其中第一透镜表面和第二透镜表面是非球面。 对于具有可接受的关于透镜表面的表面处理和测试的费用的双非球面透镜的情况，可以产生具有非常强的变形非球面作用的良好质量的透镜。

公开(公告)号：US20070258134A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US10571267

申请日：2004-07-14

申请人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

发明人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

IPC分类号： G02B17/00

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70241

摘要： An optical imaging system for a microlithography projection exposure system is used for imaging an object field arranged in an object plane of the imaging system into an image field arranged in an image plane of the imaging system. A projection objective or a relay objective to be used in the illumination system can be involved, in particular. The imaging system has a plurality of lenses that are arranged between the object plane and the image plane and in each case have a first lens surface and a second lens surface. At least one of the lenses is a double aspheric lens where the first lens surface and the second lens surface is an aspheric surface. Lenses of good quality that have the action of an asphere with very strong deformation can be produced in the case of double aspheric lenses with an acceptable outlay as regards the surface processing and testing of the lens surfaces.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光系统的光学成像系统用于将布置在成像系统的物体平面中的物体场成像为布置在成像系统的图像平面中的图像场。 特别是可以涉及在照明系统中使用的投影物镜或中继物镜。 成像系统具有布置在物平面和图像平面之间的多个透镜，并且在每种情况下具有第一透镜表面和第二透镜表面。 至少一个透镜是双非球面透镜，其中第一透镜表面和第二透镜表面是非球面。 对于具有可接受的关于透镜表面的表面处理和测试的费用的双非球面透镜的情况，可以产生具有非常强的变形非球面作用的良好质量的透镜。

公开(公告)号：US07091505B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US10775037

申请日：2004-02-09

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G21G5/00 ,  A61N5/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength ≦193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括收集器，其收集波长<= 193nm的光并照亮平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US06438199B1

公开(公告)日：2002-08-20

申请号：US09679718

申请日：2000-09-29

申请人： Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni

发明人： Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni

IPC分类号： G21K504

CPC分类号： G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/708 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/064

摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths ≦193 nm, comprising a light source, a first optical component, a second optical component, an image plane and an exit pupil. The first optical component transforms the light source into a plurality of secondary light sources being imaged by the second optical component in said exit pupil. The first optical component comprises a first optical element having a plurality of first raster elements, which are imaged into said image plane producing a plurality of images being superimposed at least partially on a field in said image plane. The first raster elements deflect incoming ray bundles with first deflection angles, wherein at least two of the first deflection angles are different. The first raster elements are preferably rectangular, wherein the field is a segment of an annulus. To transform the rectangular images of the first raster elements into the segment of the annulus, the second optical component comprises a first field mirror for shaping the field to the segment of the annulus.

摘要翻译： 本发明涉及一种照明系统，特别是对于具有波长<= 193nm的微光刻，其包括光源，第一光学部件，第二光学部件，图像平面和出射光瞳。 第一光学部件将光源变换成由所述出射光瞳中的第二光学部件成像的多个次级光源。 第一光学部件包括具有多个第一光栅元件的第一光学元件，其被成像到所述图像平面中，产生至少部分地叠加在所述图像平面中的场上的多个图像。 第一光栅元件以第一偏转角偏转入射光束，其中第一偏转角中的至少两个是不同的。 第一光栅元件优选地是矩形的，其中该场是环的一段。 为了将第一光栅元件的矩形图像变换成环形的区段，第二光学部件包括用于将场成形为环形部分的第一场镜。

公开(公告)号：US20060291062A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11416447

申请日：2006-05-02

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G02B27/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a projection exposure system operable in a scanning mode along a scanning direction. The projection exposure system includes a collector that receives light having a wavelength 193 nm and illuminates a region in a plane. The plane is defined by a local coordinate system having a y-direction parallel to the scanning direction and an x-direction perpendicular to the scanning direction. The collector includes (a) a first mirror shell, (b) a second mirror shell within the first mirror shell, and (c) a fastening device for fastening the first and second mirror shells. The mirror shells are substantially rotational symmetric about a common rotational axis. The fastening device has a support spoke that extends in a radial direction of the mirror shells, and the support spoke, when projected into the plane, yields a projection that is non-parallel to the y-direction.

摘要翻译： 提供了沿着扫描方向以扫描模式操作的投影曝光系统。 投影曝光系统包括：收集器，其接收波长为193nm的光并照射平面中的区域。 平面由具有与扫描方向平行的y方向和垂直于扫描方向的x方向的局部坐标系限定。 收集器包括（a）第一镜壳，（b）第一镜壳内的第二镜壳，以及（c）用于紧固第一镜壳和第二镜壳的紧固装置。 镜壳基本上围绕公共旋转轴线旋转对称。 紧固装置具有在镜壳的径向方向上延伸的支撑辐条，并且当​​投影到平面中时支撑辐条产生不平行于y方向的突起。

公开(公告)号：US20080042079A1

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：US11974718

申请日：2007-10-16

申请人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

发明人： Wolfgang Singer ,  Wilhelm Egle ,  Markus Weiss ,  Joachim Hainz ,  Joachim Wietzorrek ,  Johannes Wangler ,  Frank Melzer ,  Bernhard Gellrich ,  Bernhard Geuppert ,  Erich Schubert ,  Martin Antoni

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B5/09 ,  G02B7/182 ,  G02B17/006 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70825 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04

摘要： There is provided a system that includes a first optical sub-system contained in a first space, and a second optical sub-system contained in a second space. The first and said second spaces are separated by a structure selected from the group consisting of a diaphragm and a valve.

摘要翻译： 提供了一种包括包含在第一空间中的第一光学子系统和包含在第二空间中的第二光学子系统的系统。 第一和第二空间由选自隔膜和阀门的结构分开。