公开(公告)号：US09019470B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US12627094

申请日：2009-11-30

申请人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/44 ,  G03B27/42 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate support constructed to hold a substrate; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and an encoder-type measurement system configured to at least during projection of the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate continuously determine a position quantity of a patterning device supported on the patterning device support using a grid or grating provided on the patterning device.

摘要翻译： 本发明涉及一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予辐射束以形成图案， 图案化的辐射束，被构造成保持衬底的衬底支撑件; 配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统，以及配置成至少在将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的编码器型测量系统中，连续地确定 使用设置在图案形成装置上的格栅或格栅支撑在图案形成装置支撑体上的图案形成装置。

公开(公告)号：US08982359B2

公开(公告)日：2015-03-17

申请号：US13564665

申请日：2012-08-01

申请人： Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G01B11/14 ,  G01B11/24 ,  G01D5/38 ,  G03F7/20

CPC分类号： G01B11/14 ,  G01D5/38 ,  G03F7/70775

摘要： A system for detecting motion of a body, the system comprising: a body; a first grating mounted substantially stationary relative to a frame of reference; a second grating mounted on the body; a detector arranged to receive one or more radiation beams diffracted at the first and second gratings thereby to detect motion of the body relative to the frame of reference; wherein the detector is coupled to the body and moveable relative to the body.

摘要翻译： 一种用于检测身体运动的系统，所述系统包括：主体; 相对于参考框架基本上固定的第一光栅; 安装在本体上的第二光栅; 检测器，布置成接收在第一和第二光栅处衍射的一个或多个辐射束，从而检测身体相对于参考系的运动; 其中所述检测器联接到所述主体并且相对于所述主体可移动。

公开(公告)号：US20110026004A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：US12830963

申请日：2010-07-06

申请人： Jan VAN EIJK ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan VAN EIJK ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G03B27/58 ,  B25J11/00

CPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783

摘要： A positioning system to position a movable object having a body, the positioning system includes an object position measurement system, an object actuator, and an object controller, wherein the positioning system further includes a stiffener to increase the stiffness and/or to damp relative movements within the body of the object, the stiffener including; one or more sensors, wherein each sensor is arranged to determine a measurement signal representative of an internal strain or relative displacement in the body, one or more actuators, wherein each actuator is arranged to exert an actuation force on a part of the body, and at least one controller, configured to provide on the basis of the measurement signal of at least one of the sensors, an actuation signal to at least one of the actuators to increase the stiffness and/or to damp movements within the body.

摘要翻译： 一种定位系统，用于定位具有本体的可移动物体，所述定位系统包括物体位置测量系统，物体致动器和物体控制器，其中所述定位系统还包括加强件，以增加刚度和/或抑制相对运动 在物体的身体内，加强筋包括; 一个或多个传感器，其中每个传感器布置成确定表示体内的内部应变或相对位移的测量信号，一个或多个致动器，其中每个致动器布置成在身体的一部分上施加致动力，以及 至少一个控制器，被配置为基于所述传感器中的至少一个传感器的测量信号提供到所述致动器中的至少一个致动器的致动信号，以增加所述刚度和/或抑制所述主体内的运动。

公开(公告)号：US20100157263A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627094

申请日：2009-11-30

申请人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F1/44 ,  G03B27/42 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate support constructed to hold a substrate; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, and an encoder-type measurement system configured to at least during projection of the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate continuously determine a position quantity of a patterning device supported on the patterning device support using a grid or grating provided on the patterning device.

摘要翻译： 本发明涉及一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予辐射束以形成图案， 图案化的辐射束，被构造成保持衬底的衬底支撑件; 配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统，以及配置成至少在将图案化的辐射束投射到基板的目标部分上的编码器型测量系统中，连续地确定 使用设置在图案形成装置上的格栅或格栅支撑在图案形成装置支撑体上的图案形成装置。

公开(公告)号：US08482719B2

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：US12830963

申请日：2010-07-06

申请人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

发明人： Jan Van Eijk ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/32 ,  G03B27/62 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70783

摘要： A positioning system to position a movable object having a body, the positioning system includes an object position measurement system, an object actuator, and an object controller, wherein the positioning system further includes a stiffener to increase the stiffness and/or to damp relative movements within the body of the object, the stiffener including; one or more sensors, wherein each sensor is arranged to determine a measurement signal representative of an internal strain or relative displacement in the body, one or more actuators, wherein each actuator is arranged to exert an actuation force on a part of the body, and at least one controller, configured to provide on the basis of the measurement signal of at least one of the sensors, an actuation signal to at least one of the actuators to increase the stiffness and/or to damp movements within the body.

摘要翻译： 一种定位系统，用于定位具有主体的可移动物体，所述定位系统包括物体位置测量系统，物体致动器和物体控制器，其中所述定位系统还包括加强件，以增加刚度和/或阻尼相对运动 在物体的身体内，加强筋包括; 一个或多个传感器，其中每个传感器布置成确定表示体内的内部应变或相对位移的测量信号，一个或多个致动器，其中每个致动器布置成在身体的一部分上施加致动力，以及 至少一个控制器，被配置为基于所述传感器中的至少一个传感器的测量信号提供到所述致动器中的至少一个致动器的致动信号，以增加所述刚度和/或抑制所述主体内的运动。

公开(公告)号：US20110208459A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US13018226

申请日：2011-01-31

申请人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a stage to hold an object, the stage being moveable relative to a reference structure in a motion range; a magnet structure to provide a spatially varying magnetic field in at least a part of the motion range, the magnet structure being moveable relative to the reference structure and the stage; a first position measurement system to provide a first measurement signal corresponding to a position of the stage and/or the object in a measurement direction relative to the reference structure; a second position measurement system to provide a second measurement signal corresponding to a position of the stage relative to the magnet structure; and a data processor to correct the first measurement signal with a value dependent on the second measurement signal to provide a corrected first measurement signal representative of the position of the stage and/or the object relative to the reference structure in the measurement direction.

摘要翻译： 光刻设备包括用于保持物体的平台，所述平台相对于基准结构在运动范围内可移动; 磁体结构，用于在所述运动范围的至少一部分中提供空间变化的磁场，所述磁体结构可相对于所述参考结构和所述平台移动; 第一位置测量系统，用于相对于参考结构在测量方向上提供对应于舞台和/或物体的位置的第一测量信号; 第二位置测量系统，用于提供对应于舞台相对于磁体结构的位置的第二测量信号; 以及数据处理器，用取决于所述第二测量信号的值来校正所述第一测量信号，以在所述测量方向上提供表示所述平台和/或所述对象相对于所述参考结构的位置的校正的第一测量信号。

公开(公告)号：US08781775B2

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US13018226

申请日：2011-01-31

申请人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G01C17/38

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a stage to hold an object, the stage being moveable relative to a reference structure in a motion range; a magnet structure to provide a spatially varying magnetic field in at least a part of the motion range, the magnet structure being moveable relative to the reference structure and the stage; a first position measurement system to provide a first measurement signal corresponding to a position of the stage and/or the object in a measurement direction relative to the reference structure; a second position measurement system to provide a second measurement signal corresponding to a position of the stage relative to the magnet structure; and a data processor to correct the first measurement signal with a value dependent on the second measurement signal to provide a corrected first measurement signal representative of the position of the stage and/or the object relative to the reference structure in the measurement direction.

摘要翻译： 光刻设备包括用于保持物体的平台，所述平台相对于基准结构在运动范围内可移动; 磁体结构，用于在所述运动范围的至少一部分中提供空间变化的磁场，所述磁体结构可相对于所述参考结构和所述平台移动; 第一位置测量系统，用于相对于参考结构在测量方向上提供对应于舞台和/或物体的位置的第一测量信号; 第二位置测量系统，用于提供对应于舞台相对于磁体结构的位置的第二测量信号; 以及数据处理器，用取决于所述第二测量信号的值来校正所述第一测量信号，以在所述测量方向上提供表示所述平台和/或所述对象相对于所述参考结构的位置的校正的第一测量信号。

公开(公告)号：US08248583B2

公开(公告)日：2012-08-21

申请号：US12367193

申请日：2009-02-06

申请人： Marinus Aart Van Den Brink ,  Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Georgo Angelis ,  Renatus Gerardus Klaver ,  Martijn Robert Hamers ,  Boudewijn Theodorus Verhaar ,  Peter Hoekstra

发明人： Marinus Aart Van Den Brink ,  Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Georgo Angelis ,  Renatus Gerardus Klaver ,  Martijn Robert Hamers ,  Boudewijn Theodorus Verhaar ,  Peter Hoekstra

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516

摘要： In an embodiment, a stage system calibration method includes moving the stage relative to an encoder grid in response to a setpoint signal and measuring a position of the stage by a sensor head cooperating with the encoder grid. The position of the stage is controlled by a stage controller. A signal representative of a difference between the setpoint signal and the position of the stage as measured by the sensor head is registered. The stage system is calibrated from the registered signal representative of the difference.

摘要翻译： 在一个实施例中，舞台系统校准方法包括响应于设定点信号相对于编码器网格移动舞台，并通过与编码器网格协作的传感器头测量舞台的位置。 舞台的位置由舞台控制器控制。 记录表示由传感器头测量的设定点信号和台的位置之间的差异的信号。 舞台系统根据代表差异的注册信号进行校准。

公开(公告)号：US07126671B2

公开(公告)日：2006-10-24

申请号：US10806344

申请日：2004-03-23

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Martijn Johannes Verbunt ,  Lambertus Adrianus Van Den Wildenberg

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Martijn Johannes Verbunt ,  Lambertus Adrianus Van Den Wildenberg

IPC分类号： G03B27/34 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/709

摘要： In a projection system for EUV, the positions of mirrors are measured and controlled relative to each other, rather than to a reference frame. Relative position measurements may be made by interferometers or capacitive sensors mounted on rigid extensions of the mirrors.

摘要翻译： 在用于EUV的投影系统中，反射镜的位置相对于彼此而不是参考帧被测量和控制。 可以通过安装在反射镜的刚性延伸部上的干涉仪或电容式传感器进行相对位置测量。

公开(公告)号：US08457385B2

公开(公告)日：2013-06-04

申请号：US13019587

申请日：2011-02-02

申请人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal

发明人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Koen Jacobus Johannes Maria Zaal

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783

摘要： An encoder-type measurement system is configured to measure a position dependent signal of a movable object, the measurement system including at least one sensor mountable on the movable object a sensor target object mountable on a substantially stationary frame, and a mounting device configured to mount the sensor target object on the substantially stationary frame. The measurement system further includes a compensation device configured to compensate movements and/or deformations of the sensor target object with respect to the substantially stationary frame. The compensation device may include a passive or an active damping device and/or a feedback position control system. In an alternative embodiment, the compensation device includes a gripping device which fixes the position of the sensor target object during a high accuracy movement of the movable object.

摘要翻译： 编码器型测量系统被配置为测量可移动物体的位置相关信号，所述测量系统包括可安装在可移动物体上的至少一个传感器，可安装在基本上固定的框架上的传感器目标物体，以及安装装置， 传感器目标物体在基本上固定的框架上。 测量系统还包括补偿装置，其被配置为补偿传感器目标物体相对于基本上静止的框架的运动和/或变形。 补偿装置可以包括无源或主动阻尼装置和/或反馈位置控制系统。 在替代实施例中，补偿装置包括夹持装置，其在可移动物体的高精度运动期间固定传感器目标物体的位置。