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    Extreme ultraviolet light generation system utilizing a variation value formula for the intensity
    22.
    发明授权
    Extreme ultraviolet light generation system utilizing a variation value formula for the intensity 有权
    极紫外光发生系统利用变化值公式求强度

    公开(公告)号：US09072152B2

    公开(公告)日：2015-06-30

    申请号：US13523446

    申请日：2012-06-14

    申请人： Osamu Wakabayashi ,  Tatsuya Yanagida

    发明人： Osamu Wakabayashi ,  Tatsuya Yanagida

    IPC分类号： H05G2/00

    CPC分类号： H05G2/008 ,  H05G2/005

    摘要： An apparatus used with a laser apparatus may include a chamber, a target supply for supplying a target material to a region inside the chamber, a laser beam focusing optical system for focusing a laser beam from the laser apparatus in the region, and an optical system for controlling a beam intensity distribution of the laser beam.

    摘要翻译： 与激光装置一起使用的装置可以包括：室，用于将目标材料供应到室内的区域的目标供应源，用于将来自该区域中的激光装置的激光束聚焦的激光束聚焦光学系统，以及光学系统 用于控制激光束的光束强度分布。

    EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM
    24.
    发明申请
    EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM 审中-公开
    极致超紫外光发生系统

    公开(公告)号：US20140084183A1

    公开(公告)日：2014-03-27

    申请号：US14114902

    申请日：2012-06-12

    申请人： Osamu Wakabayashi ,  Tatsuya Yanagida

    发明人： Osamu Wakabayashi ,  Tatsuya Yanagida

    IPC分类号： G21K5/08 ,  G21K5/00

    CPC分类号： G21K5/08 ,  G21K5/00 ,  H05G2/008

    摘要： An apparatus used with a laser apparatus may include a chamber, a target supply for supplying a target material to a region inside the chamber, a laser beam focusing optical system for focusing a laser beam from the laser apparatus in the region, and an optical system for controlling a beam intensity distribution of the laser beam.

    摘要翻译： 与激光装置一起使用的装置可以包括：室，用于将目标材料供应到室内的区域的目标供应源，用于将来自该区域中的激光装置的激光束聚焦的激光束聚焦光学系统，以及光学系统 用于控制激光束的光束强度分布。

    EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT
    27.
    发明申请
    EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT 有权
    极光紫外线光源装置及生产超极紫外线灯的方法

    公开(公告)号：US20110101863A1

    公开(公告)日：2011-05-05

    申请号：US12547896

    申请日：2009-08-26

    申请人： Hiroshi Komori ,  Tatsuya Yanagida ,  Yoshifumi Ueno ,  Akira Sumitani ,  Akira Endo ,  Tsukasa Hori

    发明人： Hiroshi Komori ,  Tatsuya Yanagida ,  Yoshifumi Ueno ,  Akira Sumitani ,  Akira Endo ,  Tsukasa Hori

    IPC分类号： H01J7/00

    CPC分类号： G21K5/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

    摘要： An EUV (Extreme Ultra Violet) light source device ionizes a target material in an ionizer, and supplies the ionized target material to a point of generating a plasma. This reduces the generation of debris. The ionizer simultaneously irradiates laser beams of plural wavelengths corresponding to the excited level of tin on a target material to ionize the target material. The ionized target material is extracted from the ionizer with a high voltage applied from an ion beam extractor, and accelerated and supplied to a plasma generation chamber. When driver laser beam is irradiated on the ionized target material, a plasma is generated, thereby emitting EUV radiation.

    摘要翻译： EUV（Extreme Ultra Violet）光源装置将离子发生器中的目标材料离子化，并将电离靶材材料提供到产生等离子体的点。 这减少了碎片的产生。 离子发生器同时将与激发的锡水平相对应的多个波长的激光束照射在目标材料上以电离目标材料。 电离目标材料从离子束提取器施加的高电压从电离器中提取，并被加速并提供给等离子体产生室。 当驱动激光束照射在电离靶材上时，产生等离子体，从而发射EUV辐射。

    EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS
    28.
    发明申请
    EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS 有权
    极光超光源光源装置

    公开(公告)号：US20100213395A1

    公开(公告)日：2010-08-26

    申请号：US12646075

    申请日：2009-12-23

    申请人： Yoshifumi UENO ,  Georg Soumagne ,  Shinji NAGAI ,  Akira ENDO ,  Tatsuya YANAGIDA

    发明人： Yoshifumi UENO ,  Georg Soumagne ,  Shinji NAGAI ,  Akira ENDO ,  Tatsuya YANAGIDA

    IPC分类号： H05G2/00

    CPC分类号： H05G2/003 ,  H05G2/008

    摘要： In an extreme ultraviolet light source apparatus generating an extreme ultraviolet light from a plasma generated by irradiating a target, which is a droplet D of molten Sn, with a laser light, and controlling the flow direction of ion generated at the generation of the extreme ultraviolet light by a magnetic field or an electric field, an ion collection cylinder 20 is arranged for collecting the ion, and ion collision surfaces Sa and Sb of the ion collection cylinder 20 are provided with or coated with Si, which is a metal whose sputtering rate with respect to the ion is less than one atom/ion.

    摘要翻译： 在极紫外光源装置中，通过用激光照射作为熔融Sn的液滴D而产生的等离子体产生极紫外光，并且控制在产生极紫外光时产生的离子的流动方向 通过磁场或电场照射光，离子收集筒20被布置成用于收集离子，离子收集筒20的离子碰撞表面Sa和Sb设置有或涂覆有Si，溅射速率 相对于离子小于一个原子/离子。

    Extreme Ultraviolet Light Source Device
    29.
    发明申请
    Extreme Ultraviolet Light Source Device 有权
    极紫外光源装置

    公开(公告)号：US20100025223A1

    公开(公告)日：2010-02-04

    申请号：US12535014

    申请日：2009-08-04

    申请人： Tatsuya Yanagida ,  Masaki Nakano ,  Akira Endo

    发明人： Tatsuya Yanagida ,  Masaki Nakano ,  Akira Endo

    IPC分类号： B01J19/12

    CPC分类号： H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

    摘要： Offset in the ejection direction of target material droplets is corrected in order to stabilize EUV output in an EUV light source device. An extreme ultraviolet light source device includes a droplet generation device 110 that outputs target material droplets 101 towards a predetermined plasma emission point 103; a charging device 130 that charges the target material droplets 101; a trajectory correction device 140 that generates a force field in the trajectory to correct the travel direction of the charged target material droplets 101a so that the charged target material droplets 101a travel towards the plasma emission point 103; and a laser light source 150 that irradiates, at the plasma emission point 103, a laser beam onto the charged target material to generate plasma thereby.

    摘要翻译： 校正目标材料液滴的排出方向的偏移，以便稳定EUV光源装置中的EUV输出。 极紫外光源装置包括：液滴产生装置110，其将目标材料液滴101朝向预定等离子体发射点103输出; 对目标材料液滴101进行充电的充电装置130; 轨迹校正装置140，其在轨迹中产生力场，以校正充电的目标材料液滴101a的行进方向，使得带电目标材料液滴101a朝向等离子体发射点103行进; 以及激光源150，其在等离子体发射点103处将激光束照射到带电目标材料上以产生等离子体。