公开(公告)号：US07795198B2

公开(公告)日：2010-09-14

申请号：US11840165

申请日：2007-08-16

申请人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

发明人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0041

摘要： In a composition for removing a polymeric contaminant that may remain on an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of removing a polymeric contaminant using the composition, the composition includes from about 5 to 10 percent by weight of a fluoride salt, from about 5 to 15 percent by weight of an acid or a salt thereof, and from about 75 to 90 percent by weight of an aqueous solution of glycol. The composition can effectively remove the polymeric contaminant from the apparatus within a relatively short period of time, and suppress damages to parts of the apparatus.

摘要翻译： 在用于除去可能保留在用于制造半导体器件的装置上的聚合物污染物的组合物和使用该组合物去除聚合物污染物的方法中，该组合物包含约5-10重量％的氟化物盐，约5重量％ 至15重量％的酸或其盐，和约75至90重量％的乙二醇水溶液。 组合物可以在相对短的时间内有效地从设备中除去聚合物污染物，并且抑制对装置的部件的损坏。

公开(公告)号：US09169200B2

公开(公告)日：2015-10-27

申请号：US13992607

申请日：2012-03-16

申请人： Yang-Kyoo Han ,  Jin Cho ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Hoon Shin

发明人： Yang-Kyoo Han ,  Jin Cho ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Hoon Shin

IPC分类号： C08F20/54 ,  C08F20/56 ,  C08F12/08 ,  C07C245/00 ,  B01J27/26 ,  C07C291/08 ,  C08F212/08 ,  C07C201/04 ,  C07C213/02 ,  C07C245/08 ,  C08F220/56 ,  C07C207/02 ,  C07C209/36 ,  C07C209/38 ,  C07C209/40 ,  B01J31/06

CPC分类号： C07C291/08 ,  B01J31/06 ,  B01J2231/641 ,  C07C201/04 ,  C07C207/02 ,  C07C209/36 ,  C07C209/38 ,  C07C209/40 ,  C07C213/02 ,  C07C245/08 ,  C08F20/54 ,  C08F212/08 ,  C08F220/56 ,  Y02P20/582 ,  C08F220/54 ,  C08F212/36 ,  C07C211/46 ,  C07C211/47

摘要： The present invention relates to a polymer supported reagent comprising a novel crosslinked mesoporous polymer, enabling a simple and easy production of an azoxy compound or an azo compound from an aromatic nitro compound, and a method of selectively reducing an aromatic nitro compound by using the same. The polymer supported reagent comprises a certain acrylamide mesoporous crosslinked polymer.

摘要翻译： 本发明涉及包含新颖的交联介孔聚合物的聚合物负载型试剂，能够简单且容易地从芳族硝基化合物制备偶氮化合物或偶氮化合物，以及通过使用其来选择还原芳族硝基化合物的方法 。 聚合物负载的试剂包括某种丙烯酰胺介孔交联聚合物。

公开(公告)号：US20130253083A1

公开(公告)日：2013-09-26

申请号：US13992607

申请日：2012-03-16

申请人： Yang-Kyoo Han ,  Jin Cho ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Hoon Shin

发明人： Yang-Kyoo Han ,  Jin Cho ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Hoon Shin

IPC分类号： C07C291/08 ,  C07C245/08 ,  C07C213/02 ,  C08F220/56 ,  C07C201/04

CPC分类号： C07C291/08 ,  B01J31/06 ,  B01J2231/641 ,  C07C201/04 ,  C07C207/02 ,  C07C209/36 ,  C07C209/38 ,  C07C209/40 ,  C07C213/02 ,  C07C245/08 ,  C08F20/54 ,  C08F212/08 ,  C08F220/56 ,  Y02P20/582 ,  C08F220/54 ,  C08F212/36 ,  C07C211/46 ,  C07C211/47

摘要： The present invention relates to a polymer supported reagent comprising a novel crosslinked mesoporous polymer, enabling a simple and easy production of an azoxy compound or an azo compound from an aromatic nitro compound, and a method of selectively reducing an aromatic nitro compound by using the same. The polymer supported reagent comprises a certain acrylamide mesoporous crosslinked polymer.

摘要翻译： 本发明涉及包含新颖的交联介孔聚合物的聚合物负载型试剂，能够简单且容易地从芳族硝基化合物制备偶氮化合物或偶氮化合物，以及通过使用其来选择还原芳族硝基化合物的方法 。 聚合物负载的试剂包括某种丙烯酰胺介孔交联聚合物。

公开(公告)号：US20080051313A1

公开(公告)日：2008-02-28

申请号：US11840165

申请日：2007-08-16

申请人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

发明人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

IPC分类号： C11D3/20

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0041

摘要： In a composition for removing a polymeric contaminant that may remain on an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of removing a polymeric contaminant using the composition, the composition includes from about 5 to 10 percent by weight of a fluoride salt, from about 5 to 15 percent by weight of an acid or a salt thereof, and from about 75 to 90 percent by weight of an aqueous solution of glycol. The composition can effectively remove the polymeric contaminant from the apparatus within a relatively short period of time, and suppress damages to parts of the apparatus.

摘要翻译： 在用于除去可能保留在用于制造半导体器件的装置上的聚合物污染物的组合物中，以及使用该组合物除去聚合物污染物的方法，该组合物包括约5至10重量％的氟化物盐，约5至10重量％ 至15重量％的酸或其盐，和约75至90重量％的乙二醇水溶液。 组合物可以在相对短的时间内有效地从设备中除去聚合物污染物，并且抑制对装置的部件的损坏。