公开(公告)号：US07795198B2

公开(公告)日：2010-09-14

申请号：US11840165

申请日：2007-08-16

申请人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

发明人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0041

摘要： In a composition for removing a polymeric contaminant that may remain on an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of removing a polymeric contaminant using the composition, the composition includes from about 5 to 10 percent by weight of a fluoride salt, from about 5 to 15 percent by weight of an acid or a salt thereof, and from about 75 to 90 percent by weight of an aqueous solution of glycol. The composition can effectively remove the polymeric contaminant from the apparatus within a relatively short period of time, and suppress damages to parts of the apparatus.

摘要翻译： 在用于除去可能保留在用于制造半导体器件的装置上的聚合物污染物的组合物和使用该组合物去除聚合物污染物的方法中，该组合物包含约5-10重量％的氟化物盐，约5重量％ 至15重量％的酸或其盐，和约75至90重量％的乙二醇水溶液。 组合物可以在相对短的时间内有效地从设备中除去聚合物污染物，并且抑制对装置的部件的损坏。

公开(公告)号：US20080051313A1

公开(公告)日：2008-02-28

申请号：US11840165

申请日：2007-08-16

申请人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

发明人： Sang-Mi Lee ,  Kwang-Shin Lim ,  Jung-Dae Park ,  Tae-Hyo Choi

IPC分类号： C11D3/20

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0041

摘要： In a composition for removing a polymeric contaminant that may remain on an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of removing a polymeric contaminant using the composition, the composition includes from about 5 to 10 percent by weight of a fluoride salt, from about 5 to 15 percent by weight of an acid or a salt thereof, and from about 75 to 90 percent by weight of an aqueous solution of glycol. The composition can effectively remove the polymeric contaminant from the apparatus within a relatively short period of time, and suppress damages to parts of the apparatus.

摘要翻译： 在用于除去可能保留在用于制造半导体器件的装置上的聚合物污染物的组合物中，以及使用该组合物除去聚合物污染物的方法，该组合物包括约5至10重量％的氟化物盐，约5至10重量％ 至15重量％的酸或其盐，和约75至90重量％的乙二醇水溶液。 组合物可以在相对短的时间内有效地从设备中除去聚合物污染物，并且抑制对装置的部件的损坏。

公开(公告)号：US07311857B2

公开(公告)日：2007-12-25

申请号：US10962508

申请日：2004-10-13

申请人： Yong-Kyun Ko ,  Sang-Mun Chon ,  In-Hoi Doh ,  Pil-Kwon Jun ,  Sang-Mi Lee ,  Kwang-shin Lim ,  Myoung-Ok Han

发明人： Yong-Kyun Ko ,  Sang-Mun Chon ,  In-Hoi Doh ,  Pil-Kwon Jun ,  Sang-Mi Lee ,  Kwang-shin Lim ,  Myoung-Ok Han

IPC分类号： C09K13/04

CPC分类号： C09K13/08 ,  C11D1/008 ,  C11D1/72 ,  C11D3/042 ,  C11D3/046 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/31111

摘要： An exemplary etching composition includes about 0.1 to 8% by weight of hydrogen fluoride, about 10 to 25% by weight of ammonium fluoride, about 0.0001 to 3% by weight of a non-ionic polymer surfactant, and water. Using the composition in a wet etching process, an oxide layer may be selectively removed while a pattern or storage electrode including polysilicon may be effectively passivated. The oxide layer may be removed with a high etching selectivity, while at the same time minimizing damage to the polysilicon layer.

摘要翻译： 示例性的蚀刻组合物包括约0.1至8重量％的氟化氢，约10至25重量％的氟化铵，约0.0001至3重量％的非离子聚合物表面活性剂和水。 在湿蚀刻工艺中使用组合物，可以选择性地除去氧化物层，同时可以有效地钝化包括多晶硅的图案或存储电极。 可以以高蚀刻选择性去除氧化物层，同时最小化对多晶硅层的损伤。

公开(公告)号：US20050081883A1

公开(公告)日：2005-04-21

申请号：US10962508

申请日：2004-10-13

申请人： Yong-Kyun Ko ,  Sang-Mun Chon ,  In-Hoi Doh ,  Pil-Kwon Jun ,  Sang-Mi Lee ,  Kwang-shin Lim ,  Myoung-Ok Han

发明人： Yong-Kyun Ko ,  Sang-Mun Chon ,  In-Hoi Doh ,  Pil-Kwon Jun ,  Sang-Mi Lee ,  Kwang-shin Lim ,  Myoung-Ok Han

IPC分类号： C08K13/08 ,  B08B3/08 ,  C09K13/08 ,  C11D1/00 ,  C11D1/72 ,  C11D3/02 ,  C11D11/00 ,  C23F1/16 ,  C23F1/24 ,  H01L21/308 ,  H01L21/311 ,  H01L21/8242 ,  H01L27/108

CPC分类号： C09K13/08 ,  C11D1/008 ,  C11D1/72 ,  C11D3/042 ,  C11D3/046 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/31111

摘要： An exemplary etching composition includes about 0.1 to 8% by weight of hydrogen fluoride, about 10 to 25% by weight of ammonium fluoride, about 0.0001 to 3% by weight of a non-ionic polymer surfactant, and water. Using the composition in a wet etching process, an oxide layer may be selectively removed while a pattern or storage electrode including polysilicon may be effectively passivated. The oxide layer may be removed with a high etching selectivity, while at the same time minimizing damage to the polysilicon layer.

摘要翻译： 示例性的蚀刻组合物包括约0.1至8重量％的氟化氢，约10至25重量％的氟化铵，约0.0001至3重量％的非离子聚合物表面活性剂和水。 在湿蚀刻工艺中使用组合物，可以选择性地除去氧化物层，同时可以有效地钝化包括多晶硅的图案或存储电极。 可以以高蚀刻选择性去除氧化物层，同时最小化对多晶硅层的损伤。

公开(公告)号：US20080297905A1

公开(公告)日：2008-12-04

申请号：US12153316

申请日：2008-05-16

申请人： Cha-Won Hwang ,  Ji-Suk Kim ,  Sang-Mi Lee

发明人： Cha-Won Hwang ,  Ji-Suk Kim ,  Sang-Mi Lee

IPC分类号： G02B5/28

CPC分类号： G02B1/111

摘要： An optical filter includes a base film and at least two conductive layers stacked on the base film, a first conductive layer of the two conductive layers having a first thickness and a first refractive index, and a second conductive layer of the two conductive layers having a second thickness and a second refractive index, the first and second refractive indices and the first and second thicknesses being configured to generate a destructive interference of external light reflected from the first and second conductive layers.

摘要翻译： 滤光器包括基膜和层叠在基膜上的至少两个导电层，两个导电层的第一导电层具有第一厚度和第一折射率，并且两个导电层的第二导电层具有 第二厚度和第二折射率，第一和第二折射率以及第一和第二厚度被配置为产生从第一和第二导电层反射的外部光的相消干涉。

公开(公告)号：US20110032344A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：US12815123

申请日：2010-06-14

申请人： Yeon-Joo Choi ,  Cha-Won Hwang ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Goo Baek

发明人： Yeon-Joo Choi ,  Cha-Won Hwang ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Goo Baek

IPC分类号： H04N13/04

CPC分类号： G02B27/2214 ,  H04N13/305 ,  H04N13/359

摘要： A display apparatus for switching between 2-dimensional (2D) and 3-dimensional (3D) image displaying modes is disclosed. In one embodiment, the display apparatus includes: i) a display unit configured to emit light, ii) a first optical sheet configured to input the emitted light and output a first refracted light and iii) a second optical sheet configured to input the first refracted light and selectively output one of a second refracted light and a third refracted light, wherein the first optical sheet is located between the display unit and second optical sheet. The display apparatus further includes an actuator configured to move at least one of the first optical sheet and the second optical sheet between a contacting state and a separating state, wherein the first and second optical sheets contact each other at the contacting state so that the second optical sheet outputs the second refracted light, and wherein the first and second optical sheets are spaced apart from each other at the separating state so that the second optical sheet outputs the third refracted light.

摘要翻译： 公开了一种用于在二维（2D）和三维（3D）图像显示模式之间切换的显示装置。 在一个实施例中，显示装置包括：i）被配置为发光的显示单元，ii）被配置为输出发射的光并输出第一折射光的第一光学片，以及iii）配置成输入第一折射的第二光学片 并且选择性地输出第二折射光和第三折射光中的一个，其中第一光学片位于显示单元和第二光学片之间。 所述显示装置还包括致动器，被配置为使所述第一光学片和所述第二光学片中的至少一个在接触状态和分离状态之间移动，其中所述第一和第二光学片在接触状态下彼此接触， 光学片输出第二折射光，并且其中第一和第二光学片在分离状态彼此间隔开，使得第二光学片输出第三折射光。

公开(公告)号：US07151058B2

公开(公告)日：2006-12-19

申请号：US10879203

申请日：2004-06-30

申请人： Sang-Mi Lee

发明人： Sang-Mi Lee

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/461

CPC分类号： H01L21/31111 ,  C09K13/08

摘要： In a method for removing a nitride layer of a semiconductor device, an etchant including about 15 to about 40 percent by volume of hydrofluoric acid, about 15 to about 60 percent by volume of phosphorous acid, and about 25 to about 45 percent by volume of deionized water is prepared. The etchant is provided onto a nitride layer that is formed on a bevel, a front side or a backside of a substrate to remove the nitride layer. The substrate is rinsed using deionized water, and then the substrate is dried. The etchant rapidly removes the nitride layer at a relatively low temperature to avoid damage to the substrate.

摘要翻译： 在用于去除半导体器件的氮化物层的方法中，包括约15至约40体积％的氢氟酸，约15至约60体积％的亚磷酸的蚀刻剂和约25至约45体积％的 加入去离子水。 将蚀刻剂提供到形成在衬底的斜面，前侧或背面上以去除氮化物层的氮化物层上。 用去离子水冲洗底物，然后将底物干燥。 蚀刻剂在相对较低的温度下快速去除氮化物层，以避免损坏衬底。

公开(公告)号：US08390929B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US12591991

申请日：2009-12-07

申请人： Cha-Won Hwang ,  Sang-Mi Lee

发明人： Cha-Won Hwang ,  Sang-Mi Lee

IPC分类号： G02B1/10

CPC分类号： G02B1/11 ,  G02B5/208 ,  G02B5/285

摘要： A display panel easily implements reflection color of a display. The display panel includes a panel which has a plate shape to implement an image, and an optical filter which is attached to the panel. The optical filter includes a color compensating layer which implements transmittance color by controlling transmittance light passing from an interior to an exterior of the panel, and a reflection layer which implements reflection color by controlling reflection light which is incident from the exterior to the panel, and which is reflected.

摘要翻译： 显示面板容易实现显示器的反射颜色。 显示面板包括具有实现图像的板形状的面板和附接到面板的滤光器。 滤光器包括通过控制从面板的内部通过的透射光来实现透射色的色彩补偿层和通过控制从外部入射到面板的反射光来实现反射颜色的反射层，以及 这反映出来。

公开(公告)号：US20100002304A1

公开(公告)日：2010-01-07

申请号：US12495559

申请日：2009-06-30

申请人： Cha-Won Hwang ,  Do-Hyuk Kwon ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Goo Baek

发明人： Cha-Won Hwang ,  Do-Hyuk Kwon ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Goo Baek

IPC分类号： G02B5/28 ,  G02B1/10

CPC分类号： G02B5/136 ,  G02B17/006 ,  H01J11/12 ,  H01J11/44 ,  H01J2211/444

摘要： An optical filter and a plasma display device including the same are provided. The optical filter includes a support layer, and a plurality of stripe-shaped structures arranged at predetermined intervals on one surface of the support layer and formed using a material having a different refractive index than a refractive index of the support layer. In the optical filter, incident light is reflected at an interface between the support layer and the structure due to a difference of the respective refractive indices. Since the direction of entry of external light is the same as the reflected exit direction of the external light, visibility degradation caused by interference from the external light is minimized or reduced. Since the structure is formed using a material having a high transmittance, luminance loss of light generated by the display is also minimized.

摘要翻译： 提供了一种滤光器和包括该滤光器的等离子体显示装置。 光学滤波器包括支撑层，以及在支撑层的一个表面上以预定间隔布置并且使用具有与支撑层的折射率不同的折射率的材料形成的多个条形结构。 在滤光器中，由于各折射率的差异，入射光在支撑层和结构之间的界面处被反射。 由于外部光的入射方向与外部光的反射出射方向相同，所以能够将来自外部光的干扰引起的可视性劣化降低或减少。 由于使用具有高透射率的材料形成结构，所以由显示器产生的光的亮度损失也被最小化。

公开(公告)号：US20090295297A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12474152

申请日：2009-05-28

申请人： Cha-Won Hwang ,  Do-Hyuk Kwon ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Goo Baek

发明人： Cha-Won Hwang ,  Do-Hyuk Kwon ,  Sang-Mi Lee ,  Seung-Goo Baek

IPC分类号： G09G3/10 ,  G02F1/03

CPC分类号： G02B5/208

摘要： An optical filter and a plasma display device having the same is provided. The optical filter includes a support layer. A photochromic pattern has pattern elements spaced apart on a surface of the support layer and has a light transmission characteristic wherein light transmission is changeable according to the intensity of external light.

摘要翻译： 提供了具有该滤光器和等离子体显示装置的滤光器。 光学滤波器包括支撑层。 光致变色图案具有在支撑层的表面上间隔开的图案元素，并且具有光透射特性，其中光透射可根据外部光的强度而变化。