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    Sputtering target for forming thin phosphor film
    22.
    发明授权
    Sputtering target for forming thin phosphor film 有权
    用于形成薄荧光膜的溅射靶

    公开(公告)号：US07540976B2

    公开(公告)日：2009-06-02

    申请号：US10548476

    申请日：2004-03-05

    申请人： Yoshihiko Yano ,  Tomoyuki Oike ,  Naruki Kataoka ,  Masaki Takahashi ,  Yukio Kawaguchi

    发明人： Yoshihiko Yano ,  Tomoyuki Oike ,  Naruki Kataoka ,  Masaki Takahashi ,  Yukio Kawaguchi

    IPC分类号： C09K11/02 ,  C09K11/77 ,  C09K11/56 ,  C09K11/54 ,  C09K11/72 ,  C23C14/00 ,  C25B11/00 ,  C25B13/00 ,  B32B9/00 ,  B32B19/00 ,  C04B14/00 ,  C09C1/04

    摘要： A sputtering target for fluorescent thin-film formation comprising a matrix material and a luminescent center material,wherein said matrix material has a chemical composition represented by the following formula (1), and simultaneously satisfies conditions represented by the following inequalities (2) to (5). MIIvAxByOzSw   (1) 0.05≦v/x≦5   (2) 1≦y/x≦6   (3) 0.01≦z/(z+w)≦0.85   (4) 0.6≦(v+x+3y/2)/(z+w)≦1.5   (5) wherein MII represents one or more elements selected from the group consisting of Zn, Cd and Hg, A represents one or more elements selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, Ba and rare earth elements, B represents one or more elements selected from the group consisting of Al, Ga and In, and v, x, y, z and w each represent numerical values satisfying the conditions specified in the inequalities (2) to (5).

    摘要翻译： 1.一种荧光薄膜形成用溅射靶，其特征在于，具有基体材料和发光中心材料，其中，所述基体材料具有下述式（1）所示的化学成分，同时满足下述不等式（2）〜（ 5）。 <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> MIIvAxByOzSw（1）<？in-line-formula description =“In-line formula”end =“tail”？> in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> 0.05 <= v / x <= 5（2）<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end = 尾部“？> <？in-line-formula description =”In-line Formulas“end =”lead“？> 1 <= y / x <= 6（3）<？in-line-formula description = 行公式“end =”tail“？> <？in-line-formula description =”In-line Formulas“end =”lead“？> 0.01 <= z /（z + w）<= 0.85（4） in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“tail”？> <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> 0.6 <=（v + x + 3y / 2）/（z + w）<= 1.5（5）<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“tail”？>其中MII表示选自以下的一个或多个元素： 的Zn，Cd和Hg，A表示选自Mg，Ca，Sr，Ba和稀土元素中的一种或多种元素，B表示选自以下的一种或多种元素： 的Al，Ga和In，v，x，y，z和w分别表示满足不等式（2）〜（5）中规定的条件的数值。

    Thermistor materials and elements
    24.
    发明授权
    Thermistor materials and elements 失效
    热敏电阻材料和元件

    公开(公告)号：US4952902A

    公开(公告)日：1990-08-28

    申请号：US421771

    申请日：1989-10-16

    申请人： Yukio Kawaguchi ,  Tohru Kineri

    发明人： Yukio Kawaguchi ,  Tohru Kineri

    IPC分类号： H01C7/04

    CPC分类号： H01C7/042

    摘要： A thermistor material comprising, in sintered form, (A) a matrix comprising aluminum oxide, silicon oxide, or the oxide of an element belonging to Group 2A in the Periodic Table, and (B) a conductive path forming substance comprising silicon carbide and/or boron carbide, wherein the volume ratio of silicon carbide to the matrix is up to about 1.24 is stable at elevated temperatures of 400.degree.-800.degree. C.

    摘要翻译： 一种热敏电阻材料，其以烧结形式包含（A）包含氧化铝，氧化硅或属于元素周期表2A族的元素的氧化物的基体，和（B）导电路径形成物质，其包含碳化硅和/ 或碳化硼，其中碳化硅与基体的体积比高达约1.24，在400-800℃的升高的温度下是稳定的。

    Magnetic head slider material
    26.
    发明授权
    Magnetic head slider material 失效
    磁头滑块材质

    公开(公告)号：US4650774A

    公开(公告)日：1987-03-17

    申请号：US813560

    申请日：1985-12-26

    申请人： Yukio Kawaguchi ,  Masayasu Yamaguchi

    发明人： Yukio Kawaguchi ,  Masayasu Yamaguchi

    IPC分类号： G11B5/127 ,  C04B35/10 ,  C04B35/111 ,  G11B5/10 ,  G11B5/255 ,  C04B35/56

    CPC分类号： C04B35/111 ,  G11B5/10

    摘要： A sintered body comprising on a weight basis, 100 parts of a mixture of 5-40% of titanium carbide and 95-60% alumina, and 0.01 to 5 parts of at least one oxide selected from the group consisting of gallium, barium, calcium, cerium, niobium, and strontium oxides is an improved material for magnetic head sliders. It is prepared by adding the oxide or carbonate of the specific metal to an alumina-titanium carbide mixture and hot press sintering the combined mixture.

    摘要翻译： 一种烧结体，其以重量计，100份5-40％的碳化钛和95-60％氧化铝的混合物，以及0.01至5份选自镓，钡，钙的氧化物 ，铈，铌和氧化锶是用于磁头滑块的改进材料。 通过将特定金属的氧化物或碳酸盐添加到氧化铝 - 碳化钛混合物中并通过热压烧结混合的混合物来制备。

    Alloy target, its fabrication, and regeneration processes
    29.
    发明授权
    Alloy target, its fabrication, and regeneration processes 失效
    合金目标，其制造和再生过程

    公开(公告)号：US6071323A

    公开(公告)日：2000-06-06

    申请号：US33173

    申请日：1998-03-02

    申请人： Yukio Kawaguchi

    发明人： Yukio Kawaguchi

    IPC分类号： C23C14/14 ,  C22B59/00 ,  C22C1/04 ,  C22C33/02 ,  C22C38/00 ,  C23C14/34 ,  G11B11/10 ,  G11B11/105

    CPC分类号： G11B11/10582 ,  C22B59/00 ,  C22C1/0441 ,  C22C33/0285 ,  C22C38/005 ,  C23C14/3414 ,  G11B11/10586

    摘要： An alloy target comprises at least one rare earth metal element Tb, Dy, Gd, Sm, Nd, Ho, Tm, and Er with a substantial balance of a transition metal element such as Fe, Co and Ni, and has a substantially homogeneous sintered structure and a permeability of 3 or lower. The alloy target is fabricated by a process comprising steps of melting in a high-frequency furnace or crucible furnace, quenching, pulverization, and firing under pressure. After the alloy target has been used up, it is regenerated by mixing alloy powders (to be regenerated) obtained by the mechanical pulverization of the used-up target with the alloy powders obtained at the pulverization step of the aforesaid process to obtain a mixture, and firing the mixture under pressure.

    摘要翻译： 合金靶包含至少一种稀土金属元素Tb，Dy，Gd，Sm，Nd，Ho，Tm和Er，其中余量为Fe，Co和Ni等过渡金属元素，并且具有基本均匀的烧结 结构和渗透率在3以下。 通过包括以下步骤制造合金靶的步骤：在高频炉或坩埚炉中熔化，在压力下淬火，粉碎和烧制。 在合金靶已经用完之后，通过将通过用尽对象的机械粉碎获得的合金粉末（待再生）与在上述方法的粉碎步骤中获得的合金粉末混合而获得混合物来再生， 并在压力下烧制该混合物。