公开(公告)号：US07288362B2

公开(公告)日：2007-10-30

申请号：US11063940

申请日：2005-02-23

申请人： Robert David Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Dario Gil ,  William Dinan Hinsberg ,  Carl Eric Larson ,  Linda Karin Sundberg ,  Gregory Michael Wallraff

发明人： Robert David Allen ,  Phillip Joe Brock ,  Dario Gil ,  William Dinan Hinsberg ,  Carl Eric Larson ,  Linda Karin Sundberg ,  Gregory Michael Wallraff

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03C1/825 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A topcoat material for applying on top of a photoresist material is disclosed. The topcoat material comprises at least one solvent and a polymer which has a dissolution rate of at least 3000 Å/second in aqueous alkaline developer. The polymer contains a hexafluoroalcohol monomer unit comprising one of the following two structures: wherein n is an integer. The topcoat material may be used in lithography processes, wherein the topcoat material is applied on a photoresist layer. The topcoat material is preferably insoluble in water, and is therefore particularly useful in immersion lithography techniques using water as the imaging medium.

摘要翻译： 公开了一种用于施加在光致抗蚀剂材料上的面漆材料。 面漆材料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000 /秒的溶解速率的聚合物。 聚合物含有包含以下两种结构之一的六氟醇单体单元：其中n是整数。 面漆材料可以用于光刻工艺中，其中将顶涂层材料施加在光致抗蚀剂层上。 面漆材料优选不溶于水，因此特别适用于使用水作为成像介质的浸渍光刻技术。

公开(公告)号：US08945808B2

公开(公告)日：2015-02-03

申请号：US11380731

申请日：2006-04-28

申请人： Robert Allen David ,  Phillip Joe Brock ,  Carl E Larson ,  Daniel Paul Sanders ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Linda Karin Sundberg ,  Hoa D Truong ,  Gregory Michael Wallraff

发明人： Robert Allen David ,  Phillip Joe Brock ,  Carl E Larson ,  Daniel Paul Sanders ,  Ratnam Sooriyakumaran ,  Linda Karin Sundberg ,  Hoa D Truong ,  Gregory Michael Wallraff

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757

摘要： Resist compositions that can be used in immersion lithography without the use of an additional topcoat are disclosed. The resist compositions comprise a photoresist polymer, at least one photoacid generator, a solvent; and a self-topcoating resist additive. A method of forming a patterned material layer on a substrate using the resist composition is also disclosed.

摘要翻译： 公开了可用于浸没式光刻中而不使用另外的顶涂层的抗蚀剂组合物。 抗蚀剂组合物包含光致抗蚀剂聚合物，至少一种光致酸产生剂，溶剂; 和自 - 面漆抗蚀剂添加剂。 还公开了使用抗蚀剂组合物在衬底上形成图案化材料层的方法。

公开(公告)号：US08821978B2

公开(公告)日：2014-09-02

申请号：US12641959

申请日：2009-12-18

申请人： Joy Cheng ,  William D. Hinsberg ,  Ho-Cheol Kim ,  Young-Hye Na ,  Daniel Paul Sanders ,  Linda Karin Sundberg ,  Hoa D. Truong ,  Gregory Michael Wallraff ,  Atsuko Ito

发明人： Joy Cheng ,  William D. Hinsberg ,  Hiroshi Ito ,  Ho-Cheol Kim ,  Young-Hye Na ,  Daniel Paul Sanders ,  Linda Karin Sundberg ,  Hoa D. Truong ,  Gregory Michael Wallraff

IPC分类号： B32B3/10 ,  G03F7/16 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/30

CPC分类号： B82Y40/00 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/165 ,  G03F7/325 ,  G03F7/327 ,  G03F7/40

摘要： A method of forming a layered structure comprising a domain pattern of a self-assembled material utilizes a negative-tone patterned photoresist layer comprising non-crosslinked developed photoresist. The developed photoresist is not soluble in an organic casting solvent for a material capable of self-assembly. The developed photoresist is soluble in an aqueous alkaline developer and/or a second organic solvent. A solution comprising the material capable of self-assembly and the organic casting solvent is casted on the patterned photoresist layer. Upon removal of the organic casting solvent, the material self-assembles, thereby forming the layered structure.

摘要翻译： 形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法利用包含非交联显影光致抗蚀剂的负色调图案化光致抗蚀剂层。 显影的光致抗蚀剂不溶于用于能够自组装的材料的有机浇铸溶剂中。 显影的光致抗蚀剂可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。 将包含能够自组装的材料和有机浇铸溶剂的溶液浇铸在图案化的光致抗蚀剂层上。 在去除有机浇注溶剂时，材料自组装，从而形成层状结构。

公开(公告)号：US08703386B2

公开(公告)日：2014-04-22

申请号：US13405587

申请日：2012-02-27

申请人： John David Bass ,  Ho-Cheol Kim ,  Robert Dennis Miller ,  Qing Song ,  Linda Karin Sundberg ,  Gregory Michael Wallraff

发明人： John David Bass ,  Ho-Cheol Kim ,  Robert Dennis Miller ,  Qing Song ,  Linda Karin Sundberg ,  Gregory Michael Wallraff

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  C07C49/92 ,  C07C7/00

CPC分类号： G03F7/0042

摘要： Compositions are disclosed having the formula (3): [C′]k[Ta(O2)x(L′)y]  (3), wherein x is an integer of 1 to 4, y is an integer of 1 to 4, Ta(O2)x(L′)y has a charge of 0 to −3, C′ is a counterion having a charge of +1 to +3, k is an integer of 0 to 3, L′ is an oxidatively stable organic ligand having a charge of 0 to −4, and L′ comprises an electron donating functional group selected from the group consisting of carboxylates, alkoxides, amines, amine oxides, phosphines, phosphine oxides, arsine oxides, and combinations thereof. The compositions have utility as high resolution photoresists.

摘要翻译： 公开了具有式（3）的组合物：[C'] k [Ta（O 2）x（L'）y]（3）其中x是1至4的整数，y是1至4的整数， Ta（O 2）x（L'）y具有0至-3的电荷，C'是具有+1至+3的电荷的抗衡离子，k是0至3的整数，L'是氧化稳定的有机物 配体的电荷为0至-4，L'包括选自羧酸盐，醇盐，胺，氧化胺，膦，氧化膦，胂氧化物及其组合的给电子官能团。 该组合物具有作为高分辨率光致抗蚀剂的作用。

公开(公告)号：US08053537B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US12336922

申请日：2008-12-17

申请人： Hiroshi Ito ,  Linda Karin Sundberg

发明人： Hiroshi Ito ,  Linda Karin Sundberg

IPC分类号： C07C69/52

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11

摘要： A method of forming an image on a photoresist. The method includes: forming a photoresist over a substrate; applying a topcoat composition, the topcoat composition comprising at least one fluorine-containing polymer and a casting solvent, onto the photoresist; removing the casting solvent of the topcoat composition resulting in the formation of a topcoat material over the photoresist; exposing the photoresist to radiation, the radiation changing a chemical composition of the regions of the photoresist exposed to the radiation, forming exposed and unexposed regions in the photoresist; and removing i) the topcoat material and ii) the exposed regions of the photoresist or the unexposed regions of the photoresist.

摘要翻译： 在光致抗蚀剂上形成图像的方法。 该方法包括：在衬底上形成光致抗蚀剂; 将面漆组合物，包含至少一种含氟聚合物和浇铸溶剂的面漆组合物涂覆到光致抗蚀剂上; 除去顶涂层组合物的浇铸溶剂，导致在光致抗蚀剂上形成顶涂层材料; 将光致抗蚀剂暴露于辐射，辐射改变暴露于辐射的光刻胶的区域的化学组成，在光致抗蚀剂中形成暴露和未曝光的区域; 并去除i）面漆材料和ii）光致抗蚀剂的曝光区域或光致抗蚀剂的未曝光区域。

公开(公告)号：US07728089B2

公开(公告)日：2010-06-01

申请号：US12035462

申请日：2008-02-22

申请人： Hiroshi Ito ,  Linda Karin Sundberg

发明人： Hiroshi Ito ,  Linda Karin Sundberg

IPC分类号： C08F18/10 ,  C08F16/24 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： A first aspect of the present invention is a topcoat composition, comprising: a copolymer represented by the formula (2): wherein n and m represent respective molar fractions such that n+m=1.

摘要翻译： 本发明的第一方面是面漆组合物，其包含：由式（2）表示的共聚物：其中n和m表示相应的摩尔分数，使得n + m = 1。